【課題】高い開口率と簡単な製造工程を有するカラー液晶装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板１９上に、酸化珪素膜２０を介してａ−Ｓｉからなる複数の線状遮光体２１が形成されている。そして、インクジェット法を用いて複数の線状遮光体２１間の各開口部２２内にＲ、Ｇ、Ｂの３色のインクが注入されることによって、色素材２３ａ，２３ｂ，２３ｃが形成されている。さらに、複数の線状遮光体２１および色素材２３ａ，２３ｂ，２３ｃを覆う透明保護膜１７が形成された後、ＭＩＭ素子１８が線状遮光体２１に対してアライメントされて透明保護膜１７上に形成されている。 （もっと読む）

【課題】背景に重ね合わされた情報をディスプレイするための透明デバイスを提供する。
【解決手段】デバイスは、複数のLED光源2を備え、透明な下層1の上に堆積されて制御電子機器に接続された一連の導電性経路10，20によって個々に又はグループでアドレス可能である。LED光源は、半導体ウェーハを分割してパッケージなしで得られた要素であるダイスの形で一体化されていて、導電性経路の少なくとも一つは、遮られたストレッチ部を持っていて、ワイヤ・ボンディング作業により経路に接合された金属ワイヤのストレッチ部21で置換される。 （もっと読む）

【課題】 製造効率を高めるとともに、表示不良も生じ難い電気光学装置を提供する。
【解決手段】 本発明の電気光学装置は、ＴＦＴ３０が形成された素子基板１０と、該素子基板１０に対向配置された対向基板２０との間に電気光学層５０が挟持されてなる電気光学装置であって、前記ＴＦＴ３０は、複数の画素構成層１１〜１４が積層された構成を有する一方、前記素子基板１０には、前記電気光学層５０の層厚を規定するスペーサー４４が形成されてなり、該スペーサー４４は前記複数の画素構成層１１〜１４の一部若しくは全部と同一の積層構造を有してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】発光ダイオード(LED)を用いて透明ディスプレイを製造するための方法を提供する。
【解決手段】透明な下層15の上に一連の導電性経路16、20、30を設けるステップと、電子制御手段に導電性経路を接続するステップと、導電性経路によって個々に又はグループでアドレス可能であるLED光源のアレイを下層15に連関させるステップと、を備えるタイプの透明なLEDデバイスの製造方法であって、LED光源は、チップ・オン・ボードのタイプの技術によって、半導体ウェーハを分割してパッケージなしで得られた要素であるチップの形で一体化され、方法は、ダイ・ボンディングのためのフリップチップ技術(つまり下層へのチップ10の電気的な接続)の使用を意図している。 （もっと読む）

【課題】 テスト信号入力端子を保護するためだけの材料と工程をなくし、コスト削減とともに生産効率を向上させた液晶表示素子を提供することである。
【解決手段】 液晶表示素子１０は、テスト信号を入力するためのテスト信号入力端子１８及び正規の信号を入力するための正規信号入力端子１９を有するＬＣＤパネル１１と、正規信号入力端子１９に接続されたフレキシブルプリント配線板１２とを備え、テスト信号入力端子１８がフレキシブルプリント配線板１２で覆われ、テスト信号入力端子１８とフレキシブルプリント配線板１９とが異方性導電膜２０で接着される構成とする。 （もっと読む）

【課題】 レジストマスクを形成する際に用いる露光装置の解像度によりも微細なパターニングを行うことができ、かつ、パターニングにより得た薄膜パターンがレジストによって汚染されることのない非線形素子の製造方法、および電気光学装置を提供すること。
【解決手段】 ＴＦＤ１０を製造するにあたって、タンタル膜１３の上層側にクロム膜からなるマスク形成用金属膜１８を形成した後、マスク形成用金属膜１８の上層にレジストマスク１９を形成し、この状態でマスク形成用金属膜１８に対してウエットエッチングを行い、エッチングの際のサイドエッチングにより、レジストマスク１９より小サイズのパターニングマスク１８ａを形成する。しかる後に、この状態でタンタル膜１３にドライエッチングを行い、下部電極１３ｂを形成する。 （もっと読む）

