【課題】解像度を向上させることが可能な露光用マスクを提供する。
【解決手段】露光用マスク１０が、１つのスリット状の主透過領域１と、その主透過領域１を挟んで互いに対向するように順に配列された３組のスリット状の補助透過領域２とを有している。この露光用マスク１０を使用してレジスト膜を露光・現像することにより、２組以下の補助透過領域２を有する場合と比較して、主透過領域１のうちのスリット幅方向の端部において光強度コントラストが強くなるため、レジスト膜の露光幅が狭くなる。 （もっと読む）

【課題】トラック規定部の媒体対向面からの長さが、ヘッド製造工程での公差によりばらついた場合、記録磁界が変化し、それに伴い媒体上に記録されるトラック幅が変化する。
【解決手段】磁気ヘッド１の主磁極３２は、平面形状が台形形状のトラック規定部３２１と、更に台形形状を有する磁束導入部３２２とで構成される。ここで、トラック規定部３２１は、浮上面（ＡＢＳ）と平行な幅が、ハイト方向の長さに対して１０〜２０％の割合で広がる形状をなしている。１０〜２０％の割合は、ヘッド製造工程での公差（±５％）によりばらつく場合を考慮し、形状を正確に制御できる範囲である。 （もっと読む）

【課題】銅めっきのシード層を形成後、めっき膜の形成工程までの保管期間中に、シード層の腐食を防止して良質なめっき膜を形成する。
【解決手段】銅からなるシード層２を形成後、シード層２を硫化処理してシード層２の表面に銅の硫化物からなる保護膜３を形成する。この状態でシード層２を保管する。その後、保護膜３を除去してシード層２を露出させ、シード層２を電極としてめっき膜７を形成する。保護膜３が形成されたシード層２は、腐食ガスが混入した雰囲気でも腐食することなく保管することができる。さらに、保護膜３をアルカリ溶液等で除去して表出したシード層２をめっき用電極として利用し、良質のめっき膜７を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】下部メタル層の上に上部メタル層を精度良く形成でき、且つ、層間接続部の電気抵抗を低減できる薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を得る。
【解決手段】薄膜の積層構造からなり、この積層構造中に、下部メタル層の上に上部メタル層を積層したメタル積層部を有する薄膜磁気ヘッドにおいて、メタル積層部の下部メタル層と上部メタル層の層間接続面を、下部メタル層側に窪ませた凹面形状とした。 （もっと読む）

【課題】磁性部の下地となるコイル絶縁層に突起等の形状異常が発生しない薄膜磁気ヘッドを提供すること。
【解決手段】主磁極２０を囲み、主磁極２０上のギャップ層の上に、対向面からハイト方向に所定距離離してトラック幅方向に延びるスロートハイト決め層２８が形成され、該スロートハイト決め層２８よりもハイト方向の絶縁層の上面に第２コイル層２５が形成され、スロートハイト決め層２８および第２コイル層２５の上に、主磁極２０のハイト方向側の端部を露出させてコイル絶縁層２６が形成され、該コイル絶縁層２６および露出した主磁極２０の上にリターンヨーク層２７が形成される薄膜磁気ヘッドであって、コイル絶縁層２６に、記録媒体対向面１０ａ側に、対向面１０ａに沿った主磁極２０の両側付近から対向面１０ａからの距離が長くなるハイト方向に傾斜する傾斜部２６ｂを形成した。 （もっと読む）

【課題】 ギャップ間隔を高精度に規定できる垂直磁気記録ヘッドの製造方法を得る。
【解決手段】 先ず、主磁極層上に、非磁性材料からなる下部ギャップ層を所定のギャップ間隔に等しい膜厚で形成する。次に、下部ギャップ層上に、現像液に腐食されず且つ該下部ギャップ層よりもエッチングされやすい非磁性材料で上部ギャップ層を形成する。続いて、上部ギャップ層上にレジスト層を形成し、フォトリソグラフィ技術により媒体対向面となる端面から所定のスロートハイトが得られる位置までレジスト層を除去する。続いて、メッキ前処理（ドライエッチング）を行い、レジスト層の表面酸化層を除去して新たな膜面を露出させるとともにレジスト層で覆われていない上部ギャップ層を除去し、下部ギャップ層を露出させる。そして、露出させた下部ギャップ層、上部ギャップ層及びレジスト層の上にメッキ下地膜を介してリターンパス層をメッキにより形成する。 （もっと読む）

【課題】コイル電流及び環境温度起因で発生する垂直磁気記録ヘッドのＴＰＲ（サーマルプロトリュージョン）を低減する。
【解決手段】コイル絶縁材料１３に熱膨張率が低く、加工性の良いＳｉＯ_２等を用いる。ＳｉＯ_２等は浮上面から離して配置し、かつ、ドライエッチ等の物理エッチングを適用した低抵抗コイル８とし、浮上面はアルミナとすることにより、スライダー加工を容易にしするのに加えて、垂直磁気ヘッドのコイル抵抗および環境温度によるＴＰＲ（サーマルプロトリュージョン）を低減した。 （もっと読む）

