【課題】レジスト層によりスロートハイトを高精度に規定できる垂直磁気記録ヘッド及びその製造方法を得る。
【解決手段】記録媒体との対向面で磁気ギャップ層を介して積層した主磁極層及びリターンヨーク層と、記録媒体との対向面からハイト方向奥側に後退させた位置に前端面を有し、この前端面位置でリターンヨーク層のスロートハイトを規定するレジスト層とを備えた垂直磁気記録ヘッドにおいて、レジスト層の直下位置に、磁気ギャップ層の少なくとも一部をなし且つ膜内に光を透過させない非透過膜であるＴｉ膜を設けた。 （もっと読む）

【課題】磁気書き込みヘッドのフレア・ポイントと磁気シールドのスロート・ハイトを正確に画定し、制御できる構造あるいは工法に対する強い開発ニーズがある。そうした構造あるいは工法は、現在利用できるツール及びプロセスを用いて製造可能なものでなければならない。
【解決手段】磁気書き込みヘッド３０２は、第２フレア・ポイントＦＰ２を規定する段状磁性シェル部４０４を有する。磁性シェル部によって規定される第２フレア・ポイントは、書き込みヘッドの空気軸受面（ＡＢＳ）からの距離に関して厳密に制御される。またこのフレア・ポイントは、フォトリソグラフィ的に主磁極構造上に位置する従来のフレア・ポイントよりも、より厳密に制御される。これによって、書き込みヘッドの有効なフレア・ポイントを、現在利用可能なツール及びフォトリソグラフィ技術を利用して可能な程度よりも、より密接にＡＢＳに近づけることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】レジストの硬化やヒビ割れ、開口幅の拡大および下地酸化の少なくとも一つを抑制しつつ、微細パターンのメッキやウエットエッチングを実現する新規な技術を提供する。
【解決手段】下地上にレジスト膜を形成し、その上から選択的に露光および現像を行い、その後メッキ処理またはウエットエッチング処理することを含んでなるパターン形成方法において、メッキ処理またはウエットエッチング処理前に、下地表面を水溶性ポリマーおよび水を少なくとも含んでなる表面処理剤を用いて処理する。 （もっと読む）

【課題】主磁極の形状をなまることなく形成することができることで、主磁極先端部のコア幅や両側面の角度、および主磁極のネックハイトを、ばらつきが少なく安定的に形成できる磁気記録ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】磁気記録ヘッドの主磁極１０の形状に抜かれた、熱可塑性材料から成るレジスト層３０を形成するレジストパターン形成工程と、レジスト層３０の表面３０ｃを硬化させる硬化処理工程と、硬化処理工程後に、レジスト層３０を加熱ベークして一旦流動化させるベーク工程と、レジスト層３０の抜かれた箇所３０ａに主磁極１０の材料を充填することで主磁極１０を形成する主磁極形成工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】レジストの残存溶剤の濃度分布に起因する金属薄膜の寸法精度の悪化を防止する。
【解決手段】基層の上にシード層を形成し（Ｓ４）、シード層の上に、上部の残存溶媒濃度が低く下部の残存溶媒濃度が高い第１のフォトレジスト層を形成し（Ｓ６）、第１のフォトレジスト層の上に、第１のフォトレジスト層まで到達する第１の開口を有するマスクパターン層を形成し（Ｓ７〜１０）、マスクパターン層をマスクとして第１のフォトレジスト層をエッチングし、第１のフォトレジスト層に、第１の開口と連通し、かつシード層まで達する第２の開口を形成し（Ｓ１１）、第１のフォトレジスト層をフォトレジストフレームとして、かつシード層を電極として、電気めっき法により、第２の開口内に金属層を形成し（Ｓ１２）、第２の開口内に金属層を形成した後に第１のフォトレジスト層およびマスクパターン層を除去する（Ｓ１3）。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、磁気ヘッドの製造方法に関し、より詳細には薄膜によって主磁極を形成する垂直磁気ヘッド製造方法に関するものである。
【解決手段】 本発明の垂直磁気ヘッド製造方法は、強磁性材料により主磁極を含むパターンを形成する主磁極パターン形成工程と、主磁極パターンの側面をイオンミリングでエッチングするスリム工程とを備え、主磁極パターン形成工程におけるパターンの平面形状は、コイルにより磁界が誘導される幅広の磁界誘導部から絞り込まれ細幅で所定の長さの先端部からなる主磁極パターンと、主磁極パターンの先端部に続くフレア部を経て所定の幅と長さの第１の支持部と、その第１の支持部に続いてフレア部を経てより幅広の第２の支持部とで構成する支持パターン、とからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】下部シールド層、上部シールド層と同形に下部磁極を形成する際に、下部磁極に変形部が生じないようにして、外部の電界ノイズに対する耐性を向上させた磁気ヘッドとして提供する。
【解決手段】リードヘッドを構成する下部シールド層１２および上部シールド層１４と、ライトヘッドを構成する下部磁極１６とが層間に絶縁層１３、１５を介して積層して形成された磁気ヘッドにおいて、前記下部磁極１６は、浮上面側を除く側縁部の位置が、前記上部シールド層１４の側縁部よりも、平面配置で内側に位置して形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】垂直書込みヘッドの切欠き後縁シールド構造を製作する間の、ウェハ内およびウェハ毎の歩留まりを改善する方法を提供する。
【解決手段】後縁シールド構造９０２の平坦な表面を確保するため、平坦化し切欠きを形成する前に、Ｔａ／ＲｈのＣＭＰ停止層１００２が蒸着される。これらの停止層１００２は、ＣＭＰの前に、ブランケット蒸着またはパターニングされてもよい。パターニングされた停止層は最も高い歩留まりを生じる。 （もっと読む）

