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Fターム[5E082MM05]の内容

Fターム[5E082MM05]に分類される特許

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【課題】複雑な形状の電極を有する電気素子、この電気素子を備える集積回路、及び、この電気素子の電極形状を簡単な方法で高精度に形成することができる電気素子の製造方法を提供する。
【解決手段】電気素子は、絶縁基板1、抵抗体4、および1対の電極22、32を備えている。電極22と電極32は離間し、かつ対向して配置されている。電極22と電極32の離間領域は、レーザ照射による切削溝である。 (もっと読む)


【課題】 エネルギーの拡散及びレーザビームの反射を抑制可能なセラミックス基板のアブレーション加工方法を提供することである。
【解決手段】 セラミックス基板にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すセラミックス基板のアブレーション加工方法であって、少なくともアブレーション加工すべきセラミックス基板の領域にレーザビームの波長に対して吸収性を有する酸化物の微粉末を混入した液状樹脂を塗布して該微粉末入り保護膜を形成する保護膜形成工程と、該保護膜形成工程を実施した後、該保護膜が形成されたセラミックス基板の領域にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すレーザ加工工程と、を具備したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 エネルギーの拡散及びレーザビームの反射を抑制可能なセラミックス基板のアブレーション加工方法を提供することである。
【解決手段】 セラミックス基板にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すセラミックス基板のアブレーション加工方法であって、少なくともアブレーション加工すべきセラミックス基板の領域にレーザビームの波長に対して吸収性を有する窒化物の微粉末を混入した液状樹脂を塗布して該微粉末入り保護膜を形成する保護膜形成工程と、該保護膜形成工程を実施した後、該保護膜が形成されたセラミックス基板の領域にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すレーザ加工工程と、を具備したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】コンデンサ内蔵基板に生じるインダクタンスを小さくすることが可能なコンデンサ素子、及び該コンデンサ素子を具えたコンデンサ内蔵基板を提供する。
【解決手段】本発明に係るコンデンサ素子は、第1電極層11と第2電極層12との間に誘電体層13が介在したコンデンサ素子1であって、第1電極層11は、第2電極層12側の表面111の一部が該第2電極層12によって覆われ、第1電極層11が金属箔により形成される一方、第2電極層12が金属薄膜又は金属箔により形成されている。本発明に係るコンデンサ内蔵基板は、前記コンデンサ素子1と絶縁基板2とを具え、該絶縁基板2内にコンデンサ素子1を埋設することにより絶縁基板2にコンデンサ素子1が内蔵されている。 (もっと読む)


【課題】特性が異なる複数の領域からなる積層コンデンサを一体的に作製し、周波数特性の広帯域化を容易に実現可能な積層コンデンサを提供する。
【解決手段】本発明の積層コンデンサは、誘電体層20〜22と内部電極層30〜33とを交互に積層してなり、第1領域R1及び第2領域R2を含むコンデンサ本体部と、アレイ状に配置された全貫通型のビア導体40、41、50、51と、その両端部に接続される外部電極60、61、70、71を備えている。第1ビア導体群であるビア導体40、41は、第1領域R1及び第2領域R2の内部電極層30〜33と電気的に接続され、第2ビア導体群であるビア導体50、51は、第1領域R1の内部電極層30、31と電気的に接続され、かつ第2領域R2の内部電極層32、33と電気的に接続されない。ビア導体50、51は、第2領域R2におけるビア径が第1領域R1におけるビア径よりも小さくなるように形成される。 (もっと読む)


【課題】表層電極において接続信頼性の高い突起状導体を形成することができる電子部品の製造方法を提供すること。
【解決手段】セラミックコンデンサのカバー層部108は、各ビア導体131の周囲となる位置のセラミック絶縁層150間に複数の段差補正用絶縁層151を介在させた状態で形成される。フォトレジストフィルム180の露光時には、突起状導体を形成するための形成予定領域R1の外側領域R2を感光させるべく入射したレーザ202が、表層電極111に当たって向きを変え形成予定領域R1の反対側である外側領域R2に反射するように露光を行う。フォトレジストフィルム180を現像して、開口部を有するめっきレジストを形成し、開口部を介して露出する表層電極111に対してめっきを施すことにより突起状導体を形成する。 (もっと読む)


