【課題】 化学強化工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板の表層部における圧縮応力の分布が一様となるようにして、ヘッドクラッシュ及びサーマル・アスペリティといった障害を防止しつつ磁気ヘッドの低フライングハイト化を図り高密度情報記録が可能であって、特に、携帯情報機器用の小型の磁気ディスクに適用して好適な磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】 化学強化工程において、板状ガラス中のアルカリ金属イオンよりもイオン半径の大きい第１のイオンを含有する化学強化処理液にガラス基板を接触させる第１工程と、２価イオンである第２以降のイオンを含有する処理液に板状ガラスを接触させる第２以降の工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 化学強化工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板の表層部における圧縮応力の分布が一様となるようにして、ヘッドクラッシュ及びサーマル・アスペリティといった障害を防止しつつ磁気ヘッドの低フライングハイト化を図り高密度情報記録が可能であって、特に、携帯情報機器用の小型の磁気ディスクに適用して好適な磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】 化学強化工程において、ガラス基板中のイオンよりもイオン半径の大きい第１のイオンを含有する第１の処理液（化学強化処理液）にガラス基板を接触させる第１工程と、ガラス基板中のイオンとのイオン交換の速度が第１のイオンよりも速い第２以降のイオンを含有する第２以降の化学強化処理液にガラス基板を接触させてイオン交換を減速させる第２以降の工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板を機械的に研磨し、弗酸と蓚酸とを含む混合液で研磨後のガラス基板をエッチングした後のガラス基板表面に残存する付着物を除去することを目的とする。
【解決手段】 ガラス基板の表面を機械的に研磨し、更に、弗酸の濃度が０．０１重量％〜０．５重量％で蓚酸の濃度が１重量％〜５重量％の弗酸と蓚酸とを含む混合液で、研磨後のガラス基板をエッチングする。これにより、微小うねりの高さＷａが３Å以下で、表面平均粗さＲａが６〜１０Åのガラス基板が作製され、ガラス基板表面１ａにテクスチャー５が良好に形成される。そしてエッチング後のガラス基板を、濃度が０．０５重量％〜３重量％の水酸化ナトリウム水溶液、又は、濃度が０．０５重量％〜３重量％の水酸化カリウム水溶液に浸漬する。これにより、エッチング後のガラス基板表面１ａに残存する付着物を除去することができる。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板において、基板表面を腐食することなく、基板表面に付着した酸化鉄系の異物等の基板表面に強固に付着した金属酸化物系の異物自体を速やかに溶解除去し、あるいは異物の付着力を弱め除去し易くして、基板表面を高度に清浄化する基板表面の洗浄液及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板の洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記洗浄処理は、チオグリコール酸又はチオグリコール酸誘導体などの官能基にチオール基を含む化合物を含有する洗浄液とガラス基板とを接触させる処理を含むことを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 磁気記録媒体用ガラス基板の円周方向に溝を形成するためのテクスチャー加工によって、溝を良好に、かつ、均一に形成することが可能な磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】 基板表面の微小うねりの高さＷａが３Å以下で、表面の平均粗さＲａが６Å以上のガラス基板を用いる。表面の平均粗さＲａが６Å以上であるため、テクスチャー加工において、ガラス基板の表面にダイヤモンドを引っ掛けやすくなるので、溝を良好に形成することができる。また、うねりの高さＷａが３Å以下であるため、ガラス基板表面に均一に溝を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、テクスチャリングによって基板面の面粗度（ラフネス）をコントロールし、ヘッド浮上安定性を確保しつつ、磁気記録膜に磁気異方性が得られ、高記録密度が達成できる磁性膜を有する磁気ディスク用テクスチャー入りシリコン基板を提供する。
【解決手段】シリコン基板表面に存在する酸化膜を除去又は減少させるステップと、遊離砥粒スラリーおよびテープを用いて、該酸化膜除去又は減少後のシリコン基板表面にテクスチャー を形成するステップとを含んでなる磁気ディスク用の表面処理シリコン基板の製造方法、および該シリコン基板を用いてなる磁気記録媒体を提供する。 （もっと読む）

