【課題】基板の反り、膜剥がれ及びクラックを良好に抑制するアクティブマトリクス基板、アクティブマトリクス基板を備えた表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】アクティブマトリクス基板は、プラスチック基板と、プラスチック基板上に形成された複数のソース線と、複数のソース線に交差する複数のゲート線と、複数のソース線と複数のゲート線との各交差部において、各交差部の対応するソース線及びゲート線のそれぞれに電気的に接続する薄膜トランジスタと、を備えたアクティブマトリクス基板であって、薄膜トランジスタ内及びソース線の下方にのみゲート絶縁膜が形成されている。 （もっと読む）

フレキシブルディスプレイ装置（５０、５１）は不連続なフロントプレーン（６０、６４）と連続したバックプレーン（７０、７４）を採用している。前記不連続なフロントプレーン（６０、６４）は、第１のフロントプレーン領域（６１）と、第２のフロントプレーン領域（６３）と、フロントプレーン空間領域（６２）とを含む。前記フロントプレーン空間領域（６２）は、前記第１のフロントプレーン領域（６１）と、前記第２のフロントプレーン領域（６３）とを空間的に隔てる。前記連続したバックプレーン（７０、７４）は、第１のバックプレーン領域（７１）と、第２のバックプレーン領域（７３）と、相互接続バックプレーン領域とを含む。前記相互接続バックプレーン領域（７３）は、前記第１のバックプレーン領域（７１）と、前記第２のバックプレーン領域（７３）とを電気的に相互接続する。前記第１のフロントプレーン領域（６１）と前記第１のバックプレーン領域（７１）とは、第１のディスプレイ（６１、７１）を構成する。前記第２のフロントプレーン領域（６３）と前記第２のバックプレーン領域（７３）とは、第２のディスプレイ（６３、７３）を構成する。前記相互接続バックプレーン領域（７２）は、前記第２のディスプレイ（６３、７３）を前記第１のディスプレイ（６１、７１）の拡張ディスプレイとして定める。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、光による誤動作を防止する。
【解決手段】電気光学装置は、透明基板（１０）と、この透明基板上に設けられた複数の反射型の画素電極（９ａ）と、透明基板上における画素電極よりも下層側に且つ画素電極と重なるように夫々設けられており、画素電極と電気的に接続された複数のトランジスタ（３０）とを備える。更に、透明基板における画素電極が設けられた面とは反対側の面に設けられており、光を吸収する光吸収体（５００）を備える。 （もっと読む）

開示されているのは、約０．４ｍｍ未満の厚さを有するガラス、ガラスセラミックまたはセラミックシートを含む電子デバイスであり、この無機基板の最小強度は約５００ＭＰａである。さらに開示されているのは、粘性のある無機材料をドローして、リボンの長さに沿って対向する形成されたままのエッジを有する無機リボンを形成するステップと、当該リボンを分割して２つの形成されたままのエッジを含む無機材料の基板シートを形成するステップと、当該無機基板にデバイス素子を形成するステップとを含む電子デバイス製造方法である。
（もっと読む）

本発明は、フレキシブル基板又は歪みを受けやすい基板を組み入れる集積回路の歪み許容プロセシング方法に関する。具体的に本発明は、フレキシブルディスプレイを駆動する集積回路（ＩＣ）を製造する方法が与える。これは、基板平面内の２つの直交方向（ｘ，ｙ）の双方において実質的には規則的に反復することがない、空間的に非反復なフィーチャのパターンをフレキシブル基板上の第１層に堆積することと、空間的に反復なフィーチャのパターンを前記第１層上の第２層に堆積することと、前記非反復なフィーチャと前記反復なフィーチャとの電気的接続を可能とするべく前記第２層と前記第１層とのアラインメントをとることとを含み、前記アラインメントを可能とするべく前記反復なフィーチャの堆積中に歪み補償が適用される。
（もっと読む）

