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Fターム[5E343CC24]の内容

Fターム[5E343CC24]に分類される特許

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【課題】微細配線形成や電気特性、製造コストの上で有利であって、尚且つ信頼性が高いプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】表面の十点平均粗さ(Rz)が2.0μm以下の金属箔を用いるプリント配線板の製造方法において,ソルダーレジストを塗布または積層する際の前処理として粗化処理を施す工程を有するプリント配線板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】触媒付与処理及び/または無電解めっきに先立って、基板の表面から防食剤及び/または金属錯体を完全に除去して、配線表面に均一な膜厚の保護膜を成膜できるようにする。
【解決手段】内部に埋込み配線を形成した基板を用意し、ウェット状態の基板の表面または両面に洗浄部材を接触させ、両者を相対的に移動させながら、基板の表面または両面に洗浄液を供給して基板の前洗浄を行い、前洗浄後の基板の表面を触媒付与液に接触させて配線の表面に触媒を付与し、しかる後、基板の表面を無電解めっき液に接触させて配線の表面に保護膜を選択的に形成する。 (もっと読む)


【課題】金属膜とポリイミドとの密着性が良好なポリイミド配線板の製造方法、および微細ピッチ配線の形成が可能なポリイミド配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】ポリイミドフィルムに改質層を形成する改質工程;改質層に金属イオンを吸着させる吸着工程;および吸着した金属イオンをプラズマ処理または電子ビーム照射処理により還元させる還元工程;を含んでなるポリイミド配線板の製造方法。前記改質工程前記吸着工程;吸着した金属イオンを還元させる還元工程;改質層上に形成された金属膜にフォトレジスト材料を適用した後、フォトリソグラフィを実施して、金属膜を選択的に露出させるフォト工程;金属膜を給電膜として用いて電解めっきを行い、前記金属膜の露出部に導体層を析出させる電解めっき工程;フォトレジストを除去して金属膜を露出させるレジスト除去工程;および導体層をマスクとして用い、レジスト除去工程で露出した金属膜をエッチング除去するエッチング工程;を含むポリイミド配線板の製造方法。 (もっと読む)


【解決手段】 転写型アンテナは、剥離性を有する基材上に転写支持層を形成し、転写支持層上に保護パターン層と接着パターン層に挟まれたアンテナ配線を形成する導電パターン層を備え、接着パターン層を被着面の表面に接着し、剥離性を有する基材を剥がし、転写支持層を溶解除去することにより、被着面にアンテナを付与できる構成としている。
【効果】 転写型アンテナの製造適性が大幅に向上し、施工時に生じるアンテナ構成の脱落や欠けを防ぐことができ、形状維持や位置精度の調整が容易で、細かいアンテナ部分だけを容易に施工することができる。 (もっと読む)


【課題】従来の金属薄膜と同等程度の導電性を有し、かつ基板との密着性の高い積層体の製造方法を提供することである。高温を必要としないで基板上に金属薄膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】絶縁基板上に非熱可塑性ポリイミド系樹脂系樹脂前駆体の溶液を塗布した後、脱溶剤および脱水縮合反応のための熱処理を行って前駆体の一部を熱硬化性ポリイミド系樹脂に転化させて、非熱可塑性ポリイミド系樹脂と非熱可塑性ポリイミド系樹脂前駆体とからなる層を絶縁基板上に形成させる工程と、層の上に、一次粒子径が200nm以下で、加熱することによって互いに融着する金属薄膜前駆体微粒子を含有する分散体を塗布し、加熱処理することによって、残りの前駆体を非熱可塑性ポリイミド系樹脂に転化させると共に、前記非熱可塑性ポリイミド系樹脂からなる層の上に金属薄膜層を形成させる工程とを含む積層体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 より生産性の高い導電膜パターンを形成することができる配線基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】 基板1に形成された受容層2の上に、導電膜パターン4aに先駆けて導電ポスト30を形成する。受容層2は、導電性微粒子を含有する液状体22のライン状吐出に対して十分な性能がでるように設計されているため、導電ポスト30を形成するような場合の点吐出に対する溶剤(分散媒)の受容に関しては十分な余裕がある。これにより、乾燥工程を経ることなく導電ポスト30を容易に形成することができるとともに、導電ポスト30と導電膜パターン4aを略同時に形成することができる。 (もっと読む)


【課題】 信頼性の高い配線基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】 チオ尿素及びその誘導体の少なくとも一方を含有するめっき液20を利用して、ベース基板10に設けられた配線パターン12に第1の無電解めっき処理を行って、厚みが0.1μm未満のめっき層15を形成する。アミンを含有する溶剤30を利用してベース基板10を洗浄する。ベース基板10に、めっき層15を部分的に覆うレジスト層40を形成する。めっき層15におけるレジスト層40からの露出部に、第2の無電解めっき処理を行う。第1の無電解めっき処理工程とレジスト層40を形成する工程との間では、加熱工程を行わない。 (もっと読む)


【課題】 信頼性の高い配線基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】 チオ尿素及びその誘導体の少なくとも一方を含有するめっき液20を利用して、ベース基板10に設けられた配線パターン12に無電解メッキ処理を行う。アミンを含有する溶剤30を利用してベース基板10を洗浄する。その後、ベース基板10にレジスト層40を形成する。 (もっと読む)


【解決手段】印刷回路板の製造時に銅伝導層と誘電体材料間の接着を促進するための接着促進方法と組成物。組成物は腐食防止剤、無機酸およびアルコールを含み、それは組成物中に銅充填量を増大するのに有効である。 (もっと読む)


本発明は、フレキシブルプリント回路カードを形成するために、薄膜基板の中に延在するか、又は薄膜基板を貫通し、向かい合っていない表面に沿って電気的に接続される複数のマイクロバイアを有し、電気回路を形成するようにする、処理された薄膜基板(10)及びその方法を含む。ここでは第1のバイア(V10、V30、V50)と呼ばれる第1の数のバイアを形成するために、第1の数の実在ナノトラックが、良好な電気的特性を有する第1の材料(M1)で満たされ、一方、ここでは第2のバイア(V20、V40、V60)と呼ばれる第2の数のバイアを形成するために、第2の数の実在ナノトラックが、良好な電気的特性を有する第2の材料(M2)で満たされる。上記第1のバイア及び第2のバイア(V10〜V60)の第1の材料(M1)及び第2の材料(M2)が互いに異なる熱電気的特性を有するように選択される。薄膜基板の表面に被着され、薄膜基板(10)の両側(10a、10b)にコーティングされる材料が、第1の材料(M1)を割り当てられた第1のバイアと第2の材料(M2)を割り当てられた第2のバイアとを電気的に相互接続できるようにするために配設及び/又は構成され、電気的熱電対(100)又は他の回路構成を形成するために、直列接続に含まれる最初のバイア(V10)及びその直列接続に含まれる最後のバイア(V60)が直列に適当に組み合わせられる。
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