本発明は、アルファアルミナ、ヒュームドアルミナ、シリカ、ニッケル−リンを酸化する酸化剤、錯化剤および水を含む化学機械研磨組成物を提供する。また、本発明は、基材を研摩パッドおよび該化学機械研磨組成物と接触させること、該研摩パッドと該研摩組成物を該基材に対して動かすこと、ならびに該基材の少なくとも一部を研摩して、該基材を研磨すること、を含む基材の化学機械研磨方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 化学強化後に研磨を行う場合であっても、化学強化液の経時変化によらず、寸法精度を維持可能なガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のガラス基板１の製造方法においては、ガラス基材１ａをイオンを含む溶液である化学強化液５９に浸漬して、ガラス基材１ａの表面のイオンを化学強化液５９のイオンと置換することにより化学強化を行い、その後に、化学強化を行ったガラス基材１ａの主表面７ａ、７ｂを研磨する。
ここで、化学強化工程においては、化学強化液５９の組成の変化に応じて、化学強化の条件を変化させて化学強化を行う。 （もっと読む）

【課題】ミクロンオーダーだけでなくナノオーダーでの微細加工を容易に施すことができるガラス表面の微細加工方法を提供する。
【解決手段】アルカリ酸化物を含有するガラスの表面に凸部を形成するガラス表面の微細加工方法であって、凸部となるべき第２領域の表面に隣接する第１領域の表面を保護層で被覆する工程と、第２領域の表面側からアルカリイオンを除去する工程と、第１領域の表面から保護層を除去する工程と、アルカリイオンが除去された第２領域の表面と保護層が除去された第１領域の表面とを研磨する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】リンス時に発生しうる基板表面のスクラッチやナノ突起欠陥の低減を実現できる磁気ディスク基板用リンス剤組成物の提供。
【解決手段】下記（ａ）の共重合体及び下記（ｂ）の両性界面活性剤の少なくとも一方と、酸化剤とを含有し、ｐＨが１〜６である磁気ディスク基板用リンス剤組成物。
（ａ）カルボン酸基を有する構成単位及びスチレン誘導体に由来する構成単位の少なくとも一方と、スルホン酸基を有する構成単位とを有する共重合体。
（ｂ）下記式（１）で表される両性界面活性剤。


［上記式（１）において、Ｒは炭素数８〜１６のアルキル基である。］ （もっと読む）

【課題】洗浄時において微細化したパーティクルや有機物の洗浄力に優れ、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする電子材料用洗浄剤を提供する
【解決手段】 炭素数２〜８の脂肪族第１級アミンのアルキレンオキサイド付加物（Ａ）を含有してなり、前記（Ａ）の２級アミン価と３級アミン価の合計（Ｙ）に対する２級アミン価（Ｘ）の比率［（Ｘ）／（Ｙ）］が、０．５以下であることを特徴とする電子材料用洗浄剤。 （もっと読む）

