【課題】研磨後の基板の表面粗さ及びスクラッチを低減しつつ研磨速度が向上した研磨が可能な磁気ディスク基板用研磨液組成物、及びこれを用いた磁気ディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】シリカ粒子及び水を含有する磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、前記シリカ粒子が、一次粒子の形状係数ＳＦ−１が１４０以下であり、一次粒子の形状係数ＳＦ−２が１１０以上であり、かつ一次粒子の平均粒径が１〜４０ｎｍである、磁気ディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の表面欠陥の原因となっている工程を同定し、当該工程を修繕することで、それ以上の表面欠陥の発生を防止する。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造システム１００は、磁気ディスク用ガラス基板２００を製造するための１つ以上の工程１０３、１０５、１０６ａ、１０６ｂに対応して、各工程の処理に異常がある場合にガラス基板に生じる表面欠陥を典型的に示す表面欠陥マップ１２０ａ〜１２０ｄを記憶する記憶手段と、各工程を経て製造された磁気ディスク用ガラス基板２００の表面欠陥４０２を検出する表面欠陥検出装置１３０と、表面欠陥４０２に類似する表面欠陥マップを認識する認識部４０４と、表面欠陥４０２に類似すると認識された表面欠陥マップに対応する工程を報知する報知部４０６と、を含む。 （もっと読む）

【課題】アルミナ粒子の基板への突き刺さり及びロールオフ（端面ダレ）を低減できるハードディスク基板用研磨液組成物の提供。
【解決手段】アルミナ粒子、シリカ粒子、及び水を含み、前記シリカ粒子が、粒子の丸さの度合いを示す形状係数ＳＦ−１が１３０〜１８０であるシリカ粒子をシリカ粒子全体に対して２０重量％以上含むハードディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】基板のロールオフを低減できるハードディスク基板用研磨液組成物の提供。
【解決手段】アルミナ粒子、シリカ粒子、及び水を含み、前記シリカ粒子の体積中位粒径が２０〜１５０ｎｍであり、前記シリカ粒子における粒径１０ｎｍ以下のシリカ粒子の含有量が０．１〜２５体積％であるハードディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】ダイレクトプレス方式において、生産数を大きく減少させることなく、反りの極めて小さな肉薄ガラス成形品を得ることができる製造方法及び肉薄ガラス成形品を製造するための装置を提供する。
【解決手段】プレス用下型成形面上に供給された溶融ガラス塊を、前記プレス用下型に対向したプレス用上型の成形面とでプレス成形して肉薄ガラスを製造する方法。前記プレス成形後に前記プレス用上型をプレス成形品上から撤去した後、プレス用下型成形面上からプレス成形品を取り出すまでの間の少なくとも一部の期間、前記プレス成形品上に冷却用上型を載置して、前記プレス成形品の上下面の冷却状態を均衡させる。プレス用上型および冷却用上型を備える肉薄ガラスの製造装置。 （もっと読む）

