【課題】構造が簡単でコストも安くかつ様々な径のワークにも容易に対応することができる、合理的設計構造を備えたワーク用チャック装置を提供する。
【解決手段】真空源に通じる吸引孔８を中央に備えたチャックテーブル３の円形のテーブル面３ａに、テーブル面３ａと同等以上の大きさを有する支持プレート４を介して吸着パッド５を取り付け、支持プレート４の中央部に吸引孔８に通じる中継孔を形成し、吸着パッド５に、中継孔９を取り囲む複数の環状の吸着溝を同心状に形成すると共に、これらの吸着溝と中継孔とを連通させるための連通溝を放射状に形成する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造により、直接、温調可能な基板保持装置、それを備えた露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗを保持する板状部材１を有する基板保持装置ＷＨであって、板状部材１の少なくとも一部に温度調整のための流体Ａが流通する流体流通層１０を備える。流体流通層１０は、多孔体からなる。流体Ａは、板状部材１が配置された空間９０に供給された温調気体である。
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【課題】保護テープを省略してもバックグラインド時に繰り返して使用することができ、大量の廃棄物の発生を抑制できる半導体ウェーハ用の固定治具を提供する。
【解決手段】円錐形を呈した吸着体２に着脱自在に搭載される剛性の支持基板１０と、支持基板１０の表面周縁部に貼着されてバックグラインドされる半導体ウェーハＷを着脱自在に保持する変形可能な保持層２０と、支持基板１０の中央部と保持層２０の間に形成される区画空間１１と、区画空間１１に連通してその空気を外部に排気することにより保持層２０を変形させる給排孔１４とを備える。区画空間１１に、保持層２０を支持する突起群１２を配列し、突起群１２の中心部から支持基板１０の表面周縁部にかけて徐々に傾斜させて凸型に形成し、支持基板１０の裏面の中心部から周縁部にかけて徐々に傾斜させて凹型に形成し、支持基板１０の裏面が吸着体２の表面に密接するようにした。 （もっと読む）

【課題】
簡素且つコンパクトでありながら、高精度な駆動を実現できる位置決め装置を提供する。
【解決手段】
真空チャンバ１に内外の差圧差が生じると、底面１ａが上方に湾曲するように変形するが、ベース２は、底面１ａに対して支持筒２ａにより３点で支持されているので、底面１ａが変形した場合でも、安定して支持されるようになっている。 （もっと読む）

【課題】 回転中心とサセプタ中心の水平方向のずれを抑制することができるウェーハ支持構造およびウェーハ製造装置を提供する。
【解決手段】 ウェーハＷを支持するサセプタ１と、サセプタ１の下面を支持しサセプタ１に回転動力を与えるサセプタサポート２とを有するウェーハ製造装置において、サセプタ１のサセプタサポート２との当接部またはサセプタサポート２のサセプタ１との当接部の少なくとも一方に、サセプタ１の中心が回転中心軸上に自動調芯されるための面形状を備えていることを特徴とする。
本発明のウェーハ製造装置によれば、回転中心とサセプタ中心の水平方向のずれを抑制することができ、エピタキシャル膜の膜厚の均一性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】ウェハ等の基板を吸着する静電チャックを備えたステージ装置およびこのステージ装置を備えた露光装置に関し、静電チャックに冷却流路を形成することなく静電チャックの冷却を行うことを目的とする。
【解決手段】ベース部材に静電チャック１７を着脱可能に配置してなるステージ装置において、前記ベース部材に、前記静電チャック１７を冷却するための冷却ガス流路１３ｂに連通するガス供給配管Ｌ１およびガス排出配管Ｌ２を設けてなることを特徴とする。また、前記冷却ガス流路１３ｂは、前記ベース部材の前記チャック本体に対向する面に凹溝状に形成されていることを特徴とする。さらに、前記静電チャック１７と前記ベース部材との間にシール部材２５を環状に配置し、前記シール部材２５の内側に前記冷却ガス流路１３ｂを形成してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、半導体ウェーハを検査する走査型電子顕微鏡において、ウェーハの交換に要する時間をさらに短縮することにより、ウェーハ検査のスループットを向上させる装置の提供を課題にする。
【解決手段】 本発明の電子顕微鏡は、未検査ウェーハ及び検査済ウェーハを交換するために設けられるウェーハ交換部(40)が、長手方向にスライドして往復する第１アーム(41a)と、この第１アーム(41a)の先端に設けられウェーハを把持／解放する第１ウェーハ把持部(45a)と、長手方向にスライドして往復する第２アーム(41b)と、この第２アーム(41b)の先端に設けられウェーハを把持／解放する第２ウェーハ把持部(45b)と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 基板を加熱した際の支持部材との相対的な変形を許容しつつ、支持部材とのガタを低減する。
【解決手段】 基板２００の表面に原料ガスを供給して成膜を行なう気相成長装置１００であって、基板２００を保持するサセプタ１１０と、サセプタ１１０と接触してサセプタ１１０を下側から支持する回転自在な支持部材１２０と、支持部材１２０を回転させる駆動部１４０と、を備え、サセプタ１１０及び支持部材１２０の接触部は、支持部材１２０の回転中心について周方向へ延び径方向に傾斜するテーパ状に形成される。 （もっと読む）

