【課題】 ブロック共重合体と電気めっき用ハードマスクを用いた、パターニングされた磁気記録ディスクのナノインプリント加工用マスタディスクの作製方法を提供する。
【解決手段】 パターニングされた媒体ディスクを作製するためのナノインプリント工程用のマスタディスクの作製方法は、導電基板と、ブロック共重合体の、ブロック共重合体成分の１つの、略半径方向の線および／または略同心円状の輪のパターンを形成する誘導自己組織化を利用する。基板上の、線および／または輪によって保護されていない領域内に金属を電気めっきする。ブロック共重合体成分を除去した後に、残っている金属のパターンをエッチングマスクとして使用して、最終的なマスタディスクまたは、後にマスタディスクの製造に使用される２つの別々のモールドのいずれかを製造する。 （もっと読む）

【課題】アルミナ突き刺さりを低減できる磁気ディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】下記（１）〜（４）の工程を有する、磁気ディスク基板の製造方法。
（１）アルミナ粒子及び水を含有する研磨液組成物Ａを用いて被研磨基板の研磨対象面を研磨する工程、
（２）平均一次粒子径（Ｄ５０）が５〜６０ｎｍであり、一次粒子径の標準偏差が４０ｎｍ未満であるシリカ粒子及び水を含有する研磨液組成物Ｂを用いて前記工程（１）で得られた基板の研磨対象面を研磨する工程、
（３）工程（２）で得られた基板を洗浄する工程、
（４）シリカ粒子及び水を含有する研磨液組成物Ｃを用いて工程（３）で得られた基板の研磨対象面を研磨する工程。 （もっと読む）

【課題】ディスクリートトラック構造の精度を良好に保ち、良好なトラック間の磁気分離性能を有しながら、かつ簡便な方法で製造でき、生産性に優れたディスクリートトラック構造の製造方法を提供することにある。
【解決手段】非磁性基板上にアルミニウム膜を形成し、陽極酸化により自己組織的にナノホールを有するアルミナ層を形成し、記録トラック領域が露出したレジストパターンを形成し、記録トラック領域のナノホールに磁性材料を成膜する工程を備えたことを特徴とする。
ナノインプリント法により、ナノホールを形成する位置に凹部を形成する工程をさらに備えることが好ましい。チタンからなる第１下地層と金からなる第２下地層をさらに備えることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＢを利用し、しかも内周から外周にわたり均一でしかも効率よく配列することが可能なＡＮＨを用いた磁気記録媒体の作製方法を提供する。
【解決手段】円板状の非磁性体基板上に少なくとも中間層を形成し、中間層の上にアルミニウム層を形成する工程と、収束イオンビームを照射してアルミニウム層表面に同心円状の複数の微小溝を設ける工程と、前記アルミニウム層を陽極酸化することによりアルミニウム層をアルミナ層に変換させると同時にアルミナ層に複数のナノホールを形成し、中間層を露出させる工程と、ナノホール内の露出した中間層の上に磁性体金属を選択的に堆積し、複数の磁性体記録要素を有する磁気記録層を形成する工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉ原盤の凹凸形状に成膜した複版を凸部に欠けが生じることなく剥離し得るモールドおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】表面に微細な凹凸パターンを有するモールド１０の製造方法において、凹凸パターンを有するＳｉ原盤２６の表面に、イオン化傾向が水素よりも小さい金属、例えば、Ｐｔ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｕ、ＲｕおよびＰｄから選ばれる少なくとも一種の金属を含む金属膜からなる剥離層１６を形成する剥離層形成工程と、剥離層１６の形成後にモールドを構成する金属基板１２を電鋳形成する電鋳工程と、電鋳工程の後、剥離層１６と金属基板１２とを備える複版をＳｉ原盤２６から剥離する剥離工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】熱安定性が維持された上での反転磁界の強度について高い低減効果が得られる磁気記憶媒体を製造することができる現実的な磁気記憶媒体製造方法と、そのような磁気記憶媒体製造方法で製造される磁気記憶媒体と、そのような磁気記憶媒体を搭載した情報記憶装置とを提供する。
【解決手段】磁気記憶媒体製造方法において、非磁性材料のディスク基板２２０に、各々の底の一部にナノホール２３３を有した複数の窪み２３１を並べて形成する窪み形成過程（ステップＳ１０２）と、この窪み形成過程で形成された各窪み２３１の底のナノホール２３３内に硬磁性材料を充填する第１充填過程（ステップＳ１０３）と、窪み２３１の中の、第１充填過程（ステップＳ１０３）で充填された硬磁性材料の上に、その硬磁性材料の保磁力よりも小さな保磁力を有する軟磁性材料を、窪み２３１の底を少なくとも覆うまで充填する第２充填過程（ステップＳ１０４）とを行う。 （もっと読む）

