【課題】擬似フォーカスエラーの発生によるサーボの不安定化を解消する。
【解決手段】記録光を出力する光源と、光源からの記録光の記録媒体への出射端となる対物レンズを含み光源からの記録光を対物レンズに導く光学系とを備えた記録ヘッド装置を用いる。このときに対物レンズからの出射光の軸上色収差を、記録光の中心波長λ及び対物レンズの開口数ＮＡに対してλ／（２ＮＡ²）以下とする。 （もっと読む）

【課題】原盤の表面状態変化、或いは露光装置の光学系デバイス類の状態変化が発生した場合、その露光パワー及びフォーカス状態が変動すること。
【解決手段】非点収差光学系２２３の４分割ディテクタ２２３ｃ、即ち原盤１２１からの反射光でパワーコントロール及びフォーカス位置制御を実行。またそのビームの偏光状態を一定に保つように光学系の所定の位置に偏光子を設置することにより、高精度なパワーコントロールが可能になり、メインテナンス性に優れた光ディスク原盤の露光装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の空間強度分布に時間変動がある場合でも安定なフォーカス状態を維持する光ディスク原盤露光装置を提供する。
【解決手段】ビーム形状の変化を読み取り、ビームの変動に合わせて４分割光ディテクタ１１３ｃの位置を補正することを特徴とし、ビーム形状の変化による４分割フォトディテクタ１１３ｃに入射するビームの光強度の空間強度分布の変動をキャンセルすることで、フォーカス状態の変動を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】最終製品としての光ディスクの品質低下の防止を図りつつ、原盤ストラテジ調整の作業効率の向上、及び光ディスク作成に係る材料の浪費の防止を図る。
【解決手段】一旦光ディスク記録媒体の作成までを行って原盤の評価値と光ディスク記録媒体の評価値との差分から原盤評価値の目標値を計算した上で、当該目標値に評価値を一致させるように原盤ストラテジの調整（原盤記録信号についての評価値を上記目標値に追い込むストラテジ調整）を行う。ストラテジ調整にあたって必要となる光ディスク記録媒体の作成回数を少なくとも１回に抑えることができ、原盤ストラテジ調整の作業効率の向上、及び光ディスク作成に係る材料の浪費の防止を図ることができる。このとき、ストラテジの調整は実際に作成した光ディスク記録媒体の評価値を反映して行われるので、その分、光ディスク記録媒体の信号品質は高めることができる。 （もっと読む）

【課題】熱記録によるマスタリングを行う場合において、記録速度を高速化した際に生じるピットの変形やそれに伴うジッターの悪化を抑制する。
【解決手段】第１のパワーによるランド用パルスと第１のパワーよりも高い第２のパワーによる記録用パルスを有する記録用波形部と、第１のパワーよりも低い第３のパワーを有しランド用パルスと記録用波形部との間に挿入された冷却用パルスとを有する記録波形を用いる。第１の速度よりも高速な第２の速度により記録を行う際に、第１の速度での記録を行う場合と比較して、記録用波形部と記録用波形部の両端に配される冷却用パルスとから成る波形部分の長さ及びランド用パルスの長さは不変とした上で、冷却用パルスのうち前方側の冷却用パルスの長さを縮小し後方側の冷却用パルスの長さを拡大する。これによりピット前方側の熱不足の改善及びピット後方側の冷却期間の確保が図られる。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンをレジスト層に高精度で描画できる描画方法、これを用いた原盤の製造方法、スタンパの製造方法及び情報記録ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】環状の描画領域ＥＡに形成され更に内側非描画領域ＮＥＡ１及び外側非描画領域ＮＥＡ２にも形成されたレジスト層３６を備える被加工体３０のレジスト層３６における内側非描画領域ＮＥＡ１又は外側非描画領域ＮＥＡ２の部分に走査型電子顕微鏡用凹凸パターン３９を形成し、走査型電子顕微鏡用凹凸パターン３９を走査型電子顕微鏡により観察し走査型電子顕微鏡による観察の結果に基づいて電子ビームの焦点の位置を調整して電子ビームをレジスト層３６における描画領域ＥＡの部分に照射しレジスト層３６を所定の描画パターンで露光する。 （もっと読む）

【課題】フォーカスアクチュエータ駆動部の質量を削減して、追従性を向上させたレーザ露光装置を提供する。
【解決手段】コリメートされたレーザ光Ｌを、偏光ビームスプリッタ１２０，１／４波長板１２１を経て、集光レンズ１２２により、光軸方向に移動可能な反射基板１２３上に集光させる。反射基板１２３からの反射光を再び集光レンズ１２２を通して、再度、コリメート光にした後、固定されている対物レンズ１１０に入射させる。フォーカスずれ情報に基づいて反射基板１２３を光軸方向に移動制御することによりフォーカシングを行う。このようにして、質量の大きな対物レンズ１１０の代わりに質量の小さな反射基板１２３を駆動する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、共役マスターディスクの製造方法に関するもので、生産性を高めることを目的とするものである。
【解決手段】そして、この目的を達成するために本発明は、先ず、透明回転テーブル１４の一面側に、共役マスターディスク１９と、ダミーディスク２２を順に重ね、次に、これら透明回転テーブル１４、共役マスターディスク１９、ダミーディスク２２の重合体の透明回転テーブル１４外から、この重合体に向けて参照光２９と、記録光３０の一方を入射させるとともに、この重合体のダミーディスク２２外から、この重合体に向けて参照光２９と、記録光３０の他方を入射させる。 （もっと読む）

