【課題】リフトオフパターンを設けてリード素子を形成する工程において、リフトオフパターンを容易に除去することを可能とし、磁気ヘッドの製造工程を効率化する。
【解決手段】基板上に形成した磁気抵抗効果膜上にリード素子１２のパターンにしたがってマスクパターン１３０を形成する工程と、前記マスクパターン１３０をマスクとして、前記リード素子１２のパターンに前記磁気抵抗効果膜層をパターン形成する工程と、前記マスクパターン１３０が被着された状態において、絶縁膜１４あるいは磁性膜１６を成膜する成膜工程と、研磨パッド２０に水２２を供給して研磨する方法を利用して、前記マスクパターン１３０を除去する研磨工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パターン幅の狭い、逆台形状の主磁極を形成することが可能な磁気記録ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る磁気記録ヘッドの製造方法は、基体上に、媒体対向面側端面が逆台形状の溝を有するレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層の第１のアッシング処理を行う工程と、前記溝のコア幅方向の寸法が小さくなるように、前記レジスト層のシュリンク処理を行う工程と、前記溝内に記録用の磁極となる磁性材料層を形成する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】主磁極の製造ばらつきを抑制する。
【解決手段】ウエハに埋め込み形成されたハードマスク５２の＋Ｘ方向の端部が、ウエハ９０の＋Ｘ方向の端部に位置するようにウエハを切削した後、ＡＢＳ面とハードマスク５２との位置関係（距離ｈ）を考慮して本体部５６を＋Ｘ方向から切削することにより、ハードマスクが接している部分にネックハイト部２ａを形成する。また、ネックハイト部２ａの＋Ｘ端部がＡＢＳ面と一致するようにネックハイト部を切削する。このように、ハードマスクを用いることで、ネックハイト部を精度良く形成することができるとともに、ＡＢＳ面を考慮して本体部を切削してネックハイト部を形成し、かつＡＢＳ面に合わせてネックハイト部の長さを調整することで、ネックハイト部を所望の長さに調整することができる。 （もっと読む）

【課題】主磁極及び軟磁性膜からなるサイドシールドの高さを均一化可能な磁気ヘッドの形成方法を提供する。
【解決手段】基板上にめっきシード膜２１を形成する工程と、第１磁性膜をパターニングする工程と、第１磁性膜を有する基板上に非磁性膜２４を形成する工程と、非磁性膜２４を形成した基板上に、研磨加工の際のストッパとして作用するストッパ膜２６を形成する工程と、非磁性膜２４上の一部にストッパ膜２６を残す工程と、第１磁性膜の周囲の非磁性膜２４の一部を除去し、めっきシード膜２１が露出する溝部２２ａを形成する工程と、溝部２２ａに第２磁性膜を形成する工程と、基板の表面をストッパ膜２６まで研磨する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】異なる複数の材料が表面に設けられた膜構造体において、表面の平坦性に優れる膜構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】第１膜を設けた基板上に、第１膜を覆うように第２膜を設ける工程と、第１膜の上に設けられた第２膜の上面に、研磨の進行を規制可能な第１ストッパ膜を形成する工程と、基板の上に設けられた第２膜の上面に、研磨の進行を規制可能な第２ストッパ膜を形成する工程と、第１ストッパ膜及び第２ストッパ膜の上に第３膜を設ける工程と、第３膜を設けた後、第１ストッパ膜によって研磨の進行が規制されるまで第３膜の上面を研磨する工程と、第１ストッパ膜を除去する工程と、第１ストッパ膜を除去した後、第２ストッパ膜によって研磨の進行が規制されるまで第２膜及び第３膜の上面を研磨する工程と、第２ストッパ膜を除去する工程と有することを特徴とする膜構造体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁性膜の成膜時の表面粗さを低減し、上部磁極等を高精度に形成することを可能にする磁性積層膜およびその製造方法、ならびに磁性積層膜を用いた磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】FeとCoを含む磁性膜１０ａ、１０ｂを成膜する工程と、該磁性膜１０ａ、１０ｂの表面に平滑化処理を施す工程と、平滑化処理が施された磁性膜の表面に、不連続膜となる膜厚に磁性材１２ａあるいは絶縁材を成膜する工程とを繰り返して、磁性膜を複数層に積層することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】主磁極の形状をより高い精度で制御することができる磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】磁気誘導部２１ａから突出したフレア部２１ｂと、フレア部２１ｂに接続される先端部２１ｃを備えた主磁極２１を有する磁気ヘッドの製造方法であって、基板１の上方に主磁極２１の形状を含む本体パターンとフレア部２１ｂの側方に離間して設けられた保護パターン２１ｆとが含まれる第１の磁性体パターン３１ａを形成する工程と、第１の磁性体パターン３１ａをイオンミリングによりスリム化することにより第２の磁性体パターンに加工する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンとめっきベースとの密着性を良好にでき、めっきパターンの断面形状を正確に形成できるめっき方法および磁極形成方法を提供する。
【解決手段】めっきベース１１上に、分子接着剤であるアルコキシシリルプロピルアミノトリアジンジチオールを溶剤に溶解した溶液を塗布した後、溶剤を揮発させて分子接着剤層１５を形成する工程と、分子接着剤層１５を介してめっきベース１１上にレジスト３０を塗布し、レジスト３０を所定のパターンに露光現像してめっきベース１１の一部を露出させる工程と、めっきベース１１の露出部上に分子接着剤層１５を介してめっきする工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁気ヘッドの歩留まり及び磁気ディスク装置の記録及び再生性能の信頼性を向上させることが可能な磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】基板に鍍金ベース層を形成する工程と、前記鍍金ベース層上に、幅広部から延在する狭隘部を備えた磁性層を形成する工程と、前記磁性層の形状の幅広部と狭隘部にそれぞれ対応して、前記磁性層よりも大きいレジストパタンを前記磁性層と前記鍍金ベース上に形成する工程と、エッチングにより前記鍍金ベース層をパタニングする工程と、前記磁性層及び鍍金ベース層を覆うように絶縁層を形成する工程と、前記絶縁層上に磁性を有する補助磁性層を前記磁性層と磁気的に接続するように形成する工程とを有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録ヘッドを含む薄膜磁気ヘッドで高効率を維持するためには、コイルのピッチは一層小さくならざるを得ず、これはコイル抵抗の増大という結果を招く。コイル抵抗が大きくなると、コイルの発熱に起因して、記録再生素子の近傍が熱膨張により突出するという問題が生じる。
【解決手段】主磁極４４と磁気ヨーク（ＳＰ）４２の上部に形成された非磁性絶縁層５０をエッチングにより掘り込んで凹部５１を形成し、この凹部５１に上層コイル５４の導電層（ＣＤ２）を形成する際に、掘り込んだ分５２だけ導電層（ＣＤ２）の膜厚を厚くして、コイル抵抗を下げる。また、凹部５１の形成の際に、同時に接続タブ６０の二層目（ＷＡＳ）の一部を除去し、上層コイルの導電層（ＣＤ２）の形成と同時に、除去した部分を導電層（ＣＤ２）と同じ材料（Ｃｕ）で充填することにより、コイル全体の抵抗をさらに低減する。 （もっと読む）