【課題】下地層を薄くしても高配向で、形状劣化のない磁性層が得られ、信号品位に優れる磁気転写用マスター担体及びその製造方法などの提供。
【解決手段】配向基材と、前記配向基材上に形成された下地薄層と、該下地薄層上に形成された磁性層とを有する磁気転写用マスター担体の製造方法であって、パターニングされたケイ素基板のパターン側表面を熱処理する導電層形成前熱処理工程と、該熱処理後のケイ素基板上に、Ｎｉ導電層を形成する導電層形成工程と、該導電層を有するケイ素基板上に、Ｎｉめっきを施し、基材を形成するめっき工程と、前記基材を、前記ケイ素基板から剥離させる剥離工程とを含む磁気転写用マスター担体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターンの形状安定性に優れた転写用原盤を得る。
【解決手段】微細な凹凸状パターンが形成された原盤(26)の表面に、密度７．５〜８．９ｇ／ｃｍ^３の導電性膜（Ｎｉ膜）による初期層(16)を形成し、その後、電鋳法により金属層(28)を形成する。こうして、少なくとも初期層(16)と金属層(28)の２層を有して一体となった複版(30)を原盤(26)から剥離し、金属層(28)の凹凸面に初期層(16)が積層形成された複版(30)である転写用原盤を得る。磁気転写用マスターディスク、ディスクリート・トラック媒体（ＤＴＭ）用のモールド、光ディスク用のスタンパーなど様々な転写用原盤に適用できる。 （もっと読む）

【課題】バリの発生が少ないモールドを効率的に作製することが出来るモールドの製造方法を提供する。
【解決手段】電鋳法によって作製した、表面に微細な凹凸パターンを有する原盤をインプリント装置で使用可能な寸法に加工する際、打抜き加工機によって原盤に塑性変形を生じさせて薄肉部を形成し、表面に保護膜を形成した後、エッチング液によって薄肉部を溶解してナノインプリントモールドを原盤から分離することを特徴とするモールドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】スタンパの打ち抜き加工の際、スタンパの切断面にバリが全く発生しないこと。
【解決手段】スタンパ原盤１２が、下敷部材１０を介して固定側打ち抜きダイ２０の刃部２０Ｂに載置された後、押出プレート１４により押圧された状態で、スタンパ原盤１２が、可動側打ち抜きダイ１８の刃部１８Ｅで下敷部材１０とともに剪断されるもの。 （もっと読む）

【課題】ＲＲＯの発生を抑制できるスタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】プリアンブル部、アドレス部およびバースト部を含むサーボ領域およびディスクリートトラックを含むデータ領域に対応する磁性パターンを有する磁気記録媒体を製造するために用いられるスタンパを製造する方法であって、原盤上に、プリアンブル部、アドレス部およびバースト部を含むサーボ領域およびディスクリートトラックを含むデータ領域に対応するレジストパターンを形成する際に、前記プリアンブル部および／またはアドレス部に、半径方向に沿って凸部と凹部とが交互に現れるような追加のレジストパターンを形成し、前記原盤およびレジストパターンの全面に導電膜を成膜した後、電気鋳造を行って金属層を成長させ、前記金属層を原盤から剥離することを特徴とするスタンパの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ナノホール内に充填された磁性体に多層化された磁性層を形成する場合における各層の高さのばらつきを抑制し、もって特性ばらつきを抑制することができる磁気記録媒体及びその製造方法の提供。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、基板の上に基材を形成する基材形成工程と、前記基材にナノホールを形成するナノホール形成工程と、前記ナノホール内に磁性体を充填する磁性体充填工程と、前記ナノホールからあふれた磁性体を研磨する研磨工程と、前記研磨工程における研磨面から前記基板側に向かって、前記基材にイオンを注入するイオン注入工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁性ドットが、分離形成されたパターンド媒体形式の磁気記録媒体に関し、磁性ドットの間隔を狭くしても、サイドイレーズを抑圧する。
【解決手段】磁気記録媒体（３）の軟磁性下地層（３２）上に、非磁性層（３４）を介し、磁性ドット（３６）と軟磁性層（３８）を設け、軟磁性層（３８）で、磁性ドット（３６）を分離する。磁性ドット（３６）への記録時の漏れ磁束を、軟磁性層（３８）が吸収し、サイドイレーズを抑圧でき、且つ軟磁性下地層（３２）と、軟磁性層（３８）とが、分離しているため、記録再生特性への影響を防止できる。 （もっと読む）

【課題】電極層上に位置する領域に形成されたナノホールについては充填状態とし、絶縁層上に位置する領域に形成されたナノホールについては非充填とすることができ、もってナノホールの充填状態を制御することができるナノホール構造体及びその製造方法の提供。
【解決手段】本発明のナノホール構造体の製造方法は、基板の上に電極層を形成する電極層形成工程と、前記電極層上の一部に絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、前記電極層及び前記絶縁層を覆う基材を形成する基材形成工程と、前記基材にナノホールを形成するナノホール形成工程と、前記電極層上に位置する領域に形成されたナノホール内に電気メッキ法にて金属を充填する金属充填工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】磁気薄膜構造体、磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に遷移金属窒化物で下地層を形成し、下地層上に磁気異方性エネルギーが１０^６ないし１０^８ｅｒｇ／ｃｃである磁性物質からなり、単位記録領域である複数の磁性ドットを備える磁気記録媒体及びその製造方法である。ドットをなす磁性物質は、Ｌ１_０構造を有する。下地層は、磁気記録層と対向する結晶面が（００１）面である。下地層は、磁気記録層と５ないし１５％の格子不整合を有する。 （もっと読む）

