【課題】 砥粒や研磨屑に対する洗浄性が非常に高い電子材料用洗浄剤、および電子材料の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 フラボノイド化合物（Ａ）および水を必須成分として含有する電子材料用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】アルミナ突き刺さり及び基板表面うねりを低減できる磁気ディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】下記（１）〜（４）の工程を有する、磁気ディスク基板の製造方法。
（１）アルミナ粒子及び水を含有する研磨液組成物Ａを用いて被研磨基板の研磨対象面を研磨する工程、
（２）平均一次粒子径（Ｄ５０）が４０〜１１０ｎｍであり、一次粒子径の標準偏差が４０〜６０ｎｍであるシリカ粒子及び水を含有する研磨液組成物Ｂを用いて前記工程（１）で得られた基板の研磨対象面を研磨する工程、
（３）工程（２）で得られた基板を洗浄する工程、
（４）シリカ粒子及び水を含有する研磨液組成物Ｃを用いて工程（３）で得られた基板の研磨対象面を研磨する工程。 （もっと読む）

【課題】磁性部とその凹部内に埋め込まれた非磁性部とを露出させて平坦な研磨面を形成させることができる研磨液を提供すること。
【解決手段】磁性材料を含む磁性部１１と、該磁性部１１に形成された複数の凹部１２０を覆うように埋め込まれた非磁性材料１２５とからなる複合体１５を、磁性部１１と凹部１２０内に埋め込まれた非磁性材料からなる非磁性部１２とが露出して平坦な研磨面１６を形成するまで研磨するために用いられる研磨液である。研磨液は、水とエッチング剤とを含有する。研磨液は、エッチング剤として、アルカノールアミンと、温度２５℃、濃度０．０１ｍｏｌ／Ｌの水溶液のｐＨが１１以上であるアルカリ性化合物（但し、アルカノールアミンを除く）からなるエッチング剤とを含有する。 （もっと読む）

【課題】鏡面板ガラスの主表面を微細な固定砥粒で研磨する際に、研磨開始時から高加工レートを実現でき、加工時間を短縮すること。
【解決手段】主表面が鏡面となっている鏡面板ガラス（３）を、固定砥粒であるダイヤモンドシート（１０）を用いて必要な平坦度及び表面粗さに加工するガラス基板の製造方法である。前処理としてダイヤモンドシート（１０）が研磨作用する程度まで鏡面板ガラス（３）表面を機械的方法又は化学的方法で粗面化する。その後、ダイヤモンドシート（１０）を用いて鏡面板ガラス（３）表面を加工して所望の板厚及び平坦度に加工する。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム合金基板の表面にＮｉＰめっき被膜を形成した磁気記録媒体用基板について、アルミナ砥粒を使用しない磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム合金基板の表面にＮｉＰめっき被膜を形成した磁気記録媒体用基板の表面を研磨する際に、第１の研磨盤を用いて粉砕シリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する粗研磨工程と、第２の研磨盤を用いてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する仕上げ研磨工程と含むことにより、アルミナ砥粒を使用することなく、この磁気記録媒体用基板の表面に対して良好な研磨処理を施すことができるため、従来のアルミナ砥粒を用いた場合に生じるアルミナ砥粒の磁気記録媒体用基板への突き刺さりを防ぐことが可能である。 （もっと読む）

【課題】短時間で、かつ磁気記録媒体の表面全体にわたって保護層の被覆性を評価できる方法およびその方法に用いる分析装置の提供。
【解決手段】本発明は、基板と、金属材料を含む磁性層と、該磁性層の上に形成された炭素系保護層とを少なくとも含む磁気記録媒体を対象とし、磁気記録媒体にコロイド微粒子を付着させる工程と、コロイド微粒子の付着状態を光学的に観察する工程とを含む炭素系保護層の被覆性を評価する方法に関する。また、本発明は、磁気記録媒体に対するコロイド水溶液の塗布手段と、磁気記録媒体を光学的に観察する手段とを含む、炭素系保護層の被覆性を評価する分析装置に関する。 （もっと読む）

【課題】生産性を損なうことなく、研磨後の基板表面のスクラッチやうねりを低減できる研磨液組成物、並びにこれを用いた基板の製造及び研磨方法の提供。
【解決手段】研磨材、水溶性重合体、及び水を含有する研磨液組成物であって、前記水溶性重合体が、スルホン酸基を有し、主鎖及び側鎖のそれぞれに芳香族環を有する研磨液組成物。前記研磨液組成物を被研磨基板の研磨対象面に供給し、前記研磨対象面に研磨パッドを接触させ、前記研磨パッド及び／又は前記被研磨基板を動かして研磨する工程を含む、基板の製造方法及び研磨方法。 （もっと読む）

