【課題】アクティブマトリクス基板における配線と電極端子との接続部において、電極端子に欠陥が生じた場合でも、配線に含まれる金属が腐食することがない構成を提供する。
【解決手段】本発明のアクティブマトリクス基板は、接続部１６を備えたアクティブマトリクス基板であって、上記接続部１６は、第１の金属層１ｂと、上記第１の金属層１ｂの上に、上記第１の金属層１ｂの幅より狭く積層された第２の金属層１ａと、上記第２の金属層１ａの上に、上記第２の金属層１ａを完全に覆い、かつ上記第１の金属層１ｂの幅より狭く積層された保護部２と、上記保護部２の上に、上記保護部２を完全に覆い、かつ上記第１の金属層１ｂに接触するように積層された電極端子３とを備えているので、電極端子３に欠陥部４が生じた場合でも、配線に含まれる金属が腐食することがない。 （もっと読む）

有機電子デバイス用のバックプレーンを提供する。バックプレーンは、上に複数の電極構造を有するＴＦＴ基板を有する。電極構造の周囲には空間が存在し、空間には無機充填剤の層が存在する。無機充填剤の層の厚さは、電極構造の厚さと同じである。
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【課題】液晶装置等の電気光学装置において、積層構造のレイアウトの効率化と共に、画像表示の高品位化を図る。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）上に、複数の画素電極と、薄膜トランジスタ（３０）と、画素電極より下層側に形成され、画素領域で電気光学動作を行うための配線、電極及び電子素子の少なくとも一部を構成すると共に、画素毎に開口領域又は切り欠き領域（５ａ）を有する第１導電部（７１）と、開口領域又は切り欠き領域に配置され、画素電極及びドレイン領域間を中継接続するための第２導電部（８）とを備える。 （もっと読む）

【課題】表示品位に優れた液晶表示装置及び有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、基板上に設けられ複数の導電層２７ａ、２７ｂ、２７ｃが積層して形成された複数の配線と、それぞれスイッチング素子及び画素電極を含み複数の配線に接続された複数の画素と、を有したアレイ基板と、対向基板と、液晶層と、を備えている。各配線を形成する最上層又は最下層の導電層は、他の導電層よりサイズが大きく、他の導電層に重なっているとともに他の導電層から外れて形成されている。 （もっと読む）

【課題】熱処理による特性変動を抑制した酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタ、その製造方法、表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層と、前記絶縁層の上に設けられたゲート電極と、前記ゲート電極の上にゲート絶縁膜を介して設けられ、酸化物より形成された半導体層と、前記半導体層の上において、前記ゲート電極を挟むように離間して設けられたソース電極及びドレイン電極と、前記ソース電極及び前記ドレイン電極と、前記半導体層と、の間に設けられ、前記ゲート電極の上において、前記ソース電極及び前記ドレイン電極から露出した前記半導体層の側面の少なくとも一部を覆うチャネル保護層と、を備えたことを特徴とする薄膜トランジスタが提供される。 （もっと読む）

【課題】 発光素子を複数積層した有機発光装置において、コンタクトホールの傾斜部における電極間でのショート発生を低減することを目的とする。
【解決手段】 第１電極、第２電極、第３電極と、第１電極と第２電極に挟まれた少なくとも発光層を含む第１有機化合物層、第２電極と第３電極に挟まれた少なくとも発光層を含む第２有機化合物層と、第１有機化合物層の一部を除去したコンタクトホールを有する有機発光装置において、コンタクトホールの底部における第２有機化合物層の発光層の膜厚をｄ_１（ｎｍ）とし、コンタクトホールにおける第１電極と第２電極との間のなす角をθとした時、θ≦ｃｏｓ^−１（１５／ｄ_１）を満たす。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタ基板およびその製造方法に関するものであり、特に白色画素を含む表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置は、絶縁基板１００、絶縁基板上に形成されたダム１２０ａ，１２０ｂ，１２０ｃおよび第１カラーフィルタパターン、およびダムによって区切られて画素領域に形成された第２カラーフィルタパターンを含み、ダムおよび第１カラーフィルタパターンは、同一層に位置する。 （もっと読む）

【課題】連続発振レーザビーム、あるいは擬似連続発振レーザビームによりレーザアニーリングされることによって多結晶化された半導体膜において、結晶異方性が存在したとしても、その結晶異方性によるトランジスタの特性差を抑制することができるとともに、実用上の設計およびプロセス制約を緩和することのできる表示装置用基板を提供する。
【解決手段】上記第１のトランジスタ５は、上記半導体膜５ａにおける、結晶の長軸方向Ｄ２と、ソース領域からドレイン領域に向かう方向である半導体チャネル長方向Ｄ１とのなす角が、上記第２のトランジスタ６における上記なす角より大きく、上記第１のトランジスタ５に設けられた絶縁膜における絶縁膜容量の和Ｃａは、上記第２のトランジスタ６に設けられた絶縁膜における絶縁膜容量の和Ｃａより大きい。 （もっと読む）

