【課題】非磁性基板１上に磁性層３を有しこの磁性層３上に保護層４を有する磁気ディスク１０の製造方法において、保護層４の膜厚を５ｎｍ以下とした場合においても、この保護層４の耐久性、特に、耐ＬＵＬ特性を優れたものとする。
【解決手段】保護層４を、カーボンを主成分としてプラズマＣＶＤ法により成膜する。この保護層４の成膜を、常温乃至２５０°Ｃ以下の環境下で行う。より好ましくは、この保護層４の成膜を、常温乃至１５０°Ｃ以下の環境下で行う。この保護層４は、膜厚を１ｎｍ乃至５ｎｍとして成膜することができる。この磁気ディスクの製造方法においては、ロードアンロード方式用の磁気ディスク１０を良好に製造することができる。 （もっと読む）

磁気記録媒体は、基板と、基板上に形成された下部電極層と、下部電極層上に形成された陽極酸化アルミナ膜（１３）と、陽極酸化アルミナ膜（１３）の上部表面及び細孔（１４）の内壁に形成された炭素層（１５）と、細孔（１４）の炭素層（１５）を介して内部に形成された磁性粒子（１６）と、炭素層（１５）及び磁性粒子（１６）の表面に形成された潤滑層などから構成される。炭素層（１５）により陽極酸化アルミナ膜（１３）の表面及び細孔（１４）の内壁を覆うことにより、陽極酸化アルミナ膜（１３）を保護して、耐蝕性及び耐久性に優れた磁気記録媒体を実現する。
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【課題】安定した放電を維持し、付着力の高い良質のダイヤモンドライクカーボン膜を形成する。
【解決手段】排気系を備えた真空槽の中に、不活性ガスによってプラズマ放電を起こすようになされているイオン源２０と、成膜ガス導入機構２とを具備してなり、この成膜ガス導入機構２は、イオン源２０を基準として支持体１の走行方向の、下流側に設けられているものとした成膜装置１０を提供する。 （もっと読む）

【課題】酸素添加系反応性スパッタリングを用いた磁性膜の形成において、酸素添加を行なっても安定した再現性のある反応性スパッタリングを可能とし,より、高保磁力な磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 SiCとSiO_x(x=1〜2)とを有することを特徴とする垂直磁気記録媒体を提供する。また、軟磁性層上に反応性スパッタリングにより磁性層を成膜するステップにおいて、SiCを含有するターゲットに、Arガスと酸素ガスとを添加することを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】グラニュラー磁気記録層の耐食性に優れた磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基板１の上にＮｉTa密着層２、軟磁性層３、Ｔａ中間層４、Ｒｕ中間層５、Ｃｏ合金グラニュラー磁気記録層６を形成した後、Ｃｏ合金グラニュラー磁気記録層６の表面を水素（Ｈ_２）プラズマ処理する。その後、ＤＬＣ保護膜層７を形成し、潤滑層８を塗布する。 （もっと読む）

【課題】
磁気ヘッドの低浮上性及び耐摺動信頼性耐食性に優れた磁気記録媒体とその製造方法を提供する。
【解決手段】
垂直磁気記録媒体のグラニュラー磁性層６を保護するDLC保護膜層７を形成する際に、炭化水素ガスに水素ガスを混合し、基板（1）にバイアス電圧を印加する。
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【課題】浮上量が１０ｎｍ以下の低浮上量で磁気ヘッドを浮上飛行させても安全に記録再生ができる磁気ディスク及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ディスク状基板１上に順次形成された少なくとも磁性層と保護層とを有する磁気ディスクであって、前記基板１におけるデータが記録される主面１１と、側面部分１２とが保護層で被覆されてなり、主面１１上の保護層に比べて側面部分１２の保護層が薄い膜である。前記基板１の側面部分１２は、側壁面１２ａと、該側壁面１２ａと主面１１との間に介在する面取面１２ｂとを含み、少なくとも面取面１２ｂ上の保護層は、主面１１上の保護層に比べて薄い膜である。 （もっと読む）