【課題】成膜した薄膜の表面平滑性が改善されたアルミニウム薄膜から形成されるアルミナナノホールアレイの作製方法、より好ましくはアルミナナノホールを形成するための窪み形成圧力の低減を図ることができるアルミナナノホールアレイの作製方法、及び該アルミナナノホールを用いた磁気記録媒体の作製方法の提供。
【解決手段】（ｉ）−８０℃以下の基板温度で、基板上に形成されたアルミニウム薄膜を陽極酸化することを特徴とするアルミナナノホールアレーの作製方法、（ｉｉ）より好ましくは、前記陽極酸化工程の前に、さらにモールド及び前記アルミニウム薄膜を１５０〜２００℃の温度に保ちながらテクスチャリング工程を行うことを特徴とするアルミナナノホールアレーの作製方法。 （もっと読む）

【課題】原盤表面の清浄度が大幅に向上し、極微細パターンの損壊のない状態で原盤を繰り返し再生して再利用することができるモールドの製造方法及び該モールドの製造方法により製造されたモールドの提供。
【解決手段】ＦＷＨＭ（Ｆｕｌｌ Ｗｉｄｔｈ ａｔ Ｈａｌｆ Ｍａｘｉｍｕｍ）で定義される線幅が５０ｎｍ以下の凹凸パターンを有する電鋳対象物を硫酸過水で洗浄する洗浄工程と、洗浄済みの電鋳対象物を用いて電鋳により表面に凹凸パターンを有する電鋳物を形成する電鋳工程とを含み、電鋳時の電鋳浴の温度をｔ１（℃）とし、洗浄時の硫酸過水の温度をＴ（℃）とすると、次式、ｔ１−２０℃≦Ｔ≦ｔ１＋２０℃を満たすモールドの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】炭素を含むシリコン系酸化物を用いた絶縁膜の形成方法において、クラックの発生を抑制する。
【解決手段】基板２の上に導電層３を形成した後、インクジェット法により、炭素を含むシリコン系酸化物を含むインクを塗布する。次いで、真空中でインクに対して第１の熱処理を行い、インクに含まれる炭素成分を除去する。その後、第２の熱処理を行って隔壁５を形成する。第１の熱処理は、８０℃〜１００℃の温度で行うことができる。また、第２の熱処理は、３００℃〜４００℃の温度で行うことができる。炭素を含むシリコン系酸化物は、アルキルシルセスキオキサン、アルキルシロキサンまたはオルガノポリシロキサンとすることができる。 （もっと読む）

【課題】スタンパに高い圧力かけた場合にもスタンパが歪むことのなく、パターンの相関位置関係が崩れない複製スタンパおよびその製造方法ならびにそのスタンパを用いて製造される磁気記録媒体が搭載される磁気記録装置を提供することを可能にする。
【解決手段】凹凸形状のパターンを有する第１スタンパの表面を洗浄した後に、第１スタンパの表面に第１離型層を形成する工程と、第１スタンパの少なくとも凹凸形状のパターンを有する領域の第１離型層上に選択的に第１転写層を形成する工程と、Ｎｉ電鋳法により第１スタンパの第１転写層を覆うように第１電鋳層を形成する工程と、第１スタンパから前記第１電鋳層および前記第１転写層を剥離することにより、凹凸形状が反転した、第１電鋳層と第１転写層とが一体化した凹凸形状のパターンを有する第２スタンパを形成する工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】第１強磁性薄膜とＮｉを主成分とする第３強磁性厚膜間の密着力を向上させ、磁性層破損の生じない磁気転写用マスター担体を提供する。
【解決手段】所望の情報に応じた凹凸パターンを表面に有する基板に対して、該基板の凹凸パターン上に第１強磁性薄膜（Ｆ１）を形成し、この第１強磁性薄膜（Ｆ１）上に該第１強磁性薄膜（Ｆ１）を電導層として第３強磁性厚膜（Ｆ３）を電気メッキにより形成し、これを前記凹凸パターンを有する基板から剥離することで転写情報担持面の形成された磁気転写用マスター担体を得る磁気転写用マスター担体の製造方法であって、基板表面に凹凸パターンをレジストにより形成し、第３強磁性厚膜（Ｆ３）を、凹凸パターンによる凹凸を有する第１強磁性薄膜（Ｆ１）上に形成し、基板から剥離した後に第１強磁性薄膜（Ｆ１）に付着したレジストを除去することで凹凸状の転写情報担持面を形成する。 （もっと読む）