【課題】研削痕がなく強度が高く、平滑な表面が得られる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、板状ガラスをエッチングして板厚を調整するエッチング工程と、前記板状ガラスを円環状のガラス基板に形成するスクライブ工程と、前記スクライブ工程の後工程であって前記ガラス基板の研磨工程の前に前記ガラス表面の化学的表面処理を行う化学的表面処理工程と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 従来は不良品とみなされていたガラス基板を再生することが可能なガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のガラス基板１の製造方法においては、ガラス基材１ａを検査する工程において、ガラス基材１ａの検査で主表面７ａ、７ｂの両面が磁気記録媒体形成の条件を満たしていない場合に主表面７ａ、７ｂをテープテクスチャで研磨し、その後に再度検査を行い、磁気記録媒体形成の条件を満たす場合に出荷している。 （もっと読む）

【課題】 化学強化後に研磨を行う場合であっても、ガラス基板の平坦度が変化した場合に平坦度の変化を速やかに抑制することが可能なガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のガラス基板１の製造方法においては、ガラス基材１ａをイオンを含む溶液である化学強化液５９に浸漬して、ガラス基材１ａの表面のイオンを化学強化液５９のイオンと置換することにより化学強化を行い、その後に、化学強化を行ったガラス基材１ａの主表面７ａ、７ｂを研磨する。
ここで、前のバッチで主表面７ａ、７ｂの平坦度が許容値の範囲外の場合は、平坦度が０に近づくような研磨条件を選択し、これを変化させることにより、次バッチ以降の研磨を行っている。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で、種々異なる表面粗さの表面を有するディスク材を得る。
【解決手段】本発明は、ディスク材Ｄの要求表面粗さに基づいて設定された濃度分の研磨剤を含む研磨液を用いてディスク材Ｄを研磨する構成を備える。好ましくは、本発明は、第１濃度分の研磨剤を含む研磨液を用いてディスク材Ｄを研磨する第１研磨工程と、前記第１濃度よりも低濃度の第２濃度分の前記研磨剤を含む研磨液を用いて、前記第１研磨工程で研磨されたディスク材Ｄを研磨する第２研磨工程とを含み、第２濃度は、ディスク材に対する要求表面粗さに基づいて設定される。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等、次世代の情報記録媒体基板用途としての物性を備え、とりわけ、動的な環境下での使用を前提とした次世代の情報記録媒体用基板として適用しうるガラス基板を提供すること。特に本発明の目的は基板表面の硬度が十分に高く、比重と機械的強度のバランスを備え、高速回転化や落下衝撃に耐え得る高強度を有し、砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずともガラス素地の泡やプレス時のリボイルの発生がなく、ダイレクトプレス法に適した生産性の高い情報記録媒体用ガラス基板を提供すること。
【解決手段】 酸化物基準の質量％で、ＳｉＯ_２：５２〜６７％、およびＡｌ_２Ｏ_３：３〜１５％、およびＰ_２Ｏ_５：０．２〜８％、の各成分を含有し、ヤング率が８５ＧＰａ以上であり、比重が、２．６０以下であり、ヤング率の比重に対する比（ヤング率／比重）が３３．０以上であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】中心部に厚肉部を設けた場合でも、厚肉部以外の部分の薄肉化が容易で、且つ、プレス後にクラックが発生するのを抑制することができるガラスブランクを提供すること。
【解決手段】円板状の厚肉部１０と、厚肉部１０の周囲を囲むように設けられたリング状で、厚肉部１０より肉厚が薄い薄肉部２０と、を有し、厚肉部１０が、薄肉部２０の少なくとも一方の面に対して凸を成すように設けられたガラスブランク１において、薄肉部２０と厚肉部１０とが段差を成すように形成された側の面において、薄肉部２０の平面部分２２から厚肉部１０の最頂部１２へと続く傾斜面が、平面部分２２と連続する面を成す曲面１４を有することを特徴とするガラスブランク１。 （もっと読む）

