【課題】 ウエハの外周部分にテープ類がはみ出していても、ウエハの外周のみを認識でき、精度のよいアライメントを行うことができ、しかも、ウエハを破損させたりゴミを生じることなくアライメントできるウエハのアライメント方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも表面に保護テープ２が貼り付けられたウエハ１を吸着回転テーブル２１で保持して回転させ、赤外線照射ユニット２２の赤外線発光素子２３とＣＣＤカメラ２４を用い、上記ウエハ１の外周部を赤外線によって非接触で検出してアライメントする。 （もっと読む）

【課題】高精度に物体を位置合わせする。
【解決手段】工具ウエハを搬送するロードスライダ上のマークの撮像結果Ｐ内における較正用基準点Ｓｐ_CT2と、その基準点Ｓｐ_CT2からの位置関係が既知な地点Ｐ１〜Ｐ６の位置情報を検出し、これらの地点の、設計上の位置関係と、撮像結果から得られる位置関係との違いに基づいて、そのマークを撮像する撮像装置の倍率、回転などの較正情報を例えば、最小二乗法などの統計的手法を用いて、精度良く算出する。 （もっと読む）

【課題】 マスク保持枠に吸着保持されているマスクのずれを防止し、基板に露光転写される露光パターンの精度悪化を防止することができる近接露光装置を提供する。
【解決手段】 マスク吸着板２６に吸着保持されたマスクＭが面方向にずれるのを拘束するマスクずれ防止機構４０を備えている。このマスクずれ防止機構は、マスク吸着板の下面に配置した押し当て板４２と、マスクの端面に向けて前記押し当て板を移動させる押し当て板移動機構４４と、マスクの端面に当接した押し当て板をマスク吸着板に吸着保持させる押し当て板吸着機構を備えている。押し当て板移動機構は、押し当て板がマスクの端面に当接した後、押し当て板に作用している押し当て力を解除するようにしている。 （もっと読む）

【課題】位置検出用の計測用パターンの汚れを自動的かつ確実に判別する。
【解決手段】計測用パターンとしてのマークの撮像結果Ｐから抽出された、Ｌ／Ｓパターン上において、直線上に並ぶ特定の複数の計測範囲内の撮像結果に基づいて、それぞれの計測範囲の代表点を検出する。そして、その代表点に基づく最小近似直線を求め、その直線と、各代表点と分散値を求める。この分散値が所定の閾値を超えていた場合には、異物Ｄ１，Ｄ２がマークに付着して汚れがあるものとみなす。 （もっと読む）

【課題】選別するためにマークが付与された被搬送物を選別した後に、所望の収容先の収容位置へ被搬送物を移送するための被搬送物の選別方法において、搬送工程に係る時間を可及的に短縮させる搬送ロボットの搬送方法を提供する。
【解決手段】供給カセット３からマーク別に収容する収容先カセット４ａ、４ｂへ被搬送物１を移送させる経路上であって、上記マークが通過する位置に読取装置６の読取位置が設定され、供給カセット３から被搬送物１を搬出した後に搬入先に移送する一連の移送動作を停止させることなく、マーク別に所望の収容先カセット４ａ、４ｂの収容位置へ移送させる。 （もっと読む）

【課題】 ステージの回転中心の座標を簡易な方法で精度良く求めることにより、ワークの位置決めの精度を向上する。
【解決手段】 回転機構を具備するステージ上にモデルのワークを搬入し、２台のカメラの視野Ｒ１，Ｒ２に、それぞれワークの対角関係にある位置決めマークが入るようにワークの位置を調整する。この状態下で１回目の撮像を行った後、各マークが視野Ｒ１，Ｒ２から出ない範囲でステージを回転させ、２回目の撮像を実行する。つぎに、２回の撮像で得た各画像から各マークの位置を示す点ａ１，ａ２，ｂ１，ｂ２の座標を計測し、これらの座標から求めた各マークの移動量とあらかじめ入力されたマーク間の距離Ｌとを用いてステージの回転角度ｄＴを算出する。さらに、回転角度ｄＴと点ａ１，ａ２，ｂ１，ｂ２の座標とを用いてステージの回転中心Ｃの座標（ｃｘ，ｃｙ）を算出する。 （もっと読む）

【課題】検査中にウエハの裏面に障害なく接近することを許容し、ウエハ上にかかる応力を最小化するウエハ保持装置を提供する。
【解決手段】ウエハ保持装置に確保される少なくとも１つのスペーサー３４を有する第１プレート、少なくとも１つのフィンガー３８を有する第２プレート２４であって、第２プレート２４が第１プレートに関して開き位置にある場合には、フィンガー３８がリップ３６から離れて位置し、および第２プレート２４が第１プレートに関して閉じ位置にある場合には、フィンガー３８およびリップ３６が協同してフィンガー３８およびリップ３６の間にあるウエハＷの規定部分を固定するように、少なくとも１つのフィンガー３８が第２プレート２４上に配置される。 （もっと読む）