【課題】半導体レーザを高精細露光に適した光源に変換し、より高精細な露光を可能とするレーザ露光装置を提供する。
【解決手段】レーザ光源部１から出射されて変調装置３で光強度が変調されたレーザ光を基板１１の被露光面に光学系９，１０ａで集光照射し、基板を基板移動装置６１で移動させるレーザ露光装置において、レーザ光路に直交して配置され円筒軸が同一方向でかつ互いの距離が可変の２枚のシリンドリカルレンズで構成される発散角調整レンズペアー２０３，２０４を少なくとも２つ以上有する発散角調整光学系２，２０２によりレーザ光の発散角を調整する。 （もっと読む）

【課題】ビーム電流のロスが無く、高精度でスループットの高いビーム記録装置及び記録方法を提供する
【解決手段】露光ビームを偏向する偏向工程と、露光ビームの偏向によって潜像を形成する記録工程と、を有し、潜像パターンのうち、連続的な露光パターンである長ピットを形成する場合には、長ピットの一部を形成し、上記長ピットの一部を形成した回転の次以降の周期の回転で、上記長ピットの残部を形成する。ビーム偏向速度及び基板速度（線速度）を変化させるとともに、長いピット又はスペースを記録する必要が生じた場合にはビーム遮断を併用する。 （もっと読む）

【課題】光ディスク、光ディスク原盤からの反射光に発生する干渉縞の影響を抑えたフォーカス光学系を提供する。
【解決手段】光ディスクまたは光ディスク原盤露光装置のフォーカス光学系において、非点収差光学系のシリンドリカルレンズと４分割ディテクタとの相対的な位置関係を調整し、光ディスク原盤からの反射光に現れる干渉縞を、４分割ディテクタの不感帯に入射させることにより、干渉縞によるフォーカスエラー信号の変動の影響を受けない非点収差フォーカスサーボを実現する。これにより、光ディスクまたは光ディスク原盤からの反射光に現れる干渉縞の影響を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】対称的なピット形状を持ち且つ再現性良くピットを形成することが可能な原盤記録装置及び方法を提供する。
【解決手段】半導体レーザーの照射光を光ディスク原盤のレジスト膜に照射して情報を記録する原盤記録装置において、前記レジスト膜を無機レジスト膜とし、前記半導体レーザーの照射光をパルス幅２００ｐｓ以上１ｎｓ以下の短パルスのレーザーとして出力する手段を具備したたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】原盤製造におけるストラテジ生成として、より簡易な構成で、自由度の高いストラテジパターンの発生を実現する。さらにエッジの微調整や、エッジ記録、ランド部での情報記録なども容易に実現できるようにする。
【解決手段】入力された主記録信号についてピット及びランドとしてのラン長に基づいて、主波形テーブル部から対応する波形値を読み出し、この波形値をＤ／Ａ変換することで、記録駆動波形とする。また、副波形テーブルで、副記録信号に対応する波形値を記憶させておき、主波形テーブル部から読み出した波形値と演算してからＤ／Ａ変換するようにすることで、エッジ記録やランドへの付加情報など、副記録信号の要素をストラテジパターンに含める。 （もっと読む）

【課題】高速に複製光記録情報媒体の製造を可能とする複製用原盤の製造装置、複製ホログラム記録媒体の製造装置および複製用ホログラム原盤を提供し、さらに複製用原盤の製造方法および複製ホログラム記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】光学部１００を有する製造装置を用いる。プリズム６２ａは、複製用原盤６０Ａの表面に光学的に密着配置されており、プリズム６２ａの入射面において原盤製造用参照光７６ｂを全反射することなく被変調コアクシャル光７５ｂが集光された記録層６０ａに導くことができる。スピンドルモータ９８と移動台座４９とは、原盤製造用参照光７６ｂと被変調コアクシャル光７５ｂとが干渉してホログラムが形成される記録層６０ａの位置を移動させる。このようにして、所定の範囲にホログラムが形成された複製用原盤を製造する。 （もっと読む）