【課題】 ウェハＷ等の基材を温度調節したり吸着したりするための流体路を、回転ステージ１０の中心からずれた位置に配置した構造を実現し、中心軸Ｌｃ上には他の構成部材の配置スペースを確保する。
【解決手段】
固定筒６０に回転筒５０を回転可能に挿通する。回転筒５０の下端部に回転駆動手段を連結し、上端部にステージ本体１１を連結する。ステージ本体１１には流路ターミナルとして環状冷却室１１ａや吸着溝１１ｂを設ける。固定筒６０の外周面には、流体ポート６１ａを形成し、内周面にはこのポートに連なる環状路６１ｃを形成する。回転筒５０には軸方向路５１ａを形成し、この軸方向路の下端部を前記環状路に連ね、他端部を前記流体ターミナルに連ねる。 （もっと読む）

【課題】静電吸着板を取り付けるだけで配線接続することなく必要自動的に電気接続する。
【解決手段】静電吸着板３を固着手段６で上方保持板１及び下方保持板２の取り付け面５に取り付けることにより、静電吸着板３の裏面に露出した入力端子３ｄと、その取り付け面５に配設された装置側の出力端子７ａとが電気的に接触して、電源から装置側の出力端子７ａを経て静電吸着板３の入力端子３ｄに給電される。 （もっと読む）

【課題】ウェーハを保持する保持部を加熱してダイボンディング用テープをウェーハに貼着することができるチャックテーブルにおいて、加熱された保持部を破損させないようにする。
【解決手段】ウェーハを吸引保持する保持テーブル１と、保持テーブル１を加熱するためのヒータ５１を備えたベーステーブル５とから構成されるチャックテーブル６において、
保持テーブル１を構成する吸引プレート３を炭化珪素の焼結体で形成し、吸引プレートに熱を伝導する支持プレート２と吸引プレート３とをあそびがある状態で締結する。 （もっと読む）

【課題】ウェハーが装着される吸着用電極部とウェハーの温度制御を行う温度制御機構部とを有する静電チャックを設けた半導体装置の製造装置に関し、ウェハー温度分布の均一化及び電力効率の向上を図る。
【解決手段】高周波電源に接続されておりウェハーを吸着する吸着用電極部１７とウェハーの温度制御を行う加熱する温度制御機構部１８とを具備する静電チャック１６を、装置本体部１９に取り付けた構成を有する半導体装置の製造装置において、吸着用電極部１７は、絶縁性を有する第１の絶縁性ハウジング２６と、この第１の絶縁性ハウジング２６内に設けられたＲＦ電極２７とから構成し、ＲＦ電極２７が温度制御機構部１８から独立するよう構成する。 （もっと読む）

【課題】 保持体内に埋設された抵抗発熱体に電力を供給するための電極端子及び引出線に漏電やスパークが発生することがなく、且つ保持体において±１．０％以内の均熱性が得られる半導体製造装置用保持体を提供する。
【解決手段】 被処理物１０を表面上に保持すると共に被処理物１０を加熱するための抵抗発熱体２を具備するセラミックス製保持体１と、セラミックス製保持体１をチャンバー８内に支持する支持部材６とを備えた半導体製造装置用保持体であり、抵抗発熱体２の電極端子３及び引出線４は筒状の絶縁管５の内部に収納されている。セラミックス製保持体１は、支持部材６のみで支持されるか、又は支持部材６と絶縁管５で支持されている。 （もっと読む）

【課題】
大気環境と、大気とは異なる環境とを隔てるハウジングの剛性に関わらず、高精度な移動を実現できる駆動装置を提供する。
【解決手段】
モータ９を真空チャンバＣの外側即ち大気環境側に取り付けることによって、真空チャンバＣの内部においてアウトガスが発生することを抑制でき、更に、真空チャンバＣを間に介在させることなく、フレーム１にモータ９を取り付けているので、大気圧との差圧に基づいて真空チャンバＣが変形した場合でも、その影響を回避して高精度の位置決めを実現できる。 （もっと読む）

