【課題】インプリント法によるパターン転写時のサイドエッチング量を見込んで凸部パターンの幅を所望の通りに制御して形成できるとともに、離型剤を塗布したときに良好な離型性が得られるスタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】凹凸を有する原盤の表面に導電層を形成し、前記導電層上に電鋳層を形成し、前記原盤から前記電鋳層および前記導電層を剥離して前記原盤の凹凸が転写されたスタンパを形成し、前記スタンパの表面に残留しているレジストを除去し、前記スタンパの表面をｐＨ３未満の酸性溶液でエッチングすることを特徴とするスタンパの製造方法。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属を含むガラス基板の製造方法であって、アルカリ金属の溶出を抑制し、その結果耐久性等の性能に優れる、ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】蟻酸塩を含有する水溶液にガラス材料を浸漬し、上記ガラス材料の構成成分の溶出を抑制する。 （もっと読む）

【課題】化学強化によって得られる圧縮応力層を保持しつつ、磁気ディスク用ガラス基板の内径寸法誤差を小さくする。
【解決手段】中心に円孔が形成された円板状のガラス基板１０２に、化学強化処理槽１３０の化学強化処理液を接触させることにより、ガラス基板１０２中に含まれる一部のイオンを化学強化処理液中のイオンに置換してガラス基板１０２を化学強化する。これにより、１５０μｍ未満の圧縮応力層を、内周端面をはじめとするガラス基板１０２の表面に形成する。その後、内周端面研磨装置１２０を用いて、形状転写加工法により、取代５μｍ未満で、内周端面研磨を行う。この内周端面の研磨は、化学強化工程でガラス基板１０２の内周端面に形成された圧縮応力層が残存するように行う。 （もっと読む）

【課題】第１の研磨（粗研磨）工程にて使用した、希土類酸化物を主成分とする研磨材を、洗浄によって効果的に除去しつつ、洗浄によるエッチングが、第２の研磨（鏡面研磨）工程後の最終的なガラス基板主表面の平滑性にも影響を与えない磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】粗研磨工程と鏡面研磨工程との間に行う、ガラス基板を洗浄する洗浄工程にて、ガラス基板を、アスコルビン酸と、１００ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下のフッ素イオンと、３重量％以上の硫酸とを含有する洗浄液に接触させる。これによれば、洗浄に伴うエッチングによって表面粗さが増してしまっても、それが、後に行われる鏡面研磨工程における取代の範囲内で生じる。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属含有ガラス基板のアルカリ溶出量を抑制し、耐久性に優れ、高性能、且つ高品質な情報記録媒体用ガラス基板、及びこれを用いた情報記録媒体を提供する。
【解決手段】ガラス材料からなる基板を、加熱された酢酸塩含有水溶液に浸漬させるガラス成分の溶出抑制処理を施す工程を有することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、 （もっと読む）

【課題】高い洗浄仕上がりで洗浄できる磁気記録媒体用基板の洗浄に用いられるブラシの保管方法を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体用基板の洗浄に用いられるポリビニルアルコールスポンジからなるブラシ３の保管方法であって、過酸化水素を含有する保管液中で前記ブラシ３を保管するブラシの保管方法とする。 （もっと読む）

【課題】高い基板強度と低アルカリ溶出量の両方を兼ね備える磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミノシリケート組成を有する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、金型成形された円盤型ガラス基板の中心部をくり貫いて作られたドーナツ型ガラス基板の内周端面をエッチング処理するエッチング処理工程と、エッチング処理されたドーナツ型ガラス基板の表層のアルカリイオンをプロトン交換によりアルカリ封止処理を施すアルカリ封止処理工程とを有する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、前記製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気記録ディスクの製造方法および磁気記録ディスク。 （もっと読む）