【課題】「コイルパターン飛び」や「しみこみ」を防止しつつ、コイルを垂直な形状に形成する。
【解決手段】薄膜磁気ヘッドの製造方法は、コイルが形成されるべき面上にレジスト層を形成するステップＳ４と、レジスト層に、コイルの形状に対応して巻回しながら延びる渦巻状の開口と、開口の最外周部のさらに外側を最外周部に沿って延び、コイルが形成されるべき面が露出しない深さを有する凹部と、を形成するレジスト層加工ステップＳ５と、開口および凹部の形成されたレジスト層に熱処理または紫外線照射をおこなうステップＳ６と、熱処理または紫外線照射がおこなわれたレジスト層の開口内にコイルを形成するステップＳ７と、コイルが形成された後、レジスト層を除去するステップＳ８と、を有している。 （もっと読む）

【課題】垂直記録磁気ヘッドの記録用ＥＬＧの先端位置確定は、主磁極の形成と同時に、浮上面側からイオンミーリングにより行われるため、ＥＬＧの浮上面と反対側のエッジに、被研削物の再付着が発生し、ＥＬＧの抵抗値が安定しない。ＥＬＧの抵抗値が安定せずにバラツキがあると、主磁極のスロートハイトを高精度に研磨制御することができない。
【解決手段】ローバー内の１つの記録ヘッドのシールド１４のめっき下地層１５と同じ層にＥＬＧ３０を配置し、別の記録ヘッドの主磁極１２と同じ層にＥＬＧ３１、３２を配置する。ＥＬＧ３１、３２の抵抗変化から先端位置(Top)を検出し、研磨終了位置を計算する。ＥＬＧ３１、３２の先端位置(Top)の高さは正確であるので、先端位置(Top)を検出した時点の、ＥＬＧ３０の抵抗値を検出することで、主磁極１２のスロートハイトＴｈとＥＬＧ３０の抵抗値とに相関性をもたせることができる。 （もっと読む）