【課題】表示装置の高精細化に伴い、画素数が増加し、ゲート線数、及び信号線数が増加する。ゲート線数、及び信号線数が増加すると、それらを駆動するための駆動回路を有するＩＣチップをボンディング等により実装することが困難となり、製造コストが増大するという問題がある。
【解決手段】同一基板上に画素部と、画素部を駆動する駆動回路とを有し、駆動回路の少なくとも一部の回路を、上下をゲート電極で挟んだ酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタで構成する。同一基板上に画素部及び駆動回路を設けることによって製造コストを低減する。 （もっと読む）

【課題】高解像度、高開口率を兼備し、優れた性能を安定して得ることができる有機ＴＦＴアレイの製造方法、及び有機ＴＦＴアレイを提供する。
【解決手段】有機半導体膜を覆う薄膜層と、少なくとも薄膜層を挟んで形成されたソース・ドレイン電極と画素電極と、有し、薄膜層に形成された開口部を通してドレイン電極と画素電極が接続された有機薄膜トランジスタアレイの製造方法であって、ドレイン電極の所定の領域の上に第１レジスト層を形成する工程と、少なくとも第１レジスト層の上に第２レジスト層を形成する工程と、第２レジスト層を形成した後、ソース・ドレイン電極の上に有機半導体膜を形成する工程と、有機半導体膜が形成された基板の全面に薄膜層を成膜する工程と、第１レジスト層をリフトオフすることで、薄膜層に開口部を形成する工程と、開口部を通してドレイン電極に接続する画素電極を形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】表示基板及びこれを備える表示装置を提供すること。
【解決手段】表示基板は、画素、第１パッド部、及び第２パッド部を含む。画素は、表示領域に配置され、ゲート配線とデータ配線に接続されるスイッチング素子、及びスイッチング素子と電気的に接続される画素電極を含む。第１パッド部は、表示領域を取り囲む周辺領域に配置され、第１導電層で形成される第１導電パターンと、第１導電パターンとオーバーラップし第１導電層で形成される第２導電パターンと、第１及び第２導電パターンの間に配置される絶縁層とを有する第１パッドを含む。第２パッド部は、第１パッド部と隣接する周辺領域に配置され、第１パッドの第１導電パターンと接続する第３導電パターンを有する第２パッドを含む。パッド部に形成される静電気キャパシタを利用することにより、静電気による表示装置の損傷を防ぐことができる。 （もっと読む）

第１の電極層と、第２の電極層と、前記第１の電極層と前記第２の電極層との間に挟まれている有機発光層を含む機能層の積層と、前記第１の電極層に隣接して配されているパッシベーション層とを有する有機発光ダイオードが、開示されている。前記パッシベーション層は、前記第１の電極層と前記第２の電極層との間の展開している短絡回路によって誘発される反応温度において酸化物を形成するように、前記第１の電極層と反応する。前記パッシベーション層は、前記反応温度より低い温度で不活性である。
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【課題】迷光による画質劣化を抑えることが可能な反射板、これを備えた表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】発光パネル１０の光取り出し側に、複数の反射素子３１Ｃを有する反射板３０を配設する。反射素子３１Ｃの周囲に、樹脂材料よりなる第１埋め込み層３４Ａと、樹脂材料および光吸収材料を含む第２埋め込み層３４Ｂを形成する。樹脂材料としては、アクリル、エポキシ系の紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂など、光吸収材料としては、炭素（Ｃ），酸化クロム（ＣｒＯ），窒化チタン（ＴｉＮ）およびシリコン（Ｓｉ）などを用いる。第２埋め込み層３４Ｂにより、反射素子３１Ｃに入射しなかった漏れ光ｈ１を吸収し、迷光による画質劣化を抑える。 （もっと読む）

【課題】製造工程を減らし、且つ各画素電極と各薄膜トランジスタとの接続不良を抑制する。
【解決手段】各反射膜２５が各ドレイン電極２１を構成する可溶性金属層２１ｂと同一層に同一材料で形成され、各画素１１毎に、各コンタクトホール２８の内側で可溶性金属層２１ｂから不溶性金属層２１ａの露出した部分の一部に接すると共に各コンタクトホール２８の内壁の少なくとも一部を覆うように各透明層３０と同一層に同一材料からなる接続補助層３１が設けられ、各不溶性金属層２１ａの露出した部分から各接続補助層３１を介して各画素電極３２が引き出されている。 （もっと読む）