【課題】導電性フォトレジストをアッシング処理という比較的簡単な方法で処理しパッド電極などを形成することによって、従来フォトリソグラフィ工程に比べて抜群の費用節減及び工程簡素化の効果を実現する。
【解決手段】本発明によると、パッド電極として導電性フォトレジストを用い、このような導電性フォトレジストをアッシング処理という比較的簡単な方法で処理しコンタクトホールにパッド電極を形成することによって、従来フォトリソグラフィ工程に比べて抜群の費用節減及び工程の簡素化が実現可能になる。 （もっと読む）

【課題】 ロールツーロール方式により有機ＥＬ素子を作製する際、有機ＥＬ素子の膜面への傷つき防止し、煩雑な巻き取り管理を必要としない有機ＥＬ素子の製造方法の提供。
【解決手段】 帯状可撓性支持体の上に、少なくとも第１電極と、正孔輸送層と、発光層と、電子注入層と、第２電極と、封止層又は封止フィルムとの形成体をこの順番で有する有機ＥＬ素子を、少なくとも、前記帯状可撓性支持体の供給工程と、第１電極形成工程と、正孔輸送層形成工程と、発光層形成工程と、電子注入層形成工程と、第２電極形成工程と、封止層形成工程又は封止フィルム貼着工程と、回収工程とを有する製造装置を用いて製造する有機ＥＬ素子の製造方法において、前記第１電極形成工程から前記回収工程の何れかの工程で、前記形成体を有する帯状可撓性支持体を巻き取る際、巻き取り補助部材を付与し巻き取ることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板変形が発生した場合にも基板上の正確な位置にレーザービームを照射して基板上の希望する位置に転写層パターンを形成することができる平板表示装置及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】平板表示装置及びその製造方法を提供する。平板表示装置は，画素領域Ｐとアラインマーク領域ＡＭを有する基板１００を具備する。アラインマーク領域ＡＭは，画素領域Ｐの相互に対応する両側部に画素領域Ｐに沿って位置する。画素領域Ｐ上に単位画素アレイが列Ｐｃと行を有するように配列される。アラインマーク領域ＡＭ上に少なくとも一つのアラインマーク対１３３が相互に対応して位置する。アラインマーク対１３３は単位画素アレイの列Ｐｃに対応して位置する。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタを対向基板に設けた液晶表示パネルでは素子基板と対向基板との位置合精度が低い場合には開口率が低下してしまうという問題があった。
【解決手段】基板上の画素部に設けられた薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタ上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された赤色のカラーフィルタ、緑色のカラーフィルタ及び青色のカラーフィルタと、前記赤色のカラーフィルタ、前記緑色のカラーフィルタ及び前記青色のカラーフィルタ上に形成され、前記薄膜トランジスタと電気的に接続されたＥＬ素子と、を有し、前記ＥＬ素子は前記基板側に発光し、前記ＥＬ素子から発した光は前記基板を透過し、前記薄膜トランジスタのゲート電極の上方には、カラーフィルタが形成されており、前記薄膜トランジスタのゲート電極の上方に形成されたカラーフィルタは前記赤色のカラーフィルタである。 （もっと読む）