【課題】磁気特性を向上させることが可能なめっき膜の形成方法を提供する。
【解決手段】基体１０１の一面に、アスペクト比（深さ／幅）が１よりも大きい開口部１０３Ｋ１とアスペクト比が開口部１０３Ｋ１よりも小さい開口部１０３Ｋ２とを有するフォトレジストパターン１０３を形成する。続いて、少なくとも開口部１０３Ｋ１，１０３Ｋ２における基体１０１の露出面１０１Ｍおよびフォトレジストパターン１０３の内壁面１０３Ｍを覆うように、シード膜１０４を形成する。続いて、開口部１０３Ｋ１，１０３Ｋ２におけるシード膜１０４上に、基体１０１の一面と交差する方向に磁界ＦＶを印加しながら少なくとも開口部１０３Ｋ１を埋め込んだのち、基体１０１の一面に沿った方向に磁界を印加しながら少なくとも開口部１０３Ｋ２を埋め込むように、磁性材料からなるめっき膜１０５を成長させる。 （もっと読む）

【課題】記録ヘッド部の上部磁極の形成をより好適に行うことが可能な薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】感光性レジスト層３９上に、細幅部２６ｂの形状に沿って抜かれた第一マスク層４２を設けるステップと、感光性レジスト層３９上に、テーパ部２６ｃの形状に沿って抜かれた第二マスク層４４を設けるステップとを有し、第二マスク層４４は、抜かれた部分４４ａの先端２６ｅ側の終端４４ｂが、細幅部２６ｂとテーパ部２６ｃとの境界２６ｄの対応位置ｘよりも、前記後端側に位置するよう形成される。 （もっと読む）

【課題】スロートハイトを正確に決め、且つコイルが発生する熱によってシールド層の媒体対向面側の端部が突出することを抑制する。
【解決手段】磁気ヘッドは、磁極層１６と、シールド層２０と、磁極層１６とシールド２０との間に配置されたギャップ層１８と、コイル２３を備えている。シールド層２０は、ギャップ層１８の上に順に配置された第１層２０Ａ、第２層２０Ｃ、第３層２０Ｅおよび第４層２０Ｇを有している。第１層２０Ａは、媒体対向面３０に配置された端面を有している。第２層２０Ｃは、媒体対向面３０に配置された第１の面、第１層２０Ａに接する第２の面、および第２の面とは反対側の第３の面を有している。第３層２０Ｅは、第２層２０Ｃの第３の面に接している。第３層２０Ｅと第４層２０Ｇにおける媒体対向面３０に近い各端面は、媒体対向面３０から離れた位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】トレーリングシールド形成プロセスにおいて、主磁極上のアルミナを平坦化するＣＭＰ工程の際、ディッシングによる主磁極端部エッジの欠落及び主磁極膜厚の減少を防止する。
【解決手段】主磁極を形成する前に、主磁極形成位置の外側にかさ上げ層２３を形成しておくことにより、ＣＭＰストッパ膜２７の高さを主磁極１３より高い位置に設定する。主磁極上のアルミナ膜３０をＣＭＰで研磨するとき直接主磁極に接しないため、主磁極上部エッジの欠落及び主磁極消失が生じない。 （もっと読む）

【課題】記録用のコイルの小径化を図り磁気ヘッドの小型化を図るとともに、磁気損失を抑え、すぐれた特性を備えた磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】下部層１６上にコイル１４を形成するためのめっきシード層２０を形成し、該めっきシード層をめっき給電層とする電解めっきにより、該めっきシード層上に前記コイル１４を形成する工程と、前記めっきシード層２０を表面に残した状態で、下部磁極およびバックギャップ部を形成するレジスト２４をパターン形成する工程と、該レジスト２４をマスクとして前記めっきシード層２０の露出部分を除去し、前記下部層１６における前記下部磁極およびバックギャップ部が形成される領域を露出させる工程と、該めっきシード層２０をめっき給電層とする電解めっきにより前記下部層１６に前記下部磁極とバックギャップ部とを形成する工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】形状の精度の高い磁極層を有する磁気ヘッドを実現する。
【解決手段】磁気ヘッドの製造方法は、フォトマスク４０を用いてパターニングされていないフォトレジスト層を選択的に露光する工程と、露光後のフォトレジスト層を現像して、磁極層の型を形成する工程と、型を用いて磁極層を形成する工程とを備えている。フォトマスク４０は第１ないし第３の領域４１，４２，４３を含んでいる。第１の領域４１の外縁の形状は、その外縁の投影像が、磁極層の上面の理想的な形状における外縁に沿うような形状になっている。第２の領域４２は、第１の領域４１の外縁に接し、第１の領域４１の外側に配置されている。第３の領域４３は、第１の領域４１の外縁に接することなく、第１の領域４１の内側に配置されている。第３の領域４３は、フォトレジスト層の露光時における反射光の影響によって磁極層の形状が所望の形状からずれることを抑制する。 （もっと読む）

