【課題】被検出物が表示パネルに非接触の場合でも、被検出物の位置及び動きの検出を行うことを可能とする表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、フォトセンサ及び酸化物半導体層を含む薄膜トランジスタが配置された表示パネルを有し、被対象物が表示パネルに接近する際に、被検出物が外光を遮ることで表示パネルに投影される被検出物の影がフォトセンサによって検出される。影の位置又は動きを検出することで、被検出物の位置又は動きが検出され、被検出物が表示パネルに非接触の場合でも検出可能となる。 （もっと読む）

【課題】データ線１１４の電位変動に起因するノイズの影響を受けにくくして、発光素子１５０に流す電流を制御する。
【解決手段】互いに交差する走査線１１２およびデータ線１１４と、これらの交差に対応して設けられた画素回路１１０と、シールド配線８１ａ、８１ｂとを有する。画素回路１１０は、発光素子１５０と、発光素子１５０に流れる電流を制御するトランジスター１４０と、トランジスター１４０のゲートノードｇとデータ線１１４との間で、走査線１１２に供給される走査信号にしたがって導通状態が制御されるトランジスター１３０と、を備え、シールド配線８１ａ、８１ｂは、平面視したときにデータ線１１４とトランジスター１４０との間に設けられている。 （もっと読む）

【課題】高感度のフォトセンサを有し、カラーでの撮像機能を有する安価なタッチパネル及びその作製方法を提供することを目的の一つとする。
【解決手段】向かい合う第１基板及び第２基板と、第２基板側に配置されたバックライトとを有し、第１基板と第２基板の間に液晶素子と、トランジスタと、フォトダイオードとを有し、トランジスタ及びフォトダイオードは第１基板上に形成されており、第１基板及び第２基板は透光性を有し、第１基板の膜厚は１０μｍ乃至２００μｍ、好ましくは２０μｍ乃至４０μｍであるタッチパネル。トランジスタ及びフォトダイオードは、支持基板上に形成された後、剥離されて第１基板に接着されている。 （もっと読む）

【課題】製造が容易で高精細化が可能なアクティブマトリクス基板を提供する。
【解決手段】本発明のアクティブマトリクス基板は、第１電極(5d)と接続された第１画素電極(PE)と、第２電極(5d)と接続され、第１画素電極の隣に配置された第２画素電極(PE)と、平面視において第１電極と第２電極との間に設けられた第１共通電極(5s)と、第１共通電極に接続されたデータ線(DL)と、第１電極、第２電極および第１共通電極の形成領域に一体に形成された第１半導体膜(7)と、を有し、第１画素電極と電気的に接続される第１トランジスタ(T(00))は、第１電極と第１共通電極との間を第１チャネル領域とし、第２画素電極と電気的に接続される第２トランジスタ(T(01))は、第２電極と第１共通電極との間を第２チャネル領域とする。このように、１つの半導体膜を２つの画素に係る２つのトランジスタによって共有することで、構成を簡素化でき、画素の縮小化、画素ピッチの短縮化にも対応できる。 （もっと読む）

【課題】小型化および信頼性の向上の双方を図ることのできる有機エレクトロルミネッセンス装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】有機ＥＬ装置１において、透光性の封止部材７では、素子基板１１の第１面１１ａ側を覆う第１板部７１、素子基板１１の第２面１１ｂ側を覆う第２板部７２、および側板部７６、７７、７８が一体に形成されている。このため、素子基板１１の周りにおいて、開口部７０が形成されている側以外は、封止部材７の側板部７６、７７、７８で封止されているので、封止部分が薄く済むとともに、確実な封止を行なうことができる。また、シール材８は、封止部材７において開口部７０が形成されている１箇所のみであるため、水分や酸素が侵入しないように幅広に形成した場合でも、素子基板１１の周りにおいてシール材８が占有する部分の幅寸法が狭く済む。 （もっと読む）