【課題】高速に複製光記録情報媒体の製造を可能とする複製用原盤の製造装置、複製ホログラム記録媒体の製造装置および複製用ホログラム原盤を提供し、さらに複製ホログラム記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】複製ホログラム記録媒体の製造装置では、位置決め手段は、複製用原盤６０Ｂと複製ホログラム記録媒体８０Ａとの相対位置を所定配置とする。角度選択板９０は、複製用原盤６０Ｂと複製ホログラム記録媒体８０Ａとの間に配置されるものであり、この角度選択板９０は光ビームの入射角度に応じて透過率が変化する角度選択膜９０ａを有する。レーザ光源からの複製用参照光８５は複製用原盤６０Ｂの記録層６０ａの所定領域を透過し、角度選択膜９０ａで反射する入射角度で照射される。 （もっと読む）

【課題】情報に対応するホログラムの数だけ干渉縞の記録を分けて行なう必要のない原版作製装置、原版複製装置、原版作製方法、および原版複製方法を提供する。
【解決手段】原版作製装置１００は、光ビームを出射するレーザ光源１と、当該光ビームを透過光と反射光とに分離する偏光ビームスプリッタ６と、当該透過光を光学的に変調して複製用参照光８および物体光９を生成する空間光変調器７と、複製用参照光８および物体光９を原版１１に入射させるとともに複製用参照光８および物体光９の原版１１に対する入射角度を調整する対物レンズ１０と、上記反射光を空間的に位相変調して原版作成用参照光１７を生成する位相制御素子１５と、原版作製用参照光１７の原版１１に対する入射角度を多重的に変化させる可動ミラー１６とを備える。 （もっと読む）

【課題】 トラックピッチが３００ｎｍ以下の超高密度光ディスクフォーマットを実現する。
【解決手段】 無機レジストの層１１が形成され、波長２６６ｎｍのレーザ光源１４からのレーザ光がＥＯＭ１５で強度変調され、露光量の変化量が±１．０％以内にされる。開口数ＮＡ＝０．９の対物レンズ２７が使用され、露光ビームが小さくされる。変調光学系ＯＭのＡＯＭ２２によってレーザ光の強度が変調される。変調用信号は、パルス信号とされ、ｎＴのピットを形成する場合には、（ｎ−１）個のパルスが使用され、先頭のパルスのレベルが最大レベルとされ、後方のパルスのレベルがより小とされる。さらに、高精度トラック送りサーボは、超高分解能（０．２８ｎｍ）のレーザスケール３１を用い、トラックピッチむら±３ｎｍ以下にする。 （もっと読む）

層１に向かって放射を指向させるデバイスを開示する。デバイスは、第１の放射源Ｓ１から発せられた第１の放射ビームＢ１を、層上に合焦させるための第１の光学素子Ｌ１と、第２の放射源Ｓ２から発せられた第２の放射ビームＢ２を、層上に合焦させるための第２の光学素子Ｌ２とを含む。第１および第２の放射源から発せられる放射の波長は、互いに異なる波長である。第１および第２の光学素子は、放射源に対して一体的に移動可能とされており、２つの放射ビームの焦点は、放射源に対する第１の光学素子および第２の光学素子の様々な動きと、少なくとも実質的に連動する。第２の光学素子Ｌ２は、第１の放射ビームＢ１の光学的に妨害されない通過を実現する、開口Ａ２を有している。これにより、Ｌ１ならびにＬ２のコンパクトかつ軽量な構成、および改善された放射ビーム品質が実現される。さらに、かかるデバイスを含む装置、およびかかる装置を用いた製造方法を開示する。
（もっと読む）

【課題】 読み出し専用光ディスクの記憶容量とデータ転送速度を向上させ、現在の読み出し専用光ディスクシステムとの互換性を最大に保持できるマルチレベル読み出し専用光ディスク及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 マルチレベル読み出し専用光ディスク及びその製造方法に関し、多種の記録ピットを備え、記録ピットは、その幅方向に沿う縦断面がマルチレベルの任意形状を有し、レベルが異なった記録ピットの縦断面積も異なっており、下記式を満たす。
【数１２】


ここで、Ｓは記録ピットの縦断面積、ｘは記録ピットの幅方向の座標、ｈ（ｘ）は記録ピットの縦断面のピット深さ分布関数、積分領域は記録ピットの縦断面全体である。 （もっと読む）

【課題】熱記録方式としてレーザをパルス発光させる原盤露光方式において、ピットエッジを制御し付加的な情報を記録できるようにする。
【解決手段】ピットエッジ位置制御をレーザのパルスタイミングで調整するのではなく、レーザ光源からは通常のエッジ変化の無いパルス変調によりレーザを発光させ、出力されたレーザを光強度制御手段によってピット両端のみの露光パワーを変化させる。このとき、ピットエッジ部分の光強度の変化は、ピット長の変化（つまりピットのエッジ位置の変化）として記録される。光強度制御手段としては、音響光学素子（ＡＯＭ）を用いて回折効率を制御することでＡＯＭの０次回折光における光強度変化量を制御し、さらに０次回折光を空間周波数フィルタで整形する。又は、電気光学素子（ＥＯＭ）を用いて偏光を制御し、偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）等の偏光成分分離素子で偏光成分分離することにより光強度変化量を制御する。 （もっと読む）