【課題】層間接続導体の径をより小さくすることができる積層電子部品を提供する。
【解決手段】セラミック材料からなり互いに積層された複数の絶縁層11〜13の少なくとも1層12に、一方の主面12pに形成された第1の開口13pに連通し他方の主面12qに向けて断面積が減少しながら延在する第1のテーパー孔14pと、他方の主面12qに形成された第2の開口13qに連通し一方の主面12pに向けて断面積が減少しながら延在する第2のテーパー孔14qとが、主面12p,12q間の中間位置において接続されるように形成されている。層間接続導体10は、第1のテーパー孔14pと第2のテーパー孔14qとが接続されてなる貫通孔14に充填された導電材料により形成される。 (もっと読む)


【課題】精密なマーキング部を有する電解コンデンサの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、エポキシ樹脂またはポリエチレンテレフタラート樹脂からなる樹脂膜が外表面に設けられた金属ケースに、コンデンサ素子を収容する工程と、金属ケースにレーザを照射して、マーキング部を形成する工程と、を含み、マーキング部を形成する工程において、レーザが照射された部分の樹脂膜が除去されることによってマーキング部が形成される、電解コンデンサの製造方法である。 (もっと読む)


【課題】積層セラミックコンデンサなどの積層セラミック電子部品を製造する際に、内部電極パターンが印刷されたセラミックグリーンシートを複数枚積層・圧着して得たセラミックグリーンブロックにX線を照射して得た内部電極パターンの画像に基づいて、セラミックグリーンブロックの切断すべき位置を決定し、能率的に切断加工を行なえるようにする。
【解決手段】セラミックグリーンブロック27にX線38を照射して得た内部電極パターンの画像データに基づいて、基準マーク形成予定位置を求め、この基準マーク形成予定位置に基準マークを形成し、基準マークに基づいて、セラミックグリーンブロック27に対して切断加工を行なうようにする。このようにすれば、切断加工に要する時間を短縮することができ、切断加工についての位置精度を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】グラビア印刷(Gravure)方式を利用してセラミックスグリーンシートに形成される電極の厚さを均一に製造することができる積層セラミックス電子部品の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による積層セラミックス電子部品の製造方法は、グリーンシート上にグラビア印刷方式を利用して電極を印刷するにあたり、印刷ロールの外周面に備えられて電極を印刷するパターンセルは、センター部の微細セルのサイズをサイド部の微細セルのサイズより大きくして、セラミックスシートを備える段階と、前記セラミックスシートを多数積層してセラミックス積層体を備える段階、及び前記セラミックス積層体を圧搾する段階を含んでなる。 (もっと読む)


【課題】ハイブリッド自動車等に使用されるケースモールド型コンデンサに関し、小型軽量化と低ESL化を犠牲にせず、低コスト化を図ることを目的とする。
【解決手段】N極バスバーが、夫々一端に接合部6a、6b、7a、8aを設けた複数のN極分割バスバー6〜8を上記接合部6a、6bと7a、8aを突き合わせて接合することによって一体化して構成され、かつ、上記接合部6a、6b、7a、8aがN極分割バスバー6〜8を構成する基材の幅方向に対して斜め方向に切断されることにより、この接合部の断面積が基材の幅方向に沿って接合部を設けた場合の断面積と比べて大きくなるようにすると共に、各接合部の両端に基材を部分的に延設した補強部6c、6d、7b、8b、8cを設けた構成により、材料歩留まり向上による低コスト化を図り、バスバーの大型化、不要な抵抗の発生を防止できる。 (もっと読む)


【課題】高さ寸法の小さいセラミック電子部品を高い形状精度で製造することができるセラミック電子部品の製造方法を提供する。
【解決手段】未焼成のセラミックマザーブロック22のカッティングライン上に、レーザー光を照射することにより、複数の空孔22aを形成する。複数の空孔22aが形成された未焼成のセラミックマザーブロック22の上に、導電性ペーストを塗布する。導電性ペーストが塗布された未焼成のセラミックマザーブロック22を、カッティングラインにおいて複数に分断することにより、複数の未焼成のセラミック素体24を作製し、複数の未焼成のセラミック素体24を焼成することによりセラミック電子部品1を複数作製する。 (もっと読む)


【課題】配線基板における樹脂材との密着性を確保するとともに、樹脂材でのクラックの発生を確実に防止することができる配線基板内蔵用コンデンサを提供すること。
【解決手段】セラミックコンデンサ101のコンデンサ本体104における側面106a〜106cには、セラミック誘電体層105を構成するセラミックが露出するとともに、コンデンサ本体104の厚さ方向に延びる凹部107が複数形成されている。コンデンサ本体104の側面106a〜106cにおける凹部未形成部109と凹部107との境界部分が丸みを帯びた形状を呈している。 (もっと読む)


