【課題】磁気記録媒体をホットロール面に所定の距離にわたって均一に接触させて熱処理する場合において、ホットロールにおける熱処理が終了した後、磁気記録媒体は、常温にさらされるため、急激な温度変化によって、さらにしわが発生し、カッピングが生じる。
【解決手段】互いに温度差のある少なくとも２つのホットロールと、少なくとも１つのニップロールとの間に磁気記録媒体を移送してホットロールによる熱処理を行う工程を有し、
前記少なくとも２つのホットロールを熱伝導性の良い金属ベルトで繋いだ状態で、前記熱処理を行う。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉ原盤の凹凸形状に成膜した複版を凸部に欠けが生じることなく剥離し得るモールドおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】表面に微細な凹凸パターンを有するモールド１０の製造方法において、凹凸パターンを有するＳｉ原盤２６の表面に、イオン化傾向が水素よりも小さい金属、例えば、Ｐｔ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｕ、ＲｕおよびＰｄから選ばれる少なくとも一種の金属を含む金属膜からなる剥離層１６を形成する剥離層形成工程と、剥離層１６の形成後にモールドを構成する金属基板１２を電鋳形成する電鋳工程と、電鋳工程の後、剥離層１６と金属基板１２とを備える複版をＳｉ原盤２６から剥離する剥離工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】２層以上の磁気記録層を有する磁気記録媒体の耐食性を向上させてコバルト溶出を抑制する。
【解決手段】非磁性体基板上に形成された２層以上の磁気記録層と、前記２層以上の磁気記録層上に形成されたカーボン系保護層とを有し、前記２層以上の磁気記録層のうち最上層の磁気記録層は、それより下層の磁気記録層より高い硬度を有することを特徴とする磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】高硬度で緻密な炭素膜を形成することが可能な炭素膜の形成方法を提供する。
【解決手段】減圧された成膜室１０１内に炭素を含む原料の気体Ｇを導入し、この原料の気体Ｇを、通電により加熱されたフィラメント状のカソード電極１０４と、その周囲に設けられたアノード電極１０５との間で放電によりイオン化し、このイオン化した気体を基板Ｄの表面に加速照射するときに、永久磁石１０９による磁場を印加することによって、基板Ｄの表面に向かって加速照射されるイオン化した気体のイオン密度を高めて、この基板Ｄの表面に硬度が高く緻密性の高い炭素膜を形成することができる。 （もっと読む）

【解決課題】 充分な耐衝撃性を有し、加工プロセスや磁気記録層の成膜プロセスを複雑なものとすることがなく、表面平坦性に優れ、しかもコストダウンを可能とする磁気記録媒体用Ｓｉ基板を提供すること。
【解決手段】 粗研磨（Ｓ６）後の多結晶シリコン基板表面に熱酸化により酸化膜を形成（Ｓ７）した後、ＣＶＤやスパッタなどの気相系成膜処理もしくはシリコーン系材料やオルガノシリカを含有する液剤を塗布して段差や結晶粒界部分を遮蔽する平滑な薄膜とした後、この薄膜を適度な温度で熱処理して有機成分を気散させることでＳｉやＳｉＯ_２膜を形成し（Ｓ８）、このＳｉ膜、ＳｉＯ_２膜に対してＣＭＰ研磨等の精密研磨（Ｓ９）を施して基板の平坦性を高めることとした。これにより、多結晶粒の結晶方位の違いや結晶粒界の存在には影響を受けずに平坦で平滑な表面（ウェビネスとマイクロウェビネスの２乗平均値が何れも０．３ｎｍ以下）を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】十分な耐久性、信頼性を有する垂直磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】基体１１０上に、磁気記録層１２２、媒体保護層１２６および潤滑層１２８をこの順に備える垂直磁気記録媒体１００の製造方法において、潤滑剤を塗布した磁気ディスクに、１０ｎｍ以下の押し込み深さによる押し込み硬さ試験を行う押し込み硬さ試験工程と、押し込み硬さ試験によって求められた弾性変形比が５０〜８５％である場合に潤滑剤で潤滑層を成膜する潤滑層成膜工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単な構成でドロップレットをより確実に排除することができる成膜装置及び成膜方法並びに磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録装置の製造方法を提供する。
【解決手段】グラファイトからなる筒状のアノード電極２４の内側に、グラファイトからなるカソード電極２１が配置される。アノード電極２４とカソード電極２１との間に電源２６から電力が供給し、アーク放電を発生させてカソード電極２１の周囲に炭素イオンを含むプラズマを生成する。このプラズマは、アノード電極２４に設けられた開口部を介して外部に出て、コイル２５による磁場で進行方向が曲げられ、基板まで搬送される。そして、プラズマ中の炭素イオンが基板の面上に堆積してＤＬＣ膜が形成される。一方、アーク放電により発生したドロップレットは、磁場の影響を殆ど受けず、プラズマの搬送方向とは無関係の方向に飛散して、ＤＬＣ膜に付着することが回避される。 （もっと読む）