【課題】水分の残留を抑制し、かつ、画素電極下の無機絶縁膜が有機平坦化膜から剥がれてしまうのを抑制することが可能な表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】このＥＬ装置（表示装置）１００の製造方法は、低温パッシベーション膜２６のうち有機平坦化膜２４に接触する第１部分２６ａとパッシベーション膜２３に接触する第２部分２６ｂとを、それぞれ、ドライエッチングすることによって水分除去用開口部２６ｄとコンタクトホール２６ｃとを形成する工程と、水分除去用開口部２６ｄをマスクした状態で、コンタクトホール２６ｃによって露出されたパッシベーション膜２３をドライエッチングすることによってコンタクトホール２６ｃと連結するコンタクトホール２３ａを形成してドレイン電極２２を露出させる工程と、ドレイン電極２２に接続するように画素電極２８を形成する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】銀からなる反射層を有する、光輝度のトップエミッション型の有機ＥＬ装置を得る。
【解決手段】基板１０上に規則的に配列された画素領域１０１毎に形成された、陽極２５と陰極２７と陽極２５と陰極２７とに挟持される有機ＥＬ層を含む発光機能層２６とからなる有機ＥＬ素子２９と、有機ＥＬ素子２９を駆動する駆動素子１１２と、を備える有機ＥＬ装置１の製造方法であって、駆動素子１１２を覆う平坦化層７２を形成する第１の工程と、平坦化層７２の一部を選択的に除去して、画素領域１０１を含む領域に凹部２０を形成すると共に、駆動素子１１２の電極５４の少なくとも一部を露出させるコンタクトホール５１を形成する第２の工程と、凹部２０内に、銀を含む液体材料１６を供給する第３の工程と、液体材料１６を固化して凹部２０内に銀からなる薄膜２２を形成する第４の工程と、を順に実施することを特徴とする有機ＥＬ装置１の製造方法。 （もっと読む）

【課題】絶縁保護層に微細なコンタクトホールを形成することなく、コントラストや反射率の高い良好な表示品質を持つ表示素子を提供すること。
【解決手段】画素電極とトランジスタと反射層とを有する画素からなり、反射層を、絶縁保護層の上の画素電極と対向する位置に、電気的に浮遊した状態で形成することで、絶縁保護層に微細なコンタクトホールを形成することなく、コントラストや反射率の高い良好な表示品質を持つ表示素子を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】信頼性が高く、移動度の高いＴＦＴを得て、駆動速度が高い発光表示装置を得ること課題とする。
【解決手段】第１のゲート電極と、第１の酸化物半導体膜と、第１の酸化物半導体膜と電気的に接続された第１の電極及び第２の電極とを有する第１の薄膜トランジスタと、第２の電極と電気的に接続された第２のゲート電極と、第２の酸化物半導体膜と、第２の酸化物半導体膜上に発光層と第４の電極とを有する第２のトランジスタとを有し、第４の電極の仕事関数よりも第２の酸化物半導体膜の方が仕事関数が大きく、第１の酸化物半導体膜及び第２の酸化物半導体膜はそれぞれ、ＩｎＭＯ_３（ＺｎＯ）_ｍ（ｍ＞０）、かつ、Ｍは、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、マンガン（Ｍｎ）及びコバルト（Ｃｏ）から選ばれた一の金属元素または複数の金属元素を有している発光表示装置に関する。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、配線等を電気抵抗値の少ない素材で形成することによって、高品位な画像表示を可能としつつ、光リーク電流の発生を抑制する。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）と、相交差するデータ線（６）及び走査線（１１）と、該交差に設けられた画素電極（９）と、（i）一の方向に沿ったチャネル長を有するチャネル領域（１ａ´）を有する半導体膜と、（ii）ゲート電極（３ａ）とを含むトランジスタ（３０）と、ゲート電極上に配置された遮光部（１１ｂ）と、画素電極の下層側に形成された下部容量電極（７２）とを備える。第１及び第２絶縁膜には、遮光部とゲート電極とを接続する第１部分と、他の方向に沿って延在し、半導体膜の脇で遮光部と走査線とを電気的に接続する第２部分とを有するコンタクトホール（８０１）が形成され、画素電極及び下部容量電極は、保持容量（７０）を形成している。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタをインクジェット方法で形成しながらも、遮光部材と間隔保持部材とを共に形成することによって、製造工程、製造時間および製造費用を著しく減少させることのできる薄膜トランジスタ基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態による薄膜トランジスタ基板は、基板と、基板上に形成され、絶縁されて交差するゲート線およびデータ線と、ゲート線およびデータ線と接続される薄膜トランジスタと、基板上に形成される遮光部材と、基板上に形成される複数のカラーフィルタと、複数のカラーフィルタのうちの一部のカラーフィルタ上に配置される間隔保持部材とを有し、カラーフィルタのうち一部はインクジェット方式で形成され、間隔保持部材は遮光部材と同一の物質で同時に形成することができる。 （もっと読む）