薄いフィルムの電子デバイスを製造する方法は、湿式の鋳造工程を使用することで剛性のキャリア基体へプラスチックのコーティングを設けること、プラスチックのコーティングが、プラスチックの基体を形成すること並びに透明なプラスチックの材料及びＵＶを吸収する添加物を具備することを具備する。薄いフィルムの電子デバイスは、プラスチックの基体に形成されると共に、剛性のキャリア基体は、プラスチックの基体から剥離される。この発明は、ＵＶ吸収体での基体のプラスチックの材料のドーピングを通じた、レーザー剥離工程に適切な透明な基体の材料を作る方法を提供する。このＵＶ吸収体は、非常に高い吸収でリフトオフレーザーの波長（例のために、３０８−３５１ｎｍ、又は３５５ｎｍ）において吸収する。
（もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイ用パネル及びその製造方法、並びにそのパネルを備えるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】柔軟性のある基板と、基板の少なくとも一面に配置された複数の電極と、を備えるプラズマディスプレイ用パネルである。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、フレキシブル基板；前記フレキシブル基板より狭い面積を有し、前記フレキシブル基板上に積層される平坦化層；前記平坦化層上に積層されるディスプレイ素子；および前記フレキシブル基板上に設けられ、前記平坦化層と前記ディスプレイ素子を共に覆う保護層を含むことを特徴とするフレキシブルディスプレイ装置およびその製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】軽量薄型で表示品位の良い表示装置用の表示装置用サブストレートの提供。
【解決手段】芳香族ジアミン類と芳香族テトラカルボン酸類とを反応させて得られるポリイミドを主成分とする３００℃でのカール度１０％以下のポリイミドフィルムを絶縁基材とし該ポリイミドフィルム絶縁基材の表面に、半導体薄膜素子および配線用薄膜を直接形成した液晶表示素子（ＴＮ液晶、ＳＴＮ液晶、強誘電液晶、ゲストホスト型液晶、コレステリック液晶等々）、ＥＬ表示素子、電気泳動型表示素子、エレクトロクロミック型表示素子などの表示装置用サブストレート、このうちより好ましいのは、絶縁基材がベンゾオキサゾール構造を有する芳香族ジアミン類と芳香族テトラカルボン酸類とを反応させて得られるポリイミドベンゾオキサゾールを主成分とする線膨張係数が−５〜１６ｐｐｍ／℃のポリイミドフィルムである表示装置用サブストレートである。 （もっと読む）

【課題】高い弾性率と機械的強度を有し、熱履歴による歪や接続不良を起こさないプリント配線板の絶縁基材を使用することで、耐久性で高精度などの優れた特性を有する表示機器を提供する。
【解決手段】プリント配線板上に実装された駆動回路、又はプリント配線板を介しての駆動回路と接続された光変調部を有する大型画面表示用の投射型表示機器において、該プリント配線板の絶縁基材が３００℃でのカール度が１０％以下のポリイミドフィルムである表示機器。 （もっと読む）

【課題】 従来の有機発光素子は、駆動用トランジスタの成膜温度の制限から、基板上に発光層より先に形成する必要があり、トランジスタ形成時の凹凸を回避する為、厚い平坦化膜が必要とされた。その為、歩留まりの向上、生産速度の向上、コスト削減という点で、低コストディスプレイは期待できないという課題があった。
【解決手段】 基板上に、
第１の電極と、
発光層と、
第２の電極と、
絶縁層と、
電界効果型トランジスタと、
をこの順で設ける。 （もっと読む）

【課題】サイズが大きく、高解像度、更に、製造容易でコスト面で有利なフラット・パネル・ディスプレイ装置とその製造法を提供する。
【解決手段】フラット・パネル・ディスプレイ装置を提示する。この装置は２セットの導電性部材の間に封入された活性媒体により形成されるマトリクス状の画素から成る、少なくとも１つのディスプレイ・モジュールを有する。このディスプレイ・モジュールは視聴者に向けられた前面側と、その反対側の電子制御回路が配置された背面側とを有し、２セットの導電性部材を備える。２セットの導電性部材は、２本の交差する軸にそれぞれ沿って延在して２次元的な交差部の列を形成することにより画素を提供する。少なくとも１セットの導電性部材は、ディスプレイ・モジュールの前面から、その反対側の背面に折り曲げられて延在する。 （もっと読む）