【課題】強磁性領域及び反強磁性領域の境界が狭くかつ強磁性から反強磁性への変化あるいは反強磁性から強磁性への変化が急峻であり、高密度化及び磁気ビット間の磁気分離が可能であり、表面性の劣化を抑制することができるパターンド媒体を提供すること。
【解決手段】デジタル磁気記録において用いられる磁気記録媒体において、非磁性の基板上に堆積された磁気記録層が、面内方向について、互いに反強磁性領域で分離された複数の強磁性領域を含んでなるように構成する。 （もっと読む）

【課題】カーボン保護層に対する潤滑剤の付着率を向上させ、マイクロスクラッチや磁気ヘッドへの潤滑剤の移着が生じない、磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基体上に、カーボン保護層２６、潤滑層２８をこの順序で備える磁気記録媒体１００の製造方法において、カーボン保護層２６の表層に、ＲＦ（Radio Frequency）プラズマ法によって、水酸基（ＯＨ⁻）と結合可能な窒素を添加する添加工程と、潤滑層２８を、水酸基を含むパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）で成膜する潤滑層成膜工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性および耐腐食性に優れた二重保護層を備えた磁気記録再生ヘッドまたは磁気ディスクおよびそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】 磁気記録再生ヘッド１０または磁気ディスク２０の清浄化された表面に、シリコン酸化窒化物（ＳｉＯ_xＮ_y）からなる密着性向上のための下地層１８０（２８０）と、ＤＬＣ層１９０（２９０）とからなる２層構造保護膜を形成する。ｘは０．０２〜２．０の範囲、ｙは０．０１〜１．５の範囲とすることが好ましい。下地層１８０（２８０）のｘ，ｙの値を適切に調整することにより、基板とＤＬＣ層との間の強い化学的結合、優れた耐摩耗性および耐腐食性、化学的・機械的安定性、および低い導電性が得られる。 （もっと読む）

【課題】非磁性基板上に、磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体において、従来の物理的な磁気層加工型と比較しその磁性層除去工程を排除することにより格段に製造工程を簡略化し、かつ汚染リスクが少なく、表面の平滑性が高い製造方法と、ヘッド浮上特性に優れた有用なディスクリートトラック型磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基板上に磁性層を形成した後、その磁性層に部分的に原子を注入し、磁性層の原子を注入した箇所を非磁性化または非晶質化することにより、磁気的に分離した磁気記録パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、磁性層に部分的に原子を注入する工程が、磁性層を形成した後に表面にレジストとしてＳＯＧ（スピン・オン・グラス）膜を塗布し、そのレジストを部分的に除去または膜厚を薄くし、その表面に原子を照射することにより、レジストを除去または薄くした箇所を通して磁性層に部分的に原子を注入する工程を含む構成とする。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターンの記録層を有し、表面が充分に平坦で、記録／再生特性が良好な磁気記録媒体を製造できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】連続記録層をエッチングして所定の凹凸パターンの記録層３２を形成しつつ、除去された材料で記録層３２の凸部である記録要素３２Ａの上部近傍に記録要素３２Ａの上面よりも基板１２と反対側に突出する突出部４２を形成し、記録層３２の上に充填材３６を成膜して記録要素３２Ａの間の凹部３４を充填し、平坦化のために余剰の充填材３６及び突出部４２を除去し、且つ、除去された突出部４２の成分の検出に基いて加工を停止する。 （もっと読む）