【課題】うねり低減と経済的な研磨速度での研磨が可能な研磨液組成物の提供。
【解決手段】研磨材及び水を含有する研磨液組成物であって、研磨材が、粒子の丸さの度合いを示す形状係数ＳＦ−１が１４０〜２５０である第一研磨粒子と形状係数ＳＦ−１が１００〜１３０である第二研磨粒子とを含有し、第一研磨粒子は平均粒径０．０１〜０．４５μｍのアルミナ粒子であり、第二研磨粒子の平均粒径が第一研磨粒子の平均粒径よりも大きい研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】昇温時に小さい熱伝導率、かつ降温時に大きな熱伝導率を示し、高い機械的強度を有し、情報磁気記録媒体の構成層の成膜時にバイアス電圧を自由に印加することができる、熱アシスト記録方式に適した情報記録媒体用基板の提供。
【解決手段】中心孔を有する円板形状を有し、主平面と、該中心孔に隣接する基板内周端面と、主平面および基板内周端面に隣接する基板内周チャンファー部と、該基板内周端面に対して主平面の反対側に位置する基板外周端面と、主平面および基板外周端面に隣接する基板外周チャンファー部とを有する情報記録媒体用基板であって、シリコン単結晶支持体と、該シリコン単結晶支持体上に形成されたＳｉＯ₂膜とを含み、該ＳｉＯ₂膜の主平面上の膜厚が１０ｎｍ未満であることを特徴とする情報記録媒体用基板およびそれを用いた情報磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】可搬性の高い機器に搭載できる小型のハードディスクドライブにも用いることができるように小径化した場合においても、フライスティクション障害の発生を充分に防止できること。
【解決手段】ハードディスクドライブに搭載される磁気ディスク用ガラス基板であって、主表面の内周から１ｍｍ〜３ｍｍ外側の円環領域の平均表面粗さをＲａ１、周期が３００μｍ〜５ｍｍの周方向のうねり平均値をＷａ１、前記主表面の外周から１ｍｍ〜３ｍｍ内側の円環領域の平均表面粗さをＲａ２、周期が３００μｍ〜５ｍｍの周方向のうねり平均値をＷａ２とするとき、０＜Ｗａ２−Ｗａ１≦０．２ｎｍ、Ｗａ１≦０．６ｎｍ、０＜Ｒａ１−Ｒａ２≦０．２ｎｍ、Ｒａ１≦０．８ｎｍを満足するようにしている。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を加熱・加圧成形する際にセンターホールには金属薄板を挿入し、主面上には微細凹凸信号を形成するように同時一体成形を行うことで、信頼性が高く量産性に優れ、センターホール近傍から情報記録媒体が割れてしまうことのない情報記録媒体基板を効率よく提供する。
【解決手段】ガラス基板を加熱、加圧することで、ガラス基板の少なくとも１主面上に微細凹凸信号を直接形成すると同時にセンターホールに金属薄板を固着する。 （もっと読む）

【課題】ヘッドクラッシュの発生を抑制できる磁気ディスク用のガラス基板および磁気ディスク装置を提供すること。
【解決手段】ロード／アンロード方式の磁気ディスク装置に使用される磁気ディスク用のガラス基板であって、円盤形状を有し、ロードされる磁気ヘッドスライダと対向する主表面の外周側の縁部においてスキージャンプが形成されており、前記磁気ヘッドスライダの幅をＷ[ｍｍ]とすると、前記スキージャンプの内周側の斜面の径方向に沿った接線の傾きの変化率が、内周側から該斜面の変曲点までの範囲において１０／Ｗ[μｒａｄ／ｍｍ]以下である。 （もっと読む）

【課題】 高密度化およびアクセスタイムの短縮を可能とする磁気記録装置に用いられる磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】 結晶化ガラス基板の精研磨に、圧縮弾性率が７０〜９０％、密度が０．４〜０．６ｇ／ｃｍ^３、Ｃ硬度が７０〜８０の高密度、高硬度のパッドを用いる。 （もっと読む）

【課題】面内磁気記録方式および垂直磁気記録方式の何れにおいても、高密度記録のためのランプロード方式にも十分対応し得る良好な表面特性を兼ね備え、高速回転化、衝撃に耐え得る高強度を有し、各ドライブ部材に合致する熱膨張特性や耐熱性をも兼ね備えた、溶融温度が低く生産性に優れ、かつ、素材からのアルカリ溶出量の低減、すなわち化学的耐久性に優れた情報記録媒体用ディスク基板用等の結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準において、ＳｉＯ_２成分、Ｌｉ_２Ｏ成分を含有し、質量％で、ＳｒＯ成分およびＢａＯ成分から選ばれるいずれか１種以上の合計量が３．５％を超え１５％以下であり、結晶相として二ケイ酸リチウム、モノケイ酸リチウム、α−石英、α−石英固溶体、β−石英固溶体の中から選ばれる少なくとも１種以上を含有することを特徴とする結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の主表面のキズを除去すると共にガラス基板のエッジ部へのダメージを排除してガラス基板の稜線部分のハマ欠け現象を回避すること。
【解決手段】この磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、形状加工工程の後に実施される基板表面研削工程を、固定砥粒を用いた基板表面研削工程に置き換え、かつ、当該基板表面研削工程を端面研磨工程の後に実施するように工程の順序を入れ替える。 （もっと読む）