【課題】１０ｎｍ以下の極低浮上量においてもフライスティクション障害や腐食障害などが防止でき、高速回転においてもマイグレーションを抑制し得る付着性の高い潤滑層を形成でき、特にロードアンロード方式用に好適な潤滑層を形成するための潤滑剤及び磁気ディスクを提供する。
【解決手段】グリシドールを含むパーフルオロポリエーテル潤滑剤を精製し、グリシドールの含有量を低減させる。パーフルオロポリエーテル潤滑剤の精製は蒸留法により行う。得られた潤滑剤を、基板１上に炭素系保護層４まで形成した磁気ディスクの保護層４上に成膜して潤滑層５を形成することにより磁気ディスク１０を得る。 （もっと読む）

【課題】窒素含有率の高い硬質の窒素含有炭素膜を良好な成膜効率をもって形成する。
【解決手段】支持体１上に、プラズマＣＶＤ法によって膜形成を行う成膜装置１０であって、排気系を備えた真空槽の中に、窒素によってプラズマ放電を起こすようになされているイオン源２０と、成膜ガス導入機構２とを具備してなり、成膜ガス導入機構２から供給された成膜ガスを、窒素により形成したプラズマにより分解し、窒素含有炭素膜の形成を行う成膜装置１０を提供する。 （もっと読む）

【課題】 可とう性高分子支持体上に、少なくともグラニュラ構造を有する磁性層および保護層をコンタミネーションや欠陥の発生無く形成することによって、高性能で高信頼性を有し、かつ安価な高容量磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】 可とう性高分子支持体の少なくとも一方の面に、少なくともグラニュラ構造を有する磁性層および保護層をこの順に形成する磁気記録媒体の製造方法であって、前記可とう性高分子支持体上にスパッタ法により前記磁性層を形成する工程と、前記磁性層が形成された可とう性高分子支持体を最大表面粗さ（Ｒｚ）０．０１μｍ以上０．４μｍ以下の表面性を有する成膜ロールに沿って搬送させながら、少なくとも１基の角型イオンソースにより保護層を成膜する工程とを有する磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

膜面から光を照射して信号の記録再生を行う磁気記録媒体において、信頼性が高く、耐熱性に優れた媒体を提供することを課題とする。そのために、ディスク基板上に形成された、少なくとも磁気異方性を有する記録膜上に、記録膜よりも熱伝導率の小さい保護層を介して潤滑層を形成する。 （もっと読む）

【課題】 潤滑剤として有用な化合物であって、特に磁気記録媒体の潤滑剤層を構成する場合において、優れた潤滑性能を示し、長時間使用された場合でも潤滑効果が持続され、かつ粉つきが少ない等の特性を示す化合物を提供する。
【解決手段】 下記一般式（ａ）で示されるイソシアヌル酸誘導体化合物を潤滑剤として用いて、磁気記録媒体の潤滑剤層を形成することにより、優れた潤滑特性が持続する磁気記録媒体を得ることができる。
【化１】




（式中、Ｘ^１、Ｘ^２、およびＸ^３はそれぞれ、水素、脂肪族アルキル基、脂肪族アルケニル基、フルオロアルキル基またはフルオロポリエーテル基であり、ａおよびｂは、それぞれ０〜１２の整数であり、Ｘ^１、Ｘ^２およびＸ^３が同時に水素となることはない。） （もっと読む）

【課題】潤滑剤として有用な含フッ素化合物であって、特定のフッ素系モノエステルモノカルボン酸と組み合わされることによって、優れた潤滑特性を有する潤滑剤を提供し得る化合物を提供する。
【解決手段】例えば、化学式（ａ１）で示される本発明の含フッ素化合物を、化学式（ｂ１）で示されるフッ素系モノエステルモノカルボン酸化合物と混合して成る潤滑剤を用いて、磁気記録媒体の潤滑剤層を形成すれば、優れた潤滑性能が持続する磁気記録媒体が得られる。
【化１】




【化２】
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【課題】 磁気記録媒体表面に塗布される潤滑層において、潤滑剤が保護層に結合するのを阻害する不純物を除くことにより、結合潤滑層を厚くする方法であって、蒸着速度を制御することができる量産にも適した磁気記録媒体の製造方法、並びに製造装置を提供することである。
【解決手段】 基板上に各種の下地層、磁気記録層、保護層および潤滑層が積層された磁気記録媒体を製造する方法において、前記保護層および前記潤滑層を、それぞれ保護層を形成する真空槽および潤滑層を形成する真空槽で連続して形成し、前記保護層を形成する真空槽と前記潤滑層を形成する真空槽とが相互に遮断されており、前記保護層および前記潤滑層を孤立した状態で形成することを特徴とする方法。 （もっと読む）