【課題】 多重露光を実施する場合に発光素子の特性のバラツキに起因する不具合の発生を抑止する。
【解決手段】Ｘ方向に沿って並ぶ有機ＥＬ素子（８１１，８１２，…）、及び、それら各々を先頭としＹ方向に沿って並ぶ１個以上の有機ＥＬ素子（例えば、８２１，８３１，８４１）からなる有機ＥＬ素子群（８Ｇ１，８Ｇ２，…）と、この有機ＥＬ素子群ごとの光の各パワー値を測定するパワー値測定手段と、その測定結果に基づき判明する前記各パワー値のバラツキに基づいて、当該各パワー値を一定とするような、前記発光素子群ごとに対応する各補正値を設定する補正値設定手段と、その補正値に基づいて、前記発光素子を駆動するための駆動信号を補正する補正手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】柱状スペーサが画素領域側に侵入することを防ぎ、光漏れを防ぐことで表示不良を防止しうる、高開口率の構造を提供する。
【解決手段】ＦＦＳ方式の液晶表示装置１であって、一方の基板１０に、データ線と走査線とスイッチング素子５とを少なくとも覆う平坦化膜１８と、平坦化膜１８上に形成された第１電極３１と、第１電極３１を覆う絶縁膜３３と、絶縁膜３３上に形成され、第１電極３１との間に生じる電界によって液晶層５０を構成する液晶分子を駆動する第２電極３２と、が設けられ、一対の基板１０,２０のうちの他方の基板２０には、データ線、走査線、スイッチング素子５の少なくともいずれか一つと平面的に重なる位置に、一対の基板１０,２０間の間隔を保持する柱状スペーサ４０が設けられ、一方の基板１０の表面に、平坦化膜１８を窪ませて形成された凹部４１が設けられ、柱状スペーサ４０の一部が凹部４１の内部に収容されている。 （もっと読む）

【課題】画素回路内の記憶回路の電源線における電位の変動の影響を低減する。
【解決手段】能動素子層Ｐには、階調データＤを記憶する記憶回路５３を含む画素回路１２が形成される。画素電極１４２は、能動素子層Ｐに重なるように形成されて階調データＤに応じた電位が供給される。液晶１４６は、画素電極１４２の電位に応じて駆動される。電源線４２および電源線４４は記憶回路５３に電源を供給する。電源線４２および電源線４４は、能動素子層Ｐと画素電極１４２との間に介在する部分を含む。電源線４２と電源線４４とは容量Ｃ1を形成する。 （もっと読む）

【課題】表示品質の向上に寄与すること。
【解決手段】駆動トランジスタは、そのゲートの電位に応じた駆動電流を生成する。ＯＬＥＤ素子は、駆動電流に応じた輝度にて発光する。トランジスタは、駆動トランジスタＴdrのゲートとドレインとの導通および非導通を切り替える。容量素子は、第１電極と第２電極とを有する。第２電極は駆動トランジスタのゲートに接続される。トランジスタは、データ電位が供給されるデータ線と第１電極との間に介挿される。また、容量素子は、容量素子とデータ線との間に設けられており、電源線と駆動トランジスタのゲート間に接続されている。 （もっと読む）

【課題】入力データに対してＤ／Ａ変換器から出力される電流値の精度が低下することを抑制しつつ回路規模の増大を抑制する。
【解決手段】電気光学装置１０は複数の単位回路Ｕを備える。複数の単位回路Ｕの各々は、駆動電流に応じた輝度で発光する電気光学素子３０と、駆動能力が異なる複数の電流源トランジスタＴｇを含み、複数の電流源トランジスタＴｇの各々が生成する単位電流Ｉを複数ビットの入力データに応じて合成することで入力データに応じた駆動電流Ｉｄｓを生成する電流生成部４４と、を具備し、複数の電流源トランジスタＴｇのうち駆動能力が最大の電流源トランジスタＴｇは、電気光学素子３０に最も近接して配置される。 （もっと読む）