【課題】プレス時の割れを抑制すること。
【解決手段】このガラスブランク１は、円板状の薄肉部１０と、薄肉部１０の周縁部に沿って設けられた厚肉部１２と、を有し、情報記録媒体用基板に加工する際に、厚肉部１２が除去される。また、ガラスブランクの製造方法は、このガラスブランク１を製造する方法であり、情報記録媒体用基板の製造方法は、ガラスブランク１またはガラスブランクの製造方法により作製されたガラスブランク１を用いて作製する。また、情報記録媒体お製造方法は、情報記録媒体用基板の製造方法により作製された基板を用いる。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体用ガラス基板の表面粗さを容易に精度よく、かつ、安定した状態で制御できること。
【解決手段】仕上げ研磨加工に用いられるスラリーは、粒径の異なる二種類のコロイダルシリカスラリーが所定の比率で混合されたものとされる。 （もっと読む）

【課題】線熱膨張係数が高く且つアルカリ成分の溶出が少なく、さらに低コストであるガラス基板を提供する。
【解決手段】重量％で、ＳｉＯ₂：６０．１〜７０％、Ａｌ₂Ｏ₃：１〜１０％、Ｂ₂Ｏ₃：
１．０〜８％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ：７〜２０％、ＭｇＯ：０．１〜１０％、Ｃａ
Ｏ：０．１〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ：１〜１５％、ＴｉＯ₂：０．５〜１０％、ＺｒＯ₂：０．５〜１０％、ＺｎＯ：０〜５％、Ｌａ₂Ｏ₃：０〜８％の各ガラス成分を有する構成とした。 （もっと読む）

【課題】基体上に軟磁性層、グラニュラー構造を有する磁気記録層及び高い垂直磁気異方性を有する連続層を備える垂直磁気記録媒体について、磁気記録層の逆磁区核形成磁界を容易に高めることができる製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】本発明に係る垂直磁気記録媒体の製造方法は、基体上に軟磁性層を形成する軟磁性層形成工程と、軟磁性層の上層としてグラニュラー構造を有する磁気記録層を形成する磁気記録層形成工程と、磁気記録層の上層又は下層として垂直磁気異方性を有する連続層を形成する連続層形成工程と、連続層形成工程において連続層を形成することにより得られた媒体を、逆磁区核形成磁界の値を向上させるために加熱する加熱工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基体上に軟磁性層及びグラニュラー構造を有する磁気記録層を備える垂直磁気記録媒体について、磁気記録層の保磁力Ｈｃを容易に高めることができる垂直磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】本発明に係る垂直磁気記録媒体の製造方法は、基体上に軟磁性層を形成する軟磁性層形成工程Ｓ．３と、軟磁性層の上層としてグラニュラー構造を有する磁気記録層をＣｏ系磁性材料により形成する磁気記録層形成工程Ｓ．６と、磁気記録層形成工程Ｓ．６において磁気記録層を形成することにより得られた媒体を、保磁力の値を向上させるために加熱する加熱工程Ｓ．７とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】研磨後の基板表面のうねりやナノ突起欠陥の低減を実現できる磁気ディスク基板用研磨液組成物の提供。
【解決手段】研磨材と、下記一般式（１）で表される構成単位及びスルホン酸基を有する構成単位を有する共重合体又はその塩とを含有する研磨液組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ²は炭素数１〜２２の炭化水素鎖である。］ （もっと読む）

【課題】研磨後の基板表面のスクラッチ、うねり、及びナノ突起欠陥の低減を実現できる磁気ディスク基板用研磨液組成物の提供。
【解決手段】研磨材と、下記一般式（１）で表される構成単位及びホスホン酸基を有する構成単位を有する共重合体又はその塩とを含有する研磨液組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ²は水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子（１／２原子）、アンモニウム若しくは有機アンモニウム、又は炭素数１〜２２の炭化水素鎖である。］ （もっと読む）