本発明は、湿式法シリカ、ニッケル−リンを酸化させる薬剤及びアミノポリカルボン酸を含み、ｐＨが１〜５である化学機械研磨組成物と、ニッケル−リンを含む基材の表面を接触させること、及び、ニッケル−リンの少なくとも一部分を磨耗し、前記基材を研磨することを含む、基材の表面を化学機械研磨する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】複数の磁性体記録要素を有する磁気記録層を有する磁気記録媒体の製造方法に関する。
【解決手段】（ｉ）中間層の上に設けたアルミニウム層を陽極酸化することによりアルミニウム層をアルミナ層に変換させると同時にホールを形成し、中間層を露出させること、および（ｉｉ）アルミナ層と中間層との性質の違いにより、超臨界流体に溶解した磁性体金属の有機金属化合物を選択的に還元し、ホール底面の中間層表面に選択的かつ均一に磁性体金属を堆積させること、により磁気的かつ熱的に分離された複数の磁性体記録要素を有する磁気記録媒体を製造する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク基板表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を有すると共に基板表面から脱離したパーティクルの分散性も良好であり、優れたパーティクルの除去性を実現し、製造時における歩留まり率の向上や短時間での洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク用基板洗浄剤を提供する。
【解決手段】 分子内に少なくとも４個のホスホン酸基を有するキレート剤（Ａ）を含有してなる磁気ディスク基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】研磨で生じる砥粒や研磨カスの研磨終了後の研磨基板上における残留が少なく、且つ、高い研磨速度を持ち、基板の平滑性も保つことができる研磨液組成物、及び該研磨液組成物を用いる基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】アミノ基及び／又はイミノ基を分子内に２つ以上有する有機窒素化合物、有機多塩基酸、研磨材、及び水を含有してなる研磨液組成物を基板に供給し、研磨パッドを用い基板を研磨する工程を有する、ハードディスク用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、洗浄工程におけるガラス基板へのパーティクルの付着を防止することにより、洗浄後のガラス基板の表面状態のバラツキを低減することが可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することである。
【解決手段】 ガラス基板の洗浄工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、洗浄工程は、洗浄処理と乾燥処理と測定処理を含み、洗浄処理は、洗浄液にガラス基板を浸漬して洗浄する処理であり、乾燥処理は、水よりも沸点の低い水溶性溶剤を主成分とする液体を蒸気にし、蒸気を洗浄したガラス基板に接触させることによって、ガラス基板を乾燥させる処理であり、測定処理は、乾燥処理における液体の電気抵抗値を測定し、電気抵抗値が所定値以下であった場合に、液体に含まれるパーティクルの含有量が許容値を超えていると判定する処理であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】開梱する作業の過程において磁気ディスク用ガラス基板への塵埃の付着をより確実に防止する。
【解決手段】磁気ディスクの製造方法は、磁気ディスク用ガラス基板を梱包している梱包袋２１０の周囲から、静電気を帯電する帯電装置４１０によって、空気中に浮遊している塵埃４００を吸着させて除去し、除去を行いつつ、磁気ディスク用ガラス基板を梱包している梱包袋２１０を開梱する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板への塵埃や異物の付着をより確実に防止することにより、磁気ディスクの良品率を向上させることが可能な磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスクの製造方法は、磁気ディスク用ガラス基板を脱気梱包した梱包袋２１０に、梱包袋内に０．１ＭＰａ／ｓｅｃ以下の梱包開放速度Ｖｐにて気体が送入される大きさの細孔２３０を穿孔し、梱包袋に気体が送入された後に梱包袋を開梱し、開梱された磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁気記録層を成膜する。 （もっと読む）

【課題】メモリーハードディスクの仕上げ研磨や半導体素子の研磨用として、研磨後の被研磨物の微小うねりを低減できる基板の製造方法、研磨方法、及び微小うねり低減方法を提供する。
【解決手段】研磨材と水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、平均気孔径が１〜２５μｍで、気孔径の最大値が６０μｍ以下のポリウレタン製の表面部材を有する研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板の製造方法であって、前記研磨材が、式（１６）：σ＞０．９０６７×ｒ＋０．５８８（１６）（式中、ｒは個数基準の平均粒子径（ｎｍ）、σは個数基準の標準偏差（ｎｍ）を示す）で表される粒径分布の研磨材（第１成分）と第１成分とは平均粒子径及び／又は標準偏差が１０％以上異なる他の研磨材（第２成分）とを含む、メモリーハードディスク用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 メモリーハードディスクの仕上げ研磨や半導体素子の研磨用として、研磨後の被研磨物の表面粗さが小さく、かつ突起やスクラッチ、特にマイクロマックスで観察されるようなナノスクラッチや幅が１０〜５０μｍと非常に広く、深さが５ｎｍ以下の浅い幅広スクラッチを顕著に低減し、しかも効率的な研磨が可能な基板の製造方法、研磨方法、及びスクラッチの低減方法を提供すること。
【解決手段】 研磨材、酸化剤、酸及び／又はその塩、及び水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、平均気孔径が１〜２５μｍで、気孔径の最大値が６０μｍ以下のポリウレタン製の表面部材を有する研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板に磁性膜等の情報記録膜を形成した情報記録媒体において、その表面への突起の形成を抑制でき表面の平滑性を向上させることが可能な情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】情報記録媒体用のガラス基板を研磨砥粒を主成分として研磨加工する研磨工程ＰＲ１と、研磨工程ＰＲ１の後に、洗浄液を用いてガラス基板の表面をスクラブ洗浄するスクラブ洗浄工程ＰＲ２と、スクラブ洗浄工程ＰＲ２の後にガラス基板の表面を酸洗浄する酸洗浄工程ＰＲ３とを有し、スクラブ洗浄工程ＰＲ２の洗浄液に酸化亜鉛微粒子を含有する洗浄液を用いる。 （もっと読む）