【課題】設定操作画面等をデュアルビュー表示させることで、画面の視認性，操作性を向上させた操作パネルの表示装置、及び、当該操作パネルの表示装置を備えた画像形成装置を提供すること。
【解決手段】デュアルビュー表示制御部１１４ｂは、認証処理が成功した場合に、表示モードをシングルビュー表示モードからデュアルビュー表示モードに切り替え、デュアルビュー表示モードによって、第１の操作画面及び第２の操作画面を液晶パネル１１１に同時表示できるように、液晶表示コントローラ１１５に指示をする。 （もっと読む）

【課題】斜め方向からの迷光が、薄膜トランジスタのチャネル部に入ることで光リーク電流を発生させる場合がある。この現象は特に高輝度の光学系を用いる場合に顕著となり、画質の低下を招いている。
【解決手段】光導波路に侵入しうる光がチャネル部に到達しないようにするためには、第１絶縁体層の層厚ｔ（ｎｍ）、屈折率をｎとした場合、以下の式で表されるｔ＜（０．６１×λ）／（ｎ×ｓｉｎθ）。λを可視光波長の下限４００（ｎｍ）とし、遮光層端部とチャネル領域端部との距離をＬ_c（ｎｍ）として式変形するとｎｔ²／２４４（ｎｍ）＜Ｌ_c（ｎｍ）となる。この式を満たすように第１絶縁体層の層厚と、遮光層端部と、チャネル領域端部との距離と、を制御することで斜め方向の迷光による画質の低下を抑制する。 （もっと読む）

【課題】エレクトロルミネッセンス素子の輝度の低下を生じさせることがなく、かつ、占有面積の少ない好適な周辺回路を備えたアクティブマトリクス基板を提供する。
【解決手段】画素毎に設けられたＥＬ素子に電流を供給するための周辺回路をＥＬ素子に対応して備えるアクティブマトリクス基板であって、制御電圧を保持するための保持素子Ｃ、保持素子Ｃに接続され制御電圧に基づいた電流を発光部ＯＬＥＤに供給するための第１の能動素子Ｔ１、保持素子Ｃに接続され保持素子の充放電を制御する第２の能動素子Ｔ２を備え、特に、第２の能動素子Ｔ２は、多重制御端子型の能動素子として構成されている。このためプログラムされた電流が変動することがない。 （もっと読む）

【課題】エレクトロルミネッセンス素子の輝度の低下を生じさせることがなく、かつ、占有面積の少ない好適な周辺回路を備えたアクティブマトリクス基板を提供する。
【解決手段】画素毎に設けられたＥＬ素子に電流を供給するための周辺回路をＥＬ素子に対応して備えるアクティブマトリクス基板であって、制御電圧を保持するための保持素子Ｃ、保持素子Ｃに接続され制御電圧に基づいた電流を発光部ＯＬＥＤに供給するための第１の能動素子Ｔ１、保持素子Ｃに接続され保持素子の充放電を制御する第２の能動素子Ｔ２を備え、特に、第２の能動素子Ｔ２は、多重制御端子型の能動素子として構成されている。このためプログラムされた電流が変動することがない。 （もっと読む）

【課題】表示部に設けられた発光素子の波長を所定の波長差にすることで、赤と緑とが見分けにくい色覚障害を有する人を考慮した全ての使用者にユーザーフレンドリーな表示装置及び画像形成装置を提供する。
【解決手段】画像形成装置の操作パネルはスタートキー１、動作モード選択キー２、テンキー３、クリア／ストップ（Ｃ／Ｓ）キー４、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）５から構成される。動作モード選択キー２は、コピー、ファクシミリ、プリンタ、スキャナ等の装置の動作モードを選択するキーである。表示部１０は、透明あるいは半透明の部分の裏面側に緑色の発光素子を内蔵する。発光素子はＬＥＤ等で構成されており（緑ＬＥＤ３３）、その発光波長は５２０ｎｍ〜５３０ｎｍの範囲内のものを使用する。緑ＬＥＤ３３が発光することで、「待機状態あるいは操作可能な状態」を意味する。 （もっと読む）