【課題】化学強化処理されたガラス基板の表面からのリチウムイオンの溶出量を最小限に抑えることで、高温多湿の環境下に曝された場合であっても膜の白濁の発生を防止し、高い信頼性を有する情報記録媒体の製造方法等を提供する。
【解決手段】化学強化処理液にガラス基板を浸漬し、ガラス基板表層のイオンを化学強化処理液中のイオンでイオン交換することによってガラス基板を化学強化する。化学強化処理液は、ナトリウムイオン及びカリウムイオンを含む溶融塩であって、化学強化処理液に含まれるナトリウムイオン／カリウムイオンのモル比を０．０１〜０．６とする。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板の内周端面における研磨精度を高め、サーマルアスペリティ障害を回避する。
【解決手段】 本発明におけるガラス基板２０を複数枚積層した円筒状の被研磨体１２の内周端面を研磨する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、回転軸を有する内周研磨部の該回転軸の周囲に配置された複数の研磨布を被研磨体の内周端面１１６に同圧力で接触させ、被研磨体の内周端面と内周研磨部との間に研磨液を供給し、内周研磨部と被研磨部とを、回転軸を中心に相対的に回動または回転軸方向に相対的に移動させることにより被研磨体の内周端面を研磨することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板に歪みや反りが生じるのを防止し、低粗さおよび平坦度に優れた、新規かつ改良された磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明における化学強化処理液に浸漬しイオン交換を行う化学強化処理によって熱を帯びた円盤状のガラス基板１０を冷却する冷却工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板を収納するガラス基板ホルダ１００の保持部１１０にガラス基板を保持させた状態で、ガラス基板ホルダの周囲媒体を冷却し、ガラス基板の温度変化が面内において均一になるように温度制御することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスクの製造に用いるガラス基板の表面に付着した異物を確実に除去することのできる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提案すること。
【解決手段】
ガラス基板の製造方法では、ガラス基板の最終研磨工程の後に行われる当該ガラス基板の洗浄工程に、硫酸および過酸化水素水との混合液を用いて前記ガラス基板を洗浄する第１工程と、純水およびアノード水のいずれか一方を用いて前記ガラス基板を洗浄する第２工程と、カソード水を用いて前記ガラス基板を洗浄する第３工程が含まれている。かかる洗浄工程によって、ガラス基板表面に付着している異物、特に有機成分からなる異物を確実に除去でき、残留異物に起因する後発エラーを発生させることなく磁気ディスクの高記録密度化を達成可能なガラス基板を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】非磁性基板上に、磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体において、従来の物理的な磁気層加工型と比較しその磁性層除去工程を排除することにより格段に製造工程を簡略化し、かつ汚染リスクが少なく、表面の平滑性が高い製造方法と、ヘッド浮上特性に優れた有用なディスクリートトラック型磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基板上に磁性層を形成した後、その磁性層に部分的に原子を注入し、磁性層の原子を注入した箇所を非磁性化または非晶質化することにより、磁気的に分離した磁気記録パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、磁性層に部分的に原子を注入する工程が、磁性層を形成した後に表面にレジストとしてＳＯＧ（スピン・オン・グラス）膜を塗布し、そのレジストを部分的に除去または膜厚を薄くし、その表面に原子を照射することにより、レジストを除去または薄くした箇所を通して磁性層に部分的に原子を注入する工程を含む構成とする。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、イオン注入時にマスクとして用いられたレジストを良好に剥離（除去）することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】スピンチャック１１に保持されたウエハＷの表面にレジスト剥離液としてのＳＰＭを供給するためのＳＰＭノズル１２と、スピンチャック１１に保持されたウエハＷの表面に有機溶剤と窒素ガスとを混合して得られる混合流体を供給するための二流体ノズル１３とが備えられている。二流体ノズル１３からウエハＷの表面に混合流体が供給されることにより、レジストの表面の硬化層が破壊された後、ＳＰＭノズル１２からウエハＷの表面に高温のＳＰＭが供給されて、ウエハＷの表面からレジストが剥離される。 （もっと読む）

【課題】基板表面のうねり、中でも外周部のうねりを低減し得る研磨液組成物及び該研磨液組成物を用いた基板の研磨方法を提供すること。
【解決手段】シリカ及び界面活性剤を含有してなり、ｐＨが０〜２．５である磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、該界面活性剤が下記の一般式（１）〜（３）で表されるスルホン酸化合物からなる群より選択される１つ以上の化合物である、磁気ディスク基板用研磨液組成物。
Ｒ^１−（Ｏ）ｎ^１−ＳＯ_３Ｍ^１ （１）
［式中、Ｒ^１は炭素数３〜２０の炭化水素基、Ｍ^１は水素原子、無機カチオン、又は有機カチオン、ｎ^１は０又は１を表す。］
Ｒ^２ＯＯＣ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＳＯ_３Ｍ^２）−ＣＯＯＲ^３ （２）
［式中、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に炭素数３〜２０の炭化水素基、Ｍ^２は水素原子、無機カチオン、又は有機カチオンを表す。］