【課題】 ＭＲハイトおよびネックハイトの双方を高精度に決定することが可能な薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】 複数の薄膜磁気ヘッド前駆体１１０と、複数の再生ヘッド部用ＲＬＧセンサ２００と、複数の記録ヘッド部用ＲＬＧセンサ３００とを含むように複数の薄膜磁気ヘッドバー６００を形成する。再生ヘッド部用ＲＬＧセンサ２００（副抵抗膜パターン２０１Ａ）を使用して薄膜磁気ヘッドバー６００をプレ研磨し、引き続き再生ヘッド部用ＲＬＧセンサ２００（副抵抗膜パターン２０１Ａ）および記録ヘッド部用ＲＬＧセンサ３００（副抵抗膜パターン３０１Ａ）の双方を使用して薄膜磁気ヘッドバー６００の研磨面の傾きを検出・調整したのち、再生ヘッド部用ＲＬＧセンサ２００（主抵抗膜パターン２０１Ｂ）を使用して薄膜磁気ヘッドバー６００を仕上研磨することにより、エアベアリング面を形成する。 （もっと読む）

【課題】 浮上面における主磁極の幅をトレーリング側で広く、リーディング側で狭い形状とした場合に主磁極と主磁極を囲むシールドとの間の非磁性膜の厚みを適切に制御した垂直磁気記録ヘッドを実現する。
【解決手段】 主磁極(12)と主磁極の上面及び側面に非磁性膜(30)を介して配置されたシールド(13)とを具備する磁気ヘッドにおいて、非磁性膜の少なくとも一部を金属膜とし、めっきで形成する。さらに、非磁性膜(30)は、金属膜(22)と絶縁膜(24)とを具備する。 （もっと読む）

【課題】トラック密度の向上に伴い、高密度記録と漏れ磁界低減を同時に満足させることが困難となってきた。
【解決手段】記録ヘッド先端部は、下部磁極主層１４、下部磁極先端層１６、突起部２６、記録ギャップ層２８、上部磁極先端層３４および上部磁極上層４６で構成される。突起部２６は高飽和磁束密度Bsの軟磁性材からなり、下部磁極先端層１６よりも高い飽和磁束密度Bsを有し、上部磁極先端層３４のトラック幅Twとほぼ同一の幅を有する。下部磁極先端層１６の飽和磁束密度Bsが約２．２Tの場合、突起部２６の飽和磁束密度Bsは２．４T程度にするのが望ましい。また、突起部２６の奥行きLnは、実質的にスロートハイトを決定している下部磁極先端層１６の奥行きGdよりも長い。 （もっと読む）

【課題】オーバライト特性の更なる向上を図ることができる薄膜磁気ヘッド用構造物及びその製造方法並びに薄膜磁気ヘッドを提供すること。
【解決手段】薄膜磁気ヘッド用構造物の製造方法は、絶縁層１０を用意する工程と、極細溝部に対応する第１のスリットパターン５１ａと、第１のスリットパターン５１ａから一体的に延びると共に、本体凹部の外縁に沿うように極細溝部から一体的に延びる仮設溝部に対応する第２のスリットパターン５１ｂとが設けられた第１レジスト層５１を絶縁層１０上に形成する工程と、第１レジスト層５１をマスクとして絶縁層１０のエッチングを行う工程と、第１レジスト層５１を除去する工程と、本体凹部に対応する開口パターンを有する第２レジスト層を絶縁層１０上に形成する工程と、第２レジスト層をマスクとして絶縁層１０のエッチングを行う工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストの塗布ムラを低減し、密着性を向上し得る薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】 フォトレジスト法を用いてパターン化された薄膜を形成するに当たり、パターン化前の薄膜２００の一面を、乳酸エステルを含有する処理液３００で処理し、その後に、フォトレジストマスクを形成する。乳酸エステルとしては、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸メチルから選択された少なくとも一種を用いることができる。薄膜２００は、一面に水酸基を含むもの、具体的には、Ａｌ₂Ｏ₃を主成分とするものが適している。 （もっと読む）

【課題】サーマルアスペリティやクラッシュを回避し、経年変化悪影響を受けずに、電磁コイル素子内におけるボイドの発生を確実に抑制する。
【解決手段】下部磁極層と、上部磁極層と、下部磁極層及び上部磁極層に磁束を誘導するためのコイル層と、少なくともこのコイル層の巻線パターン間に埋められている、形成時に流動性を有する絶縁材料からなる下部コイル絶縁層と、コイル層及び下部コイル絶縁層を覆う上部コイル絶縁層とを有する書き込み用の電磁コイル素子を備えており、下部コイル絶縁層の層厚Ｔ_ＵＩが、（０.８９Ｔ_Ｃ−０.４５Ｄ_ＣＰ）≦Ｔ_ＵＩ＜Ｔ_Ｃ（但し、巻線パターンのパターン間隔をＤ_ＣＰとし、コイル層の層厚をＴ_Ｃとし、さらに０＜Ｄ_ＣＰ＜１.９７Ｔ_Ｃとする）の条件を満たした薄膜磁気ヘッドが提供される。 （もっと読む）