【課題】イオン系コンタミが少なく、かつ乾燥不良が起きず、その結果ヘッド浮上量が微少なハードディスクに搭載してもヘッドクラッシュを起こさない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液を用いてガラス基板１０をリンスする処理と、水よりも沸点の低い水溶性溶剤の蒸気を、前記リンス処理したガラス基板に接触させる乾燥処理とを含む磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記乾燥処理において、前記蒸気中の水分量が０．５質量％以下である蒸気を用いる。前記水よりも沸点の低い水溶性溶剤が、イソプロピルアルコール、エタノール、アセトンから選ばれる一種又は二種以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用基板を研磨する用途での使用により適した研磨用組成物を提供する。
【解決手段】研磨用組成物は、コロイダルシリカのような砥粒と、クエン酸やオルトリン酸のような酸と、過酸化水素のような酸化剤と、ベンゾトリアゾールのようなアゾール類及びその誘導体から選ばれる化合物とを含有してなる。研磨用組成物は、磁気ディスク用基板を研磨する用途で好適に使用される。 （もっと読む）

【課題】 砥粒に対する洗浄性が非常に高く、かつ、悪影響を及ぼす界面活性剤などの有機物の基板表面の残留が極めて少ない電子材料用洗浄剤、または悪影響を及ぼす界面活性剤を含有せずに非常に高い洗浄性を発揮する電子材料用洗浄剤および電子材料の製造方法を提供する。
【解決手段】 還元性を有するレダクトン類（Ａ）０．０１〜１０重量％と水を含有し、１重量％に希釈したときの２５℃での表面張力が５０ｍＮ／ｍ以下である界面活性剤（Ｂ）の含有量が０．０１重量％未満であることを特徴とする電子材料用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】研磨速度が高く、精密研磨に適した研磨用シリカゾル、研磨用組成物及び研磨用シリカゾルの製造方法を提供する。
【解決手段】シリカゾルは動的光散乱法により測定される平均粒子径が５〜３００ｎｍの範囲にある非球状シリカ微粒子を分散媒に分散してなり、固形分濃度が１０〜６０重量％であって、２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定時のケミカルシフト−７３〜−１２０ｐｐｍのピーク面積におけるＱ４の面積が８８％以上、Ｑ３の面積が１１％以下である。但し、前記ケミカルシフトは、テトラメチルシランを基準物質とし、Ｑ４は−１００〜−１２０ｐｐｍの範囲のピークであり、Ｑ３は−８２〜−１００ｐｐｍの範囲のピークである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラス基板上の硝酸イオンコンタミネーション量を一定以下のものにし、ハードディスク装置に装着した場合にヘッドが硝酸イオンコンタミネーションに衝突するおそれの少ない情報記録媒体用ガラス基板、その製造方法、情報記録媒体、及びハードディスク装置の提供を目的とする。
【解決手段】板状ガラス素材を硝酸塩を用いて化学強化する化学強化工程を含む製造工程を経て得られる本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、製造工程の最終工程としての最終洗浄工程で、前記板状ガラス素材１０の表面に存在する硝酸イオン（ＮＯ_３⁻）コンタミネーション量を５０ｎｇ／ｃｍ^２以下になるように洗浄する。 （もっと読む）

【課題】１枚のマスター情報担体によって繰り返し転写できる合計の回数を大幅に向上させた磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体と、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体Ｍとを重ね合わせた後、マスター情報担体Ｍ側から外部磁界を印加しながら、マスター情報担体Ｍから磁気記録媒体へと情報信号を磁気転写する工程を含む磁気記録媒体の製造方法であって、磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なマスター情報担体Ｍを用いると共に、このマスター情報担体Ｍをアルカリ洗浄剤を含む洗浄液を用いて洗浄する工程を設ける。 （もっと読む）

【課題】 下記１）〜３）を満足するガラスエッチング組成物、ガラスポリッシング加工用組成物及びガラスポリッシング加工方法の提供。
１）研削性の向上： 研削性を高め表面粗さを低くし、電磁変換特性を向上させる。
２）スクラッチの低減： ハードディスク表面上のスクラッチ（傷）を減らし、収率を向上させる。
３）研削クズ除去性の向上： ハードディスク表面上の研削クズ付着量を減らし、収率を向上させる。
【解決手段】 アルカリ化合物と（１）分子中に３個以上のアルコール性水酸基を有するアルコール、（２）分子中に２個以上のアルコール性水酸基を有するアミン化合物及び（３）リン系キレート剤からなる群より選ばれた少なくとも１種の化合物とを含有する水溶液であることを特徴とするガラスエッチング組成物、これを利用するガラスポリッシング加工用組成物及びガラスポリッシング加工方法。 （もっと読む）