【課題】磁気ヘッドに確実にヒータを作り込むことができ、ヒータ加熱による熱膨張を利用して磁気ヘッドと媒体面との浮上量を的確に制御することができる磁気ヘッドおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】ヒータを製造する工程として、基板の表面に二酸化ケイ素層３０を成膜する工程と、該二酸化ケイ素層の表面に、ヒータ形成層としてタンタル層３２、チタン−タングステン層３４、タンタル層３６をこの順に成膜する工程と、該ヒータ形成層の表面に、前記ヒータの平面パターンにしたがってレジスト４０をパターニングして被覆する工程と、該レジストをマスクとして前記ヒータ形成層にイオンミリングを施してヒータ２０をパターン形成する工程と、該ヒータ２０の表面にレジスト４０が被着された状態で、該ヒータの厚さよりも厚く二酸化ケイ素をスパッタリングする工程と、リフトオフにより、前記ヒータ２０の表面から、レジスト４０の外面に被着した二酸化ケイ素層４２とともに前記レジストを除去する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、十分に微細化された薄膜パターンを形成することが可能なレジストパターンの形成方法及び薄膜パターンの形成方法を提供することを目的とする。さらに本発明は、十分に高密度化されたマイクロデバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 基板１の一面上に形成され、かつパターン化され、かつ酸を供給可能なレジスト層４においてその表面４ａを、フルオロカーボン１６を含むガス雰囲気下でプラズマ処理する工程と、プラズマ処理されたレジスト層の表面に酸の存在下で架橋する樹脂組成物を付着させる工程と、レジスト層からの酸の供給により、樹脂組成物のうちレジスト層に接する部分を架橋させ、レジスト層を被覆する架橋層を形成する工程と、樹脂組成物のうち架橋層以外の部分を除去し、レジスト層とこれを被覆する架橋層とを有するレジストパターンを得る工程とを備えるレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】製造工程を高精度化および簡単化することが可能な垂直磁気記録ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】（１）開口部９１Ｋを有するレジストパターン９１（内壁９１Ｗの傾斜角度ω）を形成し、（２）ＡＬＤ法などのドライ膜形成方法を使用して開口部９１Ｋを狭めるように非磁性層１２（内壁１２Ｗの傾斜角度Φ）を形成し、（３）非磁性層１２が形成された開口部９１Ｋを埋め込むようにシード層１３およびめっき層１４を積層形成し、（４）ＣＭＰ法を使用してレジストパターン９１が露出するまで非磁性層１２、シード層１３およびめっき層１４を研磨することにより、主磁極層４０（先端部４０Ａ：ベベル角θ）を形成する。最終的な開口幅（先端部４０Ａの形成幅）がばらつきにくくなると共に、主磁極層４０の形成工程数が少なくて済む。 （もっと読む）

【課題】解像度を向上させることが可能な露光用マスクを提供する。
【解決手段】露光用マスク１０が、１つのスリット状の主透過領域１と、その主透過領域１を挟んで互いに対向するように順に配列された３組のスリット状の補助透過領域２とを有している。この露光用マスク１０を使用してレジスト膜を露光・現像することにより、２組以下の補助透過領域２を有する場合と比較して、主透過領域１のうちのスリット幅方向の端部において光強度コントラストが強くなるため、レジスト膜の露光幅が狭くなる。 （もっと読む）