【課題】コアと磁極との距離をより近づける事が可能であり、かつ、コアと磁極との間の距離を所定の範囲内に制御することが容易な熱アシスト磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】第１クラッド層３８Ａ上に、第１クラッド層３８Ａ側から順にコア層３５及び第１研磨停止層ＳＴ１を含む第１積層体Ｌ１を形成する第１積層体形成工程と、第１積層体Ｌ１をパターニングし、パターニングされた第１積層体Ｌ１の周囲に第１クラッド層Ｌ２を露出させる第１積層体パターニング工程と、露出された第１クラッド層３８Ａ及びパターニングされた第１積層体Ｌ１上に、第１クラッド層３８Ａ側から順に、第２クラッド層３８Ｂ及び第２研磨停止層ＳＴ２を含む第２積層体Ｌ２を形成する第２積層体形成工程と、第２積層体Ｌ２における第１積層体Ｌ１上に形成された突出部Ｌ２Ｐを研磨により除去する除去工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 効率的に近接場光を発生させる構造を有する熱アシスト磁気ヘッド、及び、かかる熱アシスト磁気ヘッドを高精度に製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】 コア４内を進行するレーザ光等の励起光ＬＢと、散乱体ＳＴによって散乱された散乱光が近接場光発生部８において、同位相で重畳させるため、近接場光発生部８に入射する光の強度が高くなる。高強度の励起光ＬＢの入射によって近接場光発生部８においては、強い近接場光が発生し、磁気記録媒体１０の磁気記録領域が加熱される。近接場光発生部８の隣には主磁極６Ａが位置しているため、近接場光によって加熱され保持力が低下した磁気記録領域Ｒに、主磁極６Ａから延びる磁束を与えることができ、したがって、高密度に記録を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 垂直記録磁気ヘッドの製造方法に関し、微細なネックハイトを設計通りに微細且つ精密な形状に形成する。
【解決手段】 先端部となる幅が５０乃至５００ｎｍの細い矩形状のライトポール６を埋め込むための第１の凹部３と大面積の後端部７を埋め込むための第２の凹部４とを埋込絶縁膜２に形成する際に、互いに別のマスク工程で形成する。 （もっと読む）

【課題】記録素子と再生素子との長さを高精度に調整することができ、高品質な磁気ヘッドスライダを製造することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】基体上に再生素子及び記録素子を含む磁気ヘッドを積層形成する積層形成工程と、磁気ヘッドを含む磁気ヘッドスライダが複数連なるバーブロックを切り出して再生素子及び記録素子が露出する浮上面を研磨するラッピング工程と、バーブロックから個々の磁気ヘッドスライダを切断するスライダ切断工程と、を有し、積層形成工程は、再生素子と同一層に、研磨されることによって出力値が変化する再生素子用研磨量検出センサを形成すると共に、記録素子と同一層に、研磨されることによって出力値が変化する記録素子用研磨量検出センサを形成し、ラッピング工程は、再生素子用研磨量検出センサ及び記録素子用研磨量検出センサの各出力値に基づいて研磨する。 （もっと読む）