【課題】１枚のマスター情報担体によって繰り返し転写できる回数を大幅に向上させた磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体Ｗと、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体Ｍとを重ね合わせた後、マスター情報担体Ｍ側から外部磁界を印加しながら、マスター情報担体Ｍから磁気記録媒体Ｗへと情報信号を磁気転写する工程を含む磁気記録媒体Ｗの製造方法であって、磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なマスター情報担体Ｍを用いると共に、このマスター情報担体Ｍと磁気記録媒体Ｗとを重ね合わせる前に、アルカリ洗浄剤を含む洗浄液を用い、且つ、洗浄液が層流の状態で流れる洗浄槽内に磁気記録媒体を浸漬しながら、この磁気記録媒体Ｗを洗浄する工程を設ける。 （もっと読む）

【課題】 製造工程時に使用する装置から溶出する鉄イオンに代表される金属イオンに由来するパーティクルに対して優れた洗浄性を有するとともに、適度なエッチング性を有することで基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、かつ再付着防止性に優れた磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 オキシカルボン酸（Ａ）とｐＨ６．０における三価の鉄イオンに対するキレート安定度定数の対数値が７．０以上であって該オキシカルボン酸以外のキレート剤（Ｂ）およびアルカノールアミン（Ｃ）を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】表面の清浄度を高く維持しつつ、平滑性を優れたものとすることができる情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】情報記録媒体用ガラス基板は、円盤状のガラス素板から形成されている。同ガラス素板は、ガラス組成中に少なくとも珪素酸化物を含む多成分系のガラス材料より形成される。また、ガラス素板の表面には、該ガラス素板の洗浄時に洗浄液の影響により、内部と比較してガラス組成中における珪素酸化物の含有率が異なる異質層が形成されている。同異質層は、ガラス素板の表面が研削されることにより、その異質層の一部が除去されている。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体の表面に潤滑剤膜を均一の膜厚で形成することを可能とした磁気記録媒体の製造装置を提供する。
【解決手段】中心孔１００ａを有する円盤状の磁気記録媒体１００を液体潤滑剤Ｌの入った浸漬槽１に浸漬した後、この浸漬槽１から磁気記録媒体１００を引き上げることによって、磁気記録媒体１００の表面に潤滑剤膜を形成する磁気記録媒体の製造装置であって、磁気記録媒体１００の中心孔１００ａに挿通されて当該磁気記録媒体１００を吊り下げた状態で支持するハンガー機構２と、ハンガー機構２と浸漬槽１との何れか一方を他方に対して昇降操作する昇降機構３とを備え、ハンガー機構２は、その上端部が磁気記録媒体１００の内周部と当接される支持プレート４ａ，４ｂと、支持プレート４ａ，４ｂの下端部から磁気記録媒体１００の内周部に沿って折り曲げられた液切プレート７ａ，７ｂとを有する。 （もっと読む）

【課題】基板の研磨方法を提供する。
【解決手段】本発明は、（ｉ）（ａ）８以上のモース硬さを有する第１の研磨粒子を５〜４５ｗｔ％、（ｂ）より小さな一次粒子の凝集体を含む三次元構造を有する第２の研磨粒子を１〜４５ｗｔ％、及び（ｃ）シリカを含む第３の研磨粒子を１０〜９０ｗｔ％含む研磨材と、（ｉｉ）液体キャリヤーとを含む、研磨用組成物を提供する。本発明はまた、（ｉ）上記の研磨用組成物を用意する工程、（ｉｉ）表面を有する基板を用意する工程、及び（ｉｉｉ）基板表面の少なくとも一部を研磨用組成物で削って基板を研磨する工程を含む、基板の研磨方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】研磨工程後のガラス基板に付着した研磨剤や異物を、洗浄工程を複雑化させることなく確実に除去する。
【解決手段】情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、研磨工程後スクラブ洗浄工程前に、ガラス基板の表面を液体と１０分間以上接触させることを特徴とする。スクラブ洗浄によって、ガラス基板上に強固に付着している研磨剤や異物を確実に除去できるようにする観点から、貯溜された該液体中にガラス基板を浸漬させて、該ガラス基板の表面を該液体に接触させるようにするのが好ましい。 （もっと読む）