【課題】精密基板の洗浄に使用する洗浄液において、洗浄液中に存在するＯＨ⁻イオンによる精密基板材料の溶解を防止し、平滑な精密基板表面を実現できる洗浄液を提供する。
【解決手段】洗浄液中で水分子と水素結合により会合する有機溶剤を添加した精密基板の洗浄液である。 （もっと読む）

【課題】 結晶化ガラス基板の研磨後の洗浄において、表面粗さが小さく、表面欠陥が少なく、また得られた磁気記録媒体用基板上に磁性膜を含む記録層を形成して磁気記録媒体を製造したときにその磁気変換特性が劣化することのない磁気記録媒体用ガラス基板を製造することのできる方法、それによって得られる優れた特性の磁気記録媒体用ガラス基板およびこの基板を用いて得られる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 結晶化ガラス基板を研磨砥粒を用いて研磨した後、有機カルボン酸水溶液を用いて洗浄することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、その方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板およびこの基板を用いて得られる磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板表面の欠陥を低減し得る磁気ディスク用基板の製造方法を提供しうる。得られる磁気ディスク用ガラス基板を用いて、磁気ディスクを作製すると、歩留まり、さらには信頼性を向上し得る。
【解決手段】 ガラス基板の表面をポリッシング研磨した後に洗浄するに際し、ポリッシング研磨したガラス基板の表面を濡れた状態に保持したまま該ガラス基板を洗浄液に浸漬する。ガラス基板の表面が濡れた状態としては、ガラス基板が界面活性剤を含んでいてもよい水に浸漬されている状態、またはその液膜が実質的に表面全体に形成されている状態が挙げられる。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク用基板等を研磨する用途においてより好適に使用可能な研磨用組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の研磨用組成物は、ケイ素酸化物を含む研磨材と、特定の化合物群から選ばれる少なくとも一種を含むリン酸化合物と、特定の化合物のナトリウム塩、カリウム塩、及びリチウム塩の少なくともいずれか一種を含むリン酸塩化合物と、酸化剤と、水とを含有し、磁気ディスク用基板の表面を研磨する用途に用いられる。 （もっと読む）

【課題】 ガラス材料からなる基体上に１μｍ以上の厚い膜であっても密着性良く均一に無電解めっき法でめっき膜を形成することが可能なガラス基体へのめっき方法を提供する。
【解決手段】 ガラス材料からなる基体の表面に、少なくとも、基体表面のシラノール基を２倍以上に増加させる希酸水溶液によるガラス活性化処理Ｓ２、シランカップリング剤処理Ｓ３、Ｐｄ触媒化処理Ｓ４、Ｐｄ結合化処理Ｓ５を順次施した後、無電解めっきＳ６によりめっき膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】１０ｎｍ以下の極低浮上量においてもフライスティクション障害や腐食障害などが防止でき、高速回転においてもマイグレーションを抑制し得る付着性の高い潤滑層を形成でき、特にロードアンロード方式用に好適な潤滑層を形成するための潤滑剤及び磁気ディスクを提供する。
【解決手段】グリシドールを含むパーフルオロポリエーテル潤滑剤を精製し、グリシドールの含有量を低減させる。パーフルオロポリエーテル潤滑剤の精製は蒸留法により行う。得られた潤滑剤を、基板１上に炭素系保護層４まで形成した磁気ディスクの保護層４上に成膜して潤滑層５を形成することにより磁気ディスク１０を得る。 （もっと読む）

【課題】 シリコン基板に適切な粗さをつけて、良好な浮上特性を示す表面形状を備えたシリコン基板を使用した磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】 シリコン基板をアルカリ水溶液と界面活性剤とを含んだエッチング液を用いて化学エッチングをすることにより、表面に凹凸を形成する。アルカリ水溶液は、水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウムを含み、エッチング液中のアルカリ成分の濃度が１質量％〜６０質量％の範囲内とする。 （もっと読む）