【課題】薄膜のリフティングが減少した薄膜トランジスタ基板を提供する。
【解決手段】本発明による薄膜トランジスタ基板は、プラスチック絶縁基板と；前記プラスチック絶縁基板の一面に形成されており、第１屈折率を有する第１シリコン窒化物層と；前記第１シリコン窒化物層上に形成されており、前記第１屈折率より小さい第２屈折率を有する第２シリコン窒化物層を含む薄膜トランジスタとを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、フレキシブル基板を備えた素子の製造方法及びこの方法によって製造されたフレキシブル基板を備えた素子に関する。本発明のフレキシブル基板を備えた素子の製造方法によれば、ガラスを母基板として利用し、前記母基板上に基板として用いられるポリマー膜を化学気相蒸着法又は真空蒸着法によって形成し、素子を形成し、最終的に素子が形成された基板を母基板から分離することによって、フレキシブル基板を備えた大型の素子を製造できる。さらに、有機発光素子を形成する基板と封止用物質とを同じ材質の物質から形成することによって、素子製造後に素子自体から生じるストレスにより、素子が曲がらない。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、プラスチック基板が熱によって変形することを防止して正確な薄膜パターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】
本発明による表示板を製造する方法は、可撓性基板を形成する段階、前記基板の上にゲート線を形成する段階、前記基板の上にゲート絶縁膜を積層する段階、前記ゲート絶縁膜の上に半導体層を形成する段階、前記半導体層の上にデータ線及びドレーン電極を形成する段階、そして前記ドレーン電極と電気的に連結されている画素電極を形成する段階を含み、前記ゲート線を形成する段階、ゲート絶縁膜を積層する段階、半導体層を形成する段階、ソース電極を含むデータ線及びドレーン電極を形成する段階、そして画素電極を形成する段階のうち、少なくとも一つは温度８０℃乃至１５０℃及び１×１０^-6乃至９×１０^-6Ｔｏｒｒの真空度でスパッタリングする段階を含む。 （もっと読む）

【課題】駆動不良を防止することができる表示基板、その製造方法、及びこれを有する表示装置を提供する。
【解決手段】表示基板は、プラスティック基板、ゲート配線、アクティブ層、データ配線、及びドレイン配線を含む。ゲート配線はプラスティック基板上に形成され、ゲートライン及びゲート電極部を含む。アクティブ層は、ゲート電極部に対応してゲート絶縁膜上に形成される。データ配線は、ゲート絶縁膜上にゲート配線と交差するように形成されたデータライン及びデータラインと平行に形成され、データラインと電気的に接続されたリペアラインを含む。ドレイン配線は、データラインとリペアラインとの間に形成される。従って、プラスティック基板の微細なクラックを通じて誘発されるデータラインの断線による駆動不良を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】平板ディスプレイ装置及びその製造方法に係り、金属基板を利用してフレキシブルが可能で、外部からの電気的衝撃を受けない平面ディスプレイ装置。
【解決手段】基板１０の一面を覆う第１絶縁体１１、前記基板１０の他面に配置されたディスプレイ部２０、及び前記基板１０の端部が露出されないように前記基板１０の端部を覆う第２絶縁体１２を備えることを特徴とする平板ディスプレイ装置である。 （もっと読む）

【課題】 トップエミッション型有機発光ディスプレイ（ＯＬＥＤ）を構成する有機化合物及びＴＦＴ駆動回路から発生する熱を放熱し、かつ、有機化合物等への耐湿効果も十分に行う。
【解決手段】 基板の上に少なくともＴＦＴ駆動回路、反射陽極、有機発光層、透明陰極を積層してなり、金属層と絶縁層を含む光透過性を有しない基板を使用することで、ＴＦＴ駆動回路及び有機発光層からの熱を周囲空気中に十分に放熱することができ、かつ、耐湿効果も十分行うことができるトップエミッション型有機発光ディスプレイ（ＯＬＥＤ）を提供する。 （もっと読む）

【課題】有機発光ディスプレイ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
基板１１と、基板１１にマトリックス状に配置されるものであって、スイッチングトランジスタＱ１、ドライビングトランジスタＱ２、及びＯＬＥＤを有する複数の画素と、を備える有機発光ディスプレイである。スイッチングトランジスタＱ１は、ドライビングトランジスタＱ２に比べてキャリア移動度の低いシリコンチャンネルを有する。キャリア移動度の低いスイッチングトランジスタＱ１に漏れ電流が抑制され、キャリア移動度の高い多結晶シリコンにより長寿命、高速駆動が可能となる。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ用、特に平面ディスプレイ用の各画素を制御するために回路チップが埋め込まれた回路基板シートを、品質よく、高い生産性のもとで効率的に作製するためのディスプレイ用の回路基板用シート、及びそれを用いて得られた、回路チップが埋め込まれてなるディスプレイ用回路基板シートを提供する。
【解決手段】回路チップを埋め込むためのエネルギー線硬化型高分子材料からなるディスプレイ用の回路基板用シートであって、前記エネルギー線硬化型高分子材料からなる未硬化層の回路チップ埋め込み温度における貯蔵弾性率が１０³Ｐａ以上１０⁷Ｐａ未満であり、該未硬化層を硬化させた場合の硬化層の２５℃における貯蔵弾性率が１０⁷Ｐａ以上である回路基板用シート、及び該回路基板用シートにおけるエネルギー線硬化型高分子材料からなる未硬化層に、回路チップを埋め込み、これにエネルギー線を照射して硬化させてなるディスプレイ用回路基板シートである。 （もっと読む）