【課題】従来の垂直磁気記録用磁気ヘッドにおいて、サイド・イレーズの問題のためオーバーハング型主磁極を採用しているが、その形成方法が複雑であり、形成した主磁極形状の精度が不十分であるという問題があった。
【解決手段】本発明の一つの形態において、オーバーハング型主磁極を２層レジストあるいは３層レジストを用いて１回のフォトリソグラフィで作製する。レジスト毎の感度の差を利用してオーバーハングの型となるレジスト・パターンを作製し、その中に主磁極の材料となる磁性材料をメッキで成長させる。レジスト感度を高精度に制御することは容易であり、オーバーハングの形状を再現性よく、高精度に作製することが可能である。 （もっと読む）

【課題】磁性膜のパターニング工程を有する磁気ヘッドの製造方法について、磁気ヘッドのコア幅を狭くすることを課題とする。
【解決手段】被加工膜４をパターニングしてコア部を形成する工程において、コア部の一側方の第１のパターンエッジ４ａを画定する第１マスク５を使用して被加工膜４をパターニングした後に、コア部の他側方の第２のパターンエッジ４ｂを画定する第２マスク６を使用して被加工膜４をストライプ状にパターニングする工程を含む。 （もっと読む）

【課題】 トラック幅を狭くしても、製造途中に主磁極の倒壊や剥離が生じにくく、かつ記録磁界の強度の低下を抑制することが可能な磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】 基板の表面上に疑似主磁極(41)を形成する。疑似主磁極は、浮上面となる面から基板表面に沿って延在する。疑似主磁極の、浮上面となる面における断面は、基板表面から遠ざかる向きに広くなっている。疑似主磁極を被覆するように、被覆膜(50,53)を堆積させる。疑似主磁極が露出するまで被覆膜の表面を平坦化した後、疑似主磁極を除去する。疑似主磁極を除去して得られた第１の凹部(42)の内面、及び被覆膜の上面を覆い、表面に第１の凹部の形状を反映した第２の凹部(60a)が形成されるように、第１の非磁性膜(60)を堆積させる。第２の凹部を充填するように、主磁極膜(62)を堆積させる。第２の凹部以外の領域上に堆積している主磁極膜を除去し、第２の凹部内に、主磁極(62)を残す。 （もっと読む）

【課題】 トラック幅を狭くしても、製造途中に主磁極の倒壊や剥離が生じにくく、かつ記録磁界の強度の低下を抑制することが可能な磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】 基板上に、該基板の表層部とはエッチング耐性の異なる材料からなる第１の膜(38)を形成する。第１の膜に、基板の表面まで達し、底面がある幅を持つ第１の溝(38a)を形成する。第１の溝の内面及び第１の膜の上面を覆い、非磁性材料からなる第２の膜(43)を、該第２の膜の表面に、該第１の溝の形状を反映して、深くなるに従って幅が狭くなる第２の溝(43b)が形成される条件で堆積させる。第２の膜の上に、磁性材料からなる主磁極層(45a)を堆積させて、第２の溝内を主磁極層で充填する。主磁極層及び第２の膜を、第１の膜が露出するまで研磨する。研磨後、第１の膜を除去し、第１の溝内に充填されていた第２の膜からなる支持部材、及び第２の溝内に充填されていた主磁極層からなる主磁極(45)を残す。 （もっと読む）

【課題】磁極層の形状精度を向上可能な薄膜磁気ヘッドの製造方法及び磁極形成用フォトマスクを得る。
【解決手段】磁極形成用のレジストパターンを形成するためのフォトマスクに、磁極部の形成領域を画定する第１露光領域と、フレア部の形成領域を画定する第２露光領域と、この第１露光領域と第２露光領域の境界位置で遮光領域に接続し、かつ、第２露光領域内に外周エッジに沿う磁極部と同一幅の第３露光領域を画成する補正パターンとを形成する。次に、上記フォトマスクを用い、第１露光領域と第３露光領域を最適フォーカス状態にしてパターン形成用レジストを露光し、その後、現像してレジストパターンを得る。そして、レジストパターンにより画定された磁極形成領域に、磁極層を形成する。 （もっと読む）

【課題】保磁力の小さな磁極膜を持つ磁気ヘッド、特に、垂直磁気ヘッド及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】スライダ２１１によって支持された記録素子１００Ｂは、非磁性膜１５と、磁極膜５０とを有している。非磁性膜１５は凹部１５０を有しており、凹部１５０の内面に、めっきシード膜として用いられた非晶質の電極膜１３がある。電極膜１３の上には、めっきによって成長させた磁極膜１４がある。磁極膜１４は、最大結晶粒径が２０ｎｍ以下である電極膜１４の上で成長させた電気めっき膜であってもよいし、または、無電解めっき膜であってもよい。これにより、磁極膜５０の保磁力を低下させる。 （もっと読む）