【課題】現行の磁気ディスク用アルミニウム合金基板と同等以上の強度を持ち、素材コストを低減させると共に、ＮｉＰめっき膜表面の平滑性に優れ、さらに圧着性に優れた磁気ディスク用アルミニウム合金基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】芯材の両面に皮材を備えた磁気ディスク用アルミニウム合金基板であって、芯材は、Ｓｉ：０．１〜１．５質量％、Ｍｇ：１．０〜３．０質量％、Ｍｎ：０．５〜２．０質量％、Ｃｕ：２．０質量％以下を含有し、残部がＡｌおよび不可避的不純物からなり、皮材は、Ｓｉ：０．０３質量％以下、Ｆｅ：０.０３質量％以下、Ｍｇ：３．０〜５．０質量％、Ｃｒ：０.０１〜０．３５質量％を含有し、さらに、Ｃｕ：０.０１〜０．２０質量％、および、Ｚｎ：０．０１〜０.５０質量％のうち少なくとも一種を含有し、残部がＡｌおよび不可避的不純物からなり、耐力が１００ＭＰａ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ミクロンオーダーだけでなくナノオーダーでの微細加工を容易に施すことができるガラス表面の微細加工方法を提供する。
【解決手段】アルカリ酸化物を含有するガラスの表面に凸部を形成するガラス表面の微細加工方法であって、凸部となるべき第２領域の表面に隣接する第１領域の表面を保護層で被覆する工程と、第２領域の表面側からアルカリイオンを除去する工程と、第１領域の表面から保護層を除去する工程と、アルカリイオンが除去された第２領域の表面と保護層が除去された第１領域の表面とを研磨する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】単一の研磨部材を用いて、ディスク材、特にその内周端面を高精度に研磨する。
【解決手段】本発明によるディスク材の研磨では、各ブラシ毛の先端部が扁平形状を有する研磨ブラシを用いることを特徴とする。研磨液を供給しつつ、各ブラシ毛の先端部が扁平形状を有する研磨ブラシを、ディスク材に対して相対運動させつつ接触させる方法で、ディスク材の内周端面を研磨する。 （もっと読む）

【課題】微細な遊離砥粒及び硬度の低い研磨パッドを用いて研磨を行う場合においても、良好な表面粗さを維持しつつ端部形状の悪化を改善すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、キャリア４から一部を露出させた状態で保持されたガラス基板５の主表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、ガラス基板５の外周近傍における研磨パッド１のキャリア４側への移動を規制した状態で当該研磨パッド１をガラス基板５の主表面に密着させ、キャリア４を回転させてガラス基板５の主表面を研磨することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１ｎｍ近傍におけるレベルにおいて表面に存在する欠陥数が非常に少なく、高記録密度磁気ディスク用の基板として適している磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板は、原子間力顕微鏡を用いて２μｍ×２μｍ角で２５６×２５６ピクセルの解像度で測定したガラス基板の主表面における算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１２ｎｍ以下であり、波長４０５ｎｍの光を５μｍのスポット径で照射した際の前記ガラス基板からの散乱光を検出した際に０．１μｍ以上０．３μｍ以下のサイズとして検出された欠陥のうち、前記ガラス基板に固着している欠陥の個数が２４ｃｍ^２当たり１個以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１ｎｍ近傍におけるレベルにおいて表面に存在する欠陥数が非常に少なく、高記録密度磁気ディスク用の基板として適している磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板は、原子間力顕微鏡を用いて２μｍ×２μｍ角で２５６×２５６ピクセルの解像度で測定したガラス基板の主表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１２ｎｍ以下であり、波長６３２ｎｍのヘリウムネオンレーザ光を前記ガラス基板の主表面に照射しながら掃引した際の入射光と反射光との間の波長のずれを用いて検出された、平面視で０．１μｍ〜０．６μｍの大きさ、かつ、０．５ｎｍ〜２ｎｍの深さとして検出された欠陥が２４ｃｍ^２当たり１０個未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク装置に組み込んだ際の耐衝撃強度が高い磁気ディスク用ガラス基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】主表面と、前記主表面の中央部に形成された円孔と、前記円孔の内周に形成されたチャンファ面と、を有し、前記主表面は、内周端部において凸部が形成されており、前記内周端部において、スキージャンプ値が０μｍ以下であり、前記主表面と前記チャンファ面との境界から前記主表面側へ１．６ｍｍだけ離れた点とを結ぶ直線を基準線分としたとき、前記基準線分からの前記凸部の最大高さが０．２〜９ｎｍであり、前記主表面と前記チャンファ面との境界から前記凸部の高さが最大となる位置までの離隔距離が０．７ｍｍ以下である。 （もっと読む）