【課題】 蒸着工程での表面欠点や破れがなく安定製膜が可能であり、特に磁気記録媒体とした際に、環境変化による寸法変化が少なく、テープを磁性層側に凸状に湾曲させることでヘッドとの密着性が向上し、電磁変換特性が優れた高密度磁気記録媒体用支持体を提供する。
【解決手段】 ポリエステルフィルムの両面に金属系酸化物を含む層（Ｍ層）が設けられた磁気記録媒体用支持体であって、Ｍ層の酸素濃度がいずれも４５〜７０ａｔ．％であり、ポリエステルフィルムの厚みをＴとし、一方の面（面Ａ）に設けられたＭ層（Ｍａ層）の厚みと他方の面（面Ｂ）に設けられたＭ層（Ｍｂ層）の厚みの和をＴ_Ｍとしたとき、Ｔ／Ｔ_Ｍの値が４６〜２５０であり、Ｍｂ層の表面抵抗率が１．０×１０^９〜１．０×１０^１４Ωであり、かつ、Ｍａ層の表面抵抗率がＭｂ層よりも小さい磁気記録媒体用支持体とする。 （もっと読む）

【課題】現状に求められる耐衝撃性よりもさらに高い耐衝撃性を満足する磁気ディスク用ガラス基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板は、主表面及び端面を有し、化学強化処理が施された円盤状の磁気ディスク用ガラス基板であって、前記主表面の最表部応力層押し込み長が４９．１μｍ以下であり、バビネ補正器法による応力プロファイルにおいて前記主表面と圧縮応力との間のなす角をθとしたときに、｛１２・ｔ・ｌｎ（ｔａｎθ）＋（４９．１／ｔ）｝の値ｙが前記最表部応力層押し込み長以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】鏡面板ガラスの主表面を微細な固定砥粒で研磨する際に、研磨開始時から高加工レートを実現でき、加工時間を短縮すること。
【解決手段】主表面が鏡面となっている鏡面板ガラス３を、固定砥粒であるダイヤモンドシート１０を用いて必要な平坦度及び表面粗さに加工するガラス基板の製造方法である。前処理としてダイヤモンドシート１０が研磨作用する程度まで鏡面板ガラス３表面を機械的方法又は化学的方法で粗面化する。その後、ダイヤモンドシート１０を用いて鏡面板ガラス３表面を加工して所望の板厚及び平坦度に加工する。 （もっと読む）

【課題】 磁気ヘッドと磁気ディスクとのトラックずれを防止することにより、少なくとも面記録密度が１００ギガビット／平方インチを達成し得る磁気ディスク、あるいはハードディスクドライブに確実に固定できるモバイル用途のハードディスクに特に好適な磁気ディスクを与えることのできる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、および磁気ディスクを提供する。
【解決手段】 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量が、円孔直径の０．０５％以内になり、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が９８Ｎ以上になるように化学強化処理する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法およびこの方法で得られた磁気ディスク用ガラス基板の表面に、磁気記録層を有する磁気ディスクである。 （もっと読む）

【課題】充分な耐衝撃性を有し、加工プロセスや磁気記録層の成膜プロセスを複雑なものとすることがなく、表面平坦性に優れ、しかもコストダウンを可能とする磁気記録媒体用Ｓｉ基板を提供すること。
【解決手段】本発明では、多結晶Ｓｉウェハの平坦化の工程でのエッチングは行なわれず、機械研削のみで平坦化がなされる（Ｓ１０４、Ｓ１０６）。これは、エッチング速度に結晶面依存性があるため、多結晶Ｓｉウェハをエッチングすると、ウェハ表面に露出している各結晶粒の結晶方位面の違いによって段差が生じることが避けられず、精密な表面平坦化の障害となるためである。そして、最終研磨段階に先立って予めＳｉウェハ表面を酸化膜で被覆して酸化膜付きＳｉウェハとし（Ｓ１０７）、この酸化膜表面を平坦化することで表面に段差のない平坦な基板（酸化膜付きＳｉ基板）を得ている（Ｓ１０８）。 （もっと読む）

【課題】円環状の磁気記録媒体用ガラス基板の端部において、スキージャンプ又はロールオフのような形状の乱れを抑制することを課題とする。
【解決手段】円環状の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、表面を鏡面研磨した後のガラス基材１のうち、研磨端部２以外の実質的に平坦な部分を選択的に用いて、ガラス基材１を化学エッチングにより形状加工して、円環状の磁気記録媒体用ガラス基板を得ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】円環状の磁気記録媒体用ガラス基板の端面において、傷の発生を抑制することを課題とする。
【解決手段】円環状の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、ガラス素板をディスク上のガラス基板１１に加工する際に、端面形成をエッチングにより行うことにより、外周端面１３及び内周端面１４に傷のない磁気記録媒体用ガラス基板を得ることを特徴とする。 （もっと読む）