【課題】スキューに起因した問題の発生を防止でき、且つ多くの磁束を媒体対向面まで導くことができる磁極層を精度よく形成する。
【解決手段】磁極層１６は、媒体対向面３０に配置された端面を有する第１の部分１６Ｃと、第１の部分１６Ｃよりも大きな厚みを有する第２の部分１６Ｄを有している。第１の部分１６Ｃにおける基板１に近い面１６Ｃ１は、第２の部分１６Ｄにおける基板１に近い面１６Ｄ１よりも基板１から遠い位置に配置されている。第１の部分１６Ｃにおける基板１から遠い面１６Ｃ２は、第２の部分１６Ｄにおける基板１から遠い面１６Ｄ３よりも基板１に近い位置に配置されている。磁極層１６の少なくとも一部は、第１の収容層５１、第２の収容層１２および非磁性金属層１３にわたって形成された収容溝５５に収容されている。 （もっと読む）

【課題】磁界強度を減少させずにトラック幅方向の磁界分布の広がりを抑制できる磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】主磁極を記録トラック幅を規定する部分を有するポールチップ１Ｂと、浮上面より素子高さ方向に後退したヨーク部分１Ａから構成し、ポールチップのトレーリング側面をトラック中心に対して非対称構造とする。 （もっと読む）

【課題】 レジストパターンを使用してめっきにより垂直磁気記録ヘッドの主磁極を形成するといった場合に、レジストパターンに親水処理を施してもパターン幅が広がったりする変形を生じさせることなく、パターンの狭幅化、微細化を達成することができるめっきパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 めっきシード層１１の表面にレジストを被着し、該レジストを露光および現像して底面に前記めっきシード層１１が露出する所定パターンの凹部３０ａが設けられたレジストパターン３０を形成する工程と、レジストパターンに親水処理を施す工程と、レジストパターン３０に親水処理を施した後、めっきにより前記凹部３０ａ内にめっき３２を被着させる工程と、めっき後に前記レジストパターン３０を除去し、次いで前記めっきシード層１１の露出する部位を除去する工程とを備えるめっきパターンの形成方法において、前記めっきシード層１１として、前記親水処理の際に酸化され、酸化物が揮発性を有する金属からなる揮発性金属層を設ける。 （もっと読む）

【課題】 １枚のウェハー上に積層される複数個の素子に対する露光むらを防止して、微細なレジストパターンを一律に且つ高精度に形成することができるレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 感光性レジスト膜２上において複数個の素子を含む露光範囲４Ａを設定し、露光範囲４Ａ内において複数の分割露光範囲４を設定し、各分割露光範囲４における露光状態を判別する工程、上記判別された露光状態に応じて、各分割露光範囲４内の複数の素子に対し一律に露光可能とするように表面上に形成された遮光領域と、表面のうち遮光領域以外の領域に形成されたマスクパターンとを有する複数種類のレチクルを準備する工程、複数種類のレチクルのマスクパターンに順次光を通し、各分割露光範囲４を露光することにより、各分割露光範囲４に各マスクパターンに対応したパターンを転写する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンのパターニング時に既存の露光装置におけるＡｒＦエキシマレーザー光等の光源をそのまま使用可能であり量産性に優れ、レジストパターンの材料や大きさに対する依存性がなく、レジスト抜けパターンを前記光源の露光限界を超えて微細にかつ均一に、表面のラフネスを低減した状態で、安定に製造可能なレジストパターンの製造方法、半導体装置の製造方法等の提供。
【解決手段】本発明のレジストパターンの製造方法は、レジストパターンを形成後、該レジストパターンの表面を覆うように、樹脂と、架橋剤と、含窒素化合物とを含有するレジストパターン厚肉化材料を塗布することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】 下側レジストパターンと、上側レジストパターンと、下側レジストパターン及び上側レジストパターン間に設けられたセパレータパターンとを含むレジストパターンの形成方法は、下側レジストパターンを、ポジ型レジスト材料、ＮＱＤノボラックレジスト材料、一体型ＮＱＤノボラックレジスト材料、疎水性一体型ＮＱＤノボラックレジスト材料、又はポリヒドロキシスチレン系樹脂を主成分とするレジスト材料によって形成する。 （もっと読む）

【課題】
狭トラックで高周波特性に優れた垂直磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】
コイル導体と、それを挟む磁極を有する記録ヘッドにおいて、主磁極を平坦な構造とし、それと磁気的結合に接続された磁性膜を膜厚方向に湾曲させる構成とする。また、主磁極近傍に設けたシールド材を再生シールドの材料より高抵抗の材料とする。 （もっと読む）