［式中、Ｒ^４は炭素数が３〜２０の炭化水素基、Ｍ^３及びＭ^４はそれぞれ独立に水素原子、無機カチオン、又は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、イオン注入時にマスクとして用いられたレジストを良好に剥離（除去）することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】スピンチャック１１に保持されたウエハＷの表面にレジスト剥離液としてのＳＰＭを供給するためのＳＰＭノズル１２と、スピンチャック１１に保持されたウエハＷの表面に加熱された純水と加熱された窒素ガスとを混合して生成される液滴の噴流を供給するための二流体ノズル１３とが備えられている。二流体ノズル１３からウエハＷの表面に液滴の噴流が供給されることにより、レジストの表面の硬化層が破壊された後、ＳＰＭノズル１２からウエハＷの表面に高温のＳＰＭが供給されて、ウエハＷの表面からレジストが剥離される。 （もっと読む）

【課題】基板外周端部のロールオフの低減、中でも、ハードディスクの高容量化に必要なロールオフの低減に有効な研磨液組成物、及びロールオフが低減された基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】シリカ、酸、界面活性剤、及び水を含有する研磨液組成物であって、(a)酸の水に対する25℃における溶解度が1g/飽和水溶液100g以上、(b)界面活性剤が下記一般式（１）で表されるスルホン酸又はその塩、かつ（c）研磨液組成物のpHが0〜3、である研磨液組成物、
R-O-(AO)_n-SO_３H （１）
[式中、Rは炭素数3〜20の炭化水素基、AOは炭素数2〜4のオキシアルキレン基、及びｎはAOの平均付加モル数で1〜6を表す。]、及び該研磨液組成物を被研磨基板1cm²当たり0.05ｍL/分以上の供給速度で供給し、5〜50kPaの研磨圧力で研磨する工程を有する基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】潤滑剤を分子構造面および定量面の双方で規定することにより、磁気ヘッドの低浮上量化を図ったときでも高い信頼性を発揮する磁気記録ディスク、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】磁気記録ディスク１の潤滑層１４を構成する際、下式で表わすパーフルオロポリエーテル化合物において、組成比 第１成分＝７１．７％ 第２成分＝１５．７％ 第３成分＝１１．７％ 第４成分＝０．３％ 第５成分＝０．６％を有する潤滑剤を用いる。
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【課題】本発明は、酸性溶液での洗浄処理やテクスチャ処理の後に行なわれる洗浄処理において、ガラス基板に付着した塵埃を確実に除去しながらも、その洗浄時間の短縮により生産性の向上を図ることができる技術を提供することを目的としている。
【解決手段】本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の洗浄方法の代表的な構成は、ガラス基板３を、酸性溶液を用いて洗浄した後に、さらに炭酸ガス溶液２で洗浄することを特徴とする。これにより、洗浄時間を短縮しながらもガラス基板に付着した塵埃を確実に除去することができる。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク用ガラス基板を製造し磁気ディスクを製造するときに、所期の性能が得られ、磁気ヘッドのグライドハイトを十分に狭隘化することができ、また、磁性層に良好な磁気異方性が付与された磁気ディスクの製造を可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供し、また、良好な特性を有する磁気ディスクを製造することができる磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】 研磨工程後の乾燥処理において、水よりも沸点の低い水溶性溶剤を主成分とする液体（ＩＰＡ）の蒸気と磁気ディスク用ガラス基板とを接触させる脱水処理を含み、水溶性溶剤を主成分とする液体に含まれる水分量を、１．０重量％以下とする。 （もっと読む）

【課題】湿式エッチングで異方性エッチングと同様のアスペクト比を有するようにする。
【解決手段】加工物をエッチングする方法が記載される。１つの実施形態において、加工物は、希酸と非イオン性界面活性剤を含む組成物を有するエッチャント溶液内に配置される。エッチャント溶液内に電界が生成され、加工物の表面に異方性エッチング・パターンを形成させる。 （もっと読む）