【課題】配線膜厚が安定し、下地金属層の剥離を防止した配線付基板を提供する。
【解決手段】可視光を透過させる透光部２と、電気信号を通じる配線部４とを有する配線付基板１０であって、この基板１０は、透明基板１と、この透明基板１に積層された透明合成樹脂組成物膜３とを有し、配線部４は、透明合成樹脂組成物膜３に設けられ透明基板１との接合部まで達する配線用開口部９と、この開口部９に嵌合する配線６、７とを有し、透光部２は、透明基板１と透明合成樹脂組成物膜３との積層部によって形成され、配線用開口部９の配線方向に直交する断面形状は、開口上部幅をＷｔ、開口下部幅をＷｂ、開口上部と開口下部との間の開口最小幅をＷｍとしたとき、Ｗｍ＜ＷｂかつＷｍ≦Ｗｔの関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】
本発明では、有機ＥＬ素子において、有機発光材料の濃度が低い有機発光インキを用いて絶縁性隔壁内被印刷部位に有機発光層を形成する際に、有機発光インキの混色がなく、さらに被印刷部位内においてインキハジキの無い有機発光層形成方法を提供し、信頼性の高い有機ＥＬ素子を低コストで提供することを課題とする
【解決手段】
撥水性成分を有する絶縁性隔壁によって仕切られた被印刷部位に対し、有機発光インキを用いて凸版印刷法により有機発光層を形成すること、絶縁性隔壁に撥インキ性を持たせること及び絶縁性隔壁と有機発光インキの接触角を２５゜以上９０゜以下とすることにより、上記課題を解決できた。 （もっと読む）

【課題】ユーザをして大画面感を与えうるプラズマディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】 ユーザをして大画面感を与えうる画像を具現するために、画像が具現される表示領域１１３を含むＰＤＰ１１０と、前記ＰＤＰ１１０の前記表示領域１１３を取り囲むように前記ＰＤＰの非表示領域に配される補助ディスプレイ部材１９０と、を備えるプラズマディスプレイ装置である。 （もっと読む）

【課題】 複数の画素回路が形成された基板と外部の回路との接続においてアライメントを容易とすることが可能な発光装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】 基板と基板上に形成された表示部Ａとを有する電気光学パネルＡＡには、基板の端部から眺めると、複数の端子Ｃ２が形成される端子領域Ｂ４１〜Ｂ４４と、複数の端子Ｃ１が形成される端子領域Ｂ３１〜Ｂ３４と、端子領域Ｂ３１〜Ｂ３４及び端子領域Ｂ４１〜Ｂ４４と複数の画素回路４００が配列された表示部Ａとの間に設けられた共通電源線ＬＲ，ＬＧ及びＬＢ並びに共通陰極電源線ＬＮとが順に形成されている。これらの電源線は、回路電源線により端子Ｃ１に、個別電源線により複数の画素回路４００に接続されている。また、複数の端子Ｃ２と複数の画素回路４００は複数のデータ線１０３により接続されている。 （もっと読む）

【課題】 大きなオン電流と小さなオフ電流を有する、良好な特性の薄膜トランジスタ装置をフォトリソの回数を減らし、安価に提供する。さらに、この薄膜トランジスタ装置を使用した薄膜トランジスタアレイ及び画像の安定し軽量で薄い薄膜トランジスタディスプレイを提供する
【解決手段】 ゲート電極およびキャパシタ下部電極とを有し、その上に形成されたゲート絶縁膜を介してゲート絶縁膜に接してソース電極及びドレイン電極が配置されており、ソース電極及びドレイン電極の間隙を埋めるように半導体層が配置されており、その上に形成された層間絶縁膜を介して画素電極が配置されてなり、平面配置的に見てソース電極が孤立島パターンであり、ゲート電極がソース電極及びドレイン電極の間にあってソース電極をほぼ囲むＣ字状であり、ドレイン電極がゲート電極をほぼ囲むＣ字状であって、ソース電極の内部にキャパシタ下部電極を有する薄膜トランジスタ装置。 （もっと読む）

【課題】ホール輸送材料が塗布されている基板にパターニング部分のインキを転写させる際、完全にそれを転移させるために、高印圧を付加させる必要がなく、このため、微細な表示パターンを形成させる場合、印刷線幅精度を維持でき、ショートや色ムラなどの発生しない有機電界発光素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも対向する電極とその間に挟持されているホール輸送層と有機発光層を有する有機電界発光素子における有機発光層を印刷法で形成する有機電界発光素子の製造方法において、粘着剤を含むホール輸送層上に有機発光層を積層する工程を含むことを特徴とする有機電界発光素子の製造方法を提供するものである。 （もっと読む）