【課題】高度に清浄化されたハードディスク用基板の製造を可能とする製造方法を提供する。
【解決手段】Ｎｉ−Ｐ含有層を両最外層として有するハードディスク用基板の製造方法であって、Ｎｉ−Ｐ含有層を両最外層として有する基板を第１液中に浸漬させる工程Ｉと、中性またはアルカリ性の洗浄剤で前記基板を洗浄する工程IIIと、前記工程Ｉの後、前記
工程IIIの前に、第２液に前記基板の全表面が接するように、前記基板を前記第２液中に浸漬させる工程IIを含み、前記基板が浸漬されている時の前記第１液が酸性であり、前記基板が浸漬されている時の前記第２液のｐＨが１〜４である。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法において、各ガラス基板の洗浄状態のバラツキをなくし、ガラス基板が次工程に持ち込む塵埃の数を一定にすることにより、常に安定した品質を保つことを目的とする。
【解決手段】 上記課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の代表的な構成は、ガラス基板１５０の研磨工程と、複数の洗浄槽内に少なくとも成分の異なる２種類以上の洗浄液１１２を洗浄槽１１４ごとに洗浄液１１２の種類を分けて供給しながら洗浄液１１２にガラス基板１５０を浸漬してタクト方式による洗浄を行う洗浄工程とを含み、洗浄工程において、洗浄液１１２に含まれる塵埃の数を計数し、計数した塵埃の数に応じてタクト時間内に塵埃の数が所定値以下となるよう洗浄液１１２の供給量を制御することを特徴とする。 （もっと読む）

例えばハードディスク媒体基板などの電子基板、当該ハードディスク媒体の製造に用いられるインプリント型（imprint mold）、または読取り／書込みヘッド組立部品（read/write head assembly part）の表面および／または斜面からサブミクロン粒子を除去するための洗浄溶液ならびに方法。当該洗浄溶液は、ポリカルボキシレートポリマーまたはエトキシル化ポリアミンを含む。当該方法は、ポリカルボキシレートポリマーまたはエトキシル化ポリアミンを含む洗浄溶液と当該基板の表面を接触させる工程を含む。当該方法における任意の付加的な工程は、音波エネルギーを当該洗浄溶液に適用することおよび／または当該表面をすすぎ溶液に音波エネルギーを適用するか、あるいは適用することなく、当該すすぎ溶液により当該表面をすすぐことを含む。 （もっと読む）

【課題】研磨残りが無く、少ない処理時間で、割れやかけの発生が無い、内周端面及び外周端面の表面を効率よく平滑にできる、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び該製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体の提供を目的とする。
【解決手段】ガラス基板の端面を研磨ブラシ又は研磨パッドと研磨液を用いて研磨する端面処理工程を有する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記研磨液が、フッ酸系溶剤を含むことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】比較的高温でも保存安定性が良好なアルカリ型非イオン性界面活性剤組成物、およびそれを含む硬質表面用洗浄剤、それを用いて行われる硬質表面の洗浄方法並びに基板の製造方法、非イオン性界面活性剤含有アルカリ性組成物の保存方法等を提供する。
【解決手段】非イオン性界面活性剤（成分Ａ）と、水（成分Ｂ）と、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸およびこれらの塩からなる群から選ばれる一種以上の化合物（成分Ｃ）と、水酸化カリウム及び水酸化ナトリウムからなる群より選ばれる一種以上のアルカリ剤（成分Ｄ）と、を含有し、前記非イオン性界面活性剤（成分Ａ）の含有量が、０．５〜２０重量％であり、２５℃におけるｐＨが９以上である、アルカリ型非イオン性界面活性剤組成物。 （もっと読む）