本発明は、ＬＣＤディスプレイのバックライトとして働く領域的範囲に沿って領域的範囲とは独立に切り替えられうるとともに、情報の表示用として働く１つまたは複数の追加領域を有することを特徴とするＯＬＥＤバックライトを有するＬＣＤディスプレイ、およびこのＬＣＤディスプレイの使用法に関する。
【代表図】 図２
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【課題】液晶等の電気光学装置において、蓄積容量の容量を大きくすると共に遮光性能を高め、高品質な表示を可能とする。
【解決手段】液晶装置は、ＴＦＴアレイ基板１０上に、互いに交差して延在するデータ線６ａ及び走査線３ａと、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見てデータ線６ａ及び走査線１１ａに対応して規定される画素毎に配置された画素電極９ａと、画素電極９ａに電気的に接続されたＴＦＴ３０とを備える。更に、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見てＴＦＴ３０のチャネル領域１ａ´に対向する領域を含む領域に配置され且つＴＦＴ３０より上層側に配置されており、ポリシリコン膜からなる下側電極７１、誘電体膜７５及び金属膜からなる上側電極３００ａが下層側から順に積層されてなると共に画素電極９ａに電気的に接続された蓄積容量７０を備える。 （もっと読む）

【課題】歩留まりが高く、製品寿命が長いアクティブマトリクス基板を提供する。
【解決手段】アクティブマトリクス基板１０は、複数のソースバスライン１２と、絶縁層１３を介して複数のソースバスライン１２と交差する複数のゲートバスライン１４と、ゲートバイパス１４ａと、複数のＴＦＴ素子１５と、画素電極２０とを備えている。ゲートバイパス１４ａは、各ゲートバスライン１４の複数のソースバスライン１２との各交差部の両側を接続しており、絶縁層１３を介して複数のソースバスライン１２と交差している。 （もっと読む）

【課題】 陰極と陽極との短絡による発光不良を防ぐことができるとともに、水分の浸入による発光層の劣化が生じにくい信頼性に優れたＥＬ装置を提供する。
【解決手段】 画素領域２６と周辺領域とが形成され、発光層２０および第２電極２１が、全ての画素領域２６と周辺領域に連続して配置され、第１電極１９が、各画素領域２６に配置されるとともに、各画素領域２６から各画素領域に対応するコンタクトホール２３上まで延在して配置され、コンタクトホール２３上であって第１電極１９上に、コンタクトホール２３を充填するように絶縁層２４が配置され、コンタクトホール２３および絶縁層２４が、画素領域２６と離間して周辺領域に配置されているＥＬ装置とする。 （もっと読む）

【課題】 絶縁膜に形成される段差において電極と信号線とが短絡することを防止し、常に安定して正常に動作することができる電気光学装置を提供する。
【解決手段】 表面に凹凸パターンを有し、ソース電極線１９上に設けられ、基板７ａの平面に対して厚み方向に段差Ｓを有する層間絶縁膜２２と、絶縁膜２２上に設けられる画素電極２４と、絶縁膜２２の表面であって凹凸パターンが設けられた領域と段差Ｓの間の領域に設けられる平坦部Ｆとを有する電気光学装置である。平坦部Ｆを設けたことにより、露光及び現像処理によって絶縁膜２２に段差Ｓが形成される際、段差Ｓが電極２４が設けられるべき領域までオーバー現像、すなわち過剰除去されることを防止できる。このため電極２４と絶縁されるように絶縁膜２２によって覆われているべき部分のソース電極線１９が段差Ｓから露出することを防止でき、ソース電極線１９と電極２４とが短絡することを防止できる。 （もっと読む）