【課題】生産コストを低減できる薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】第１金属層３２、ゲート絶縁層３４、半導体層３６、オームコンタクト層３８、及び第２金属層４０が基板の上方に順に形成され、第１パターン化プロセスが実行されてソース／ドレイン電極領域５１、５３，走査線領域４５、データ線領域４７、ターミナルコンタクト領域５５及び画素領域４９が画定される。層間絶縁層６０が形成され、第２パターン化プロセスが実行されてソース／ドレインコンタクトホール６６、データ線コンタクトホール６８、及びターミナルコンタクトホール６５が画定される。第３パターン化プロセスが実行されて薄膜トランジスタ１、走査線２、データ線３、ターミナルコンタクト４及び画素電極５が形成される。 （もっと読む）

【課題】 アレイ基板の表示領域外の狭い周辺領域にはリード線や多くの部品が配置されており、点灯検査において、その周辺領域に全ての電極線を導出するのは非常に困難であり、無理に導出すると、製品化されたときに、電極線の腐蝕による断線や電極線間での短絡事故が生じ易い。
【解決手段】 表示領域に複数のゲート電極線と、絶縁層を介して前記ゲート電極線に交差する複数のソース電極線と、前記ゲート電極線と前記ソース電極線とで仕切られる区画の中に能動素子を備えた画素電極が形成されたアレイ基板において、その表示領域外に前記ゲート電極線の各々に第１のスイッチング素子を介して接続された第１の検査配線と、前記ゲート電極線の各々に第２のスイッチング素子を介して接続された第２の検査配線と、第1及び第2の検査配線を接続した第3の検査配線を配設し、第1、第2、及び第3の検査配線の延長線上に検査用パッドが各々に形成される。 （もっと読む）

【課題】 単位面積当たりの電磁波の照射エネルギー量の大幅な低減と照射時間の短縮とを図り、光源の設備の小型化を図った機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターン形成方法、電磁波照射装置、および電子機器を提供する。
【解決手段】 機能性膜パターン形成装置２０は、液滴吐出ヘッド２３とレーザ光照射ヘッド２４を備える。液滴吐出ヘッド２３は、膜パターン４０が基板２１上に形成されるように機能性材料を含む液滴３０を基板２１上に吐出する。レーザ光照射ヘッド２４は、レーザ光５０を照射スポット面積を広くして膜パターン４０に照射し、光熱変換で熱が発生する領域を大きくする。レーザ本体５１から出射されるレーザ光５０は照射スポット面積を広くした照射スポットで膜パターン４０に照射される。光熱変換で発生する熱が膜パターン４０を介して逃げる領域が狭くなり、膜パターン４０で発生した熱を効率良く保持できる。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイパネルにおいて、配線の低抵抗化を図って電圧降下、信号遅延を抑えること。
【解決手段】ディスプレイパネルは、１ドットのサブピクセルＰにつきトランジスタ２１〜２３及びキャパシタ２４が設けられたトランジスタアレイ基板５０を具備する。トランジスタアレイ基板５０には、水平方向の走査線Ｘ及び供給線Ｚ並びに垂直方向の信号線Ｙが敷設されている。トランジスタアレイ基板５０の表面には、共通配線６２や給電配線６１が凸設されている。共通配線６２や給電配線６１間にサブピクセル電極２０ａが配列され、サブピクセル電極２０ａに有機ＥＬ層２０ｂが積層されている。共通配線６２が対向電極２０ｃと導通している。封止基板８０に設けられた厚膜を調整可能な給電厚膜配線８２及び共通厚膜配線８３が、給電配線６１及び共通配線６２と独立に導通されている。 （もっと読む）