【課題】
コンパクトであり、分解が容易でありながら、適切なシールを有する回転保持装置を提供する。
【解決手段】
軸受１０７，１１１の半径方向内方に、冷却水用シール１１０，真空シール１０９を配置しているため、それらを点検・交換することが容易であり、且つ回転保持装置１００の軸線方向長を小さく抑えることができる。このような構成を有するため、回転保持装置１００はＸＹテーブルのスライダ上に載置して用いることができ、回転保持装置１００自体をスライダとすることもできる。 （もっと読む）

【課題】基板テーブルの異なる領域間の液体の封止を効率よくできるリソグラフィ装置を提供すること。
【解決手段】基板テーブルは基板テーブル本体ＭＢの上面に配置されるカバー部レート１００を備え、カバープレート１００は平坦で連続的な上面を有するので局所領域タイプの液体供給システムに適用できる。カバープレート１００の上面は基板Ｗの上面とほぼ同一面であり、基板サポートＳＳと基板テーブル本体ＭＢとの間の凹部の中に液体が進入するのを低減する、又は防止するために、封止突出部２００を設置することが可能である。封止突出部２００はカバープレート１００の底部内縁と基板サポートＳＳの上面との間を接続する。 （もっと読む）

【課題】 エピタキシャルウェーハを製造するにあたって、オートドープ現象の発生を抑制できるサセプタ、エピタキシャルウェーハの製造装置、およびエピタキシャルウェーハの製造方法を提供すること。
【解決手段】製造装置を構成するサセプタ２は、第１サセプタ２１および第２サセプタ２２で構成され、第１サセプタ２１および第２サセプタ２２を組み合わせた状態で各サセプタ２１，２２間に所定の隙間が形成される。この隙間は、基板ウェーハがサセプタ２に載置された際に基板ウェーハおよびサセプタ２の間で形成される空間部とサセプタ２外部とを連通する連通路２３として構成される。 （もっと読む）

【課題】移動体をそれに必要な制御性や剛性等の特性に悪影響を及ぼさないで軽量化する。
【解決手段】基準面に支持され移動可能な移動体と、該移動体を該基準面上で非接触支持するための第１静圧軸受と、該移動体を所定方向に案内する案内面を有するガイドと、該案内面と該移動体とを非接触に保つための第２静圧軸受と、該移動体側に可動子を設けたリニアモータとを有するステージ装置において、該第１静圧軸受、第２静圧軸受およびリニアモータ可動子が接合される該移動体の部所の少なくとも１つに肉抜きを施す。 （もっと読む）

【課題】 基板載置台の貫通孔に対する基板保持ピンの位置調整を容易に行うことを可能にする。
【解決手段】 ピン設置用のピンアーム（基板保持ピン設置台）２８２は、処理室を構成する下側容器２１１の底面２１２に取り付けられる。リフトピン（基板保持ピン）２６６は、ピンアーム２８２の貫通孔２１７ａと対応する係合孔２６２に立設され、ピンアーム２８２の取付部２８５は、下側容器２１１の底面２１２へ取り付けられる。リフトピン２６６は、サセプタ（基板載置台）２１７の下降にともなって貫通孔２１７ａから突き出してウェハ（基板）２００を保持し、サセプタ２１７の上昇にともなって貫通孔２１７ａから引っ込んでウェハ２００をサセプタ２１７に載置する。このリフトピン２６６の貫通孔２１７ａに対する位置調整を容易に行えるように、ピンアーム２８２の底面２１２への取付部２８５を、サセプタ２１７と下側容器２１１の底面２１２との間に挟まれる空間Ｓ_inの外側の空間Ｓ_outに取り付ける。 （もっと読む）

【課題】プラズマ媒質を用いた真空においてその処理のために薄い半導体基板ウエハを支持するように適合されたデバイスを提供する。
【解決手段】半導体基板デバイスを支持するデバイスは、冷却システムおよび電気的接続手段を含んだ処理室に取り付けられたサンプルホルダ１を備える。このデバイスは静電的手段によって、またはクランプを用いてサンプルホルダ１に固定されるとともに電気的かつ熱的にサンプルホルダ１に接続された中間要素５ａを備える。中間要素５ａは取外し可能であり、支持する薄い基板４の操作を可能にするのに十分な剛性を有し、かつ基板４よりも高い導電率を有する第１の材料から成るベース７を含む。ベース７を被覆する第１の層８は高い誘電強度を有する第２の材料から成る。第１および第２の電極９ａ、９ｂが第１の層８上に配設される。第１の層８および電極を被覆する第２の層１２は高い誘電強度を有する第３の材料から成る。 （もっと読む）