【課題】チップ型電子部品の両端部の電極形成部分に端子電極を精度よく形成すること。
【解決手段】チップ型電子部品の端子電極を形成するにあたって、まず、チップ型電子部品の素体の全体にレジストを塗布する(ステップS101)。次に、素体の端子電極を形成しない部分に塗布されているレジストに、露光に用いるスポット光と素体とを相対的に移動させながら露光する(ステップS102)。そして、未露光部分のレジストを除去し(ステップS103)、レジストが除去された部分に、電極材料の薄膜を成膜して端子電極を形成する(ステップS104)。その後、素体に残っているレジストを取り除く(ステップS105)。 (もっと読む)


【課題】ギャップ寸法が狭い複数の外部端子電極が主面に形成されたセラミック電子部品を得るために、集合部品を複数のブレイク誘導穴がミシン目のように配列された所定のブレイクラインに沿ってブレイクするとき、狭いギャップ寸法のために、円滑なブレイクが不可能となることがある。
【解決手段】集合部品41は、ブレイク誘導穴48,49が通るブレイクライン上において、外部端子電極用導電性ペースト膜43と交差する第1の領域46と交差しない第2の領域47とを有する。複数のブレイク誘導穴は、第1の領域46および第2の領域47に跨るように配置された、少なくとも1つの跨りブレイク誘導穴49を含む。 (もっと読む)


【課題】レーザー溶接による金属板と金属箔体の接合で生じる金属板の反りを抑制することが可能なレーザー溶接方法を提供する。
【解決手段】金属板と金属箔体を接合するレーザー溶接方法において、前記金属板の中心部から放射状の二本以上の溝を前記金属板の表面および裏面の互いに重ならない位置に形成する工程と、前記金属板の表面と前記金属箔体の端部とを接触させ、前記裏金属板面の表面をレーザー光で溶融する工程と、前記金属板と前記金属箔体とを接合する工程と、を含むレーザー溶接方法。 (もっと読む)


【課題】被覆層で覆われた部分を含む装置の製造方法と被覆層除去装置とを提供する。
【解決手段】第1レーザ処理部および第2レーザ処理部のそれぞれにおいて、個々のコンデンサ素子2a,2b,2cの画像処理によって算出されたずれ量と、直前のコンデンサ素子2a,2b,2cの処理によるキャリアバー11の位置に基づいて、レーザ光線が所定の範囲内に照射されるようにキャリアバー11が上下に移動される。第1レーザ処理部では、陽極リード部材の全周を覆う誘電体被膜および導電性高分子膜の部分のうち、約半周分を覆う部分が除去され、第2レーザ処理部では、陽極リード部材の約半周分を覆う残りの誘電体被膜および導電性高分子膜の部分が除去される。 (もっと読む)


【課題】引出電極同士の接続部の機械的強度が強固であり、かつ電気抵抗が低いキャパシタモジュールを簡便にかつ効率的に製造することが可能となるキャパシタモジュール製造用治具を提供する。
【解決手段】本発明に係るキャパシタモジュール製造用治具は、引出電極同士を仮接続した複数個のキャパシタセルを搭載するベース部材110と、仮接続した引出電極同士を下部から支持する複数の櫛歯を有する櫛歯部材140と、仮接続した引出電極同士を上部から押圧し固定する押圧固定部材170と、からなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】集電体の強度を維持しながら電極の端面からの活物質の脱落を抑制できる技術を提供する。
【解決手段】表面に凹凸を有する集電体の表面上に活物質層を形成する工程と、活物質層の形成前または形成後において、集電体の切断設定部14を局所的に加熱する工程と、集電体および活物質層によって構成された電極原反30を加熱された切断設定部14に沿って刃物でスリットする工程とを含む電気化学素子用電極の製造方法とする。切断設定部14の加熱は、例えば、電子線を用いて行う。 (もっと読む)


【課題】ICチップの直下に最短距離の配線で埋設可能な薄膜キャパシタを高い製品歩留まりで提供する。
【解決手段】この薄膜キャパシタは、第一の電極および第二の電極の間に、セラミックスを含んでなる、厚さ20nm〜2.0μmの誘電体層が挟持されてなる。第一の電極に直径Dのクリアランスホールが形成され、かつクリアランスホールの形成により露出した誘電体層の領域内に直径Dよりも小さい直径dを有するビアホールが同心円状に形成されており、(D−d)/2で規定されるクリアランスが25μm以上である。 (もっと読む)


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