【課題】所望の搬送対象物を短時間で高速に搬送することができる搬送方法及び搬送装置を提供する
【解決手段】搬送対象物体を吸着保持手段に吸着保持させ、吸着保持手段を移動させることにより物体を搬送する搬送方法において、吸着保持手段に吸着保持された物体に対する吸着力の強さを検出し、検出された吸着力の強さに基づいて吸着保持手段の移動速度を制御する。例えば、検出された吸着力の強さを所定の基準値と比較し、吸着力の強さが基準値より小さい場合には吸着保持手段を所定の低速度で移動させ、吸着力の強さが基準値より大きい場合には吸着保持手段を所定の高速度で移動させる。搬送対象物が実際に吸着保持されている状態の吸着力の強さに応じて搬送速度を制御しているため、その吸着保持状態において最適な、すなわち最速な搬送速度を設定することができ、物体の搬送時間を短縮することができる。
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【課題】メンテナンスが容易に行えるウエハローダ及び該ウエハローダによりウエハがロード・アンロードされる露光装置を提供する。
【解決手段】ウエハローダ１０は、そのチャンバ１２の床略全面に主ベース２５を敷設し、この主ベース２５上に、副ベース２６を固定及び移動可能に配置している。この副ベース２６上には、直線運動機構、プリアライメントステージ及びアンロードスライダなどが搭載される。主ベース２５には、その表面側に所定の深さの２本の案内溝２７，２８が形成される。副ベース２６をチャンバ１２の外部に引き出す際、主ベース２５上で副ベース２６を案内溝２７，２８に沿って移動させることにより、ロードロボットとアンロードロボットなどの副ベース２６の周辺位置に配置された主ベース２５上の周辺ユニットに接触することなく、円滑にチャンバ１２の外部に引き出すことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 機構部が熱変形した場合であっても機構部間における搬送対象物の受け渡しを円滑に行う。
【解決手段】 高温環境下で搬送対象物を横行、昇降あるいは回転することによって搬送し、複数の機構部間において上記搬送対象物の受け渡しを行う搬送装置であって、受け渡す側の機構部の位置あるいは受け渡される側の機構部の位置を検出する位置検出部８ｃ，８ｄと、上記位置検出部８ｃ，８ｄの検出結果に基づいて上記受け渡す側の機構部あるいは上記受け渡される側の機構部の所定範囲に対する位置ズレを検出するズレ検出部１００とを有し、上記受け渡す側の機構部の位置あるいは上記受け渡される側の機構部の位置が上記所定範囲に対してずれている場合に、上記ズレ検出部１００の検出結果に応じて上記受け渡される側の機構部を上記受け渡す側の機構部に対して相対移動させる。 （もっと読む）

【課題】 装置の小型化、搬送速度の高速化を実現する。
【解決手段】 第１ハンド部１２４及び第２ハンド部１３４の一方のハンド部が所定の受渡位置Ｐ８にあるときに、他方のハンド部が前記一方のハンド部に干渉することなく受渡位置Ｐ８に対して進行又は待避可能なように、第１ハンド部１２４の一対の第１指部１２５ａ，１２５ｂを所定の中心軸Ａ１に対して左右非対称に構成するとともに、第２ハンド部１３４の一対の第２指部１３５ａ，１３５ｂを所定の中心軸Ａ２に対して左右非対称な形状とした。 （もっと読む）

【課題】物体の位置ずれや落下等の不具合の発生を抑制しつつ処理速度を向上する搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送アームによる物体の保持の有無を例えば吸着圧により検出し、保持無しと検出された場合における前記搬送アームが速度零から所定の移動速度Ｍａｘに到達するまでに要する時間ｔ１が、保持有りと検出された場合における前記搬送アームが速度零から当該所定の移動速度Ｍａｘに到達するまでに要する時間ｔ２よりも短くなるように、該搬送アームの移動を制御する。 （もっと読む）

【課題】
コンパクトで検査精度の高いマスク検査装置を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる、マスク検査装置は、鉛直方向に被検査対象のマスク６を保持し、ＣＣＤカメラ３ａを鉛直方向に移動させてマスク６を検査するマスク検査装置であって、定盤２の上に立てられた角柱１と、角柱１の少なくとも２側面の基準面９、１０に対向するヘッド用直角ステージ１２と、ヘッド用直角ステージ１２を一定の高さに保つバランスウェイト４と、ヘッド用直角ステージ１２の各々の基準面側に設けられ、基準面側に気体を噴出する噴出部と気体を吸引する吸引部とを有するエアパッド１１と、ヘッド用直角ステージ１２を鉛直方向に移動させる鉛直方向駆動機構８とを備え、鉛直方向駆動機構のラック３５が角柱２に設けられているものである。 （もっと読む）

【課題】 基板の外観や品質を良好に保つことができる基板搬送装置、基板搬送方法およびプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】 基板搬送装置２０は、基板２３上に形成された被処理物のうち、除去すべき当該被処理物の除去を行う現像部（ウェット処理部）２１に対して基板２３の搬送方向下流側に位置し、現像部（ウェット処理部）２１から搬出された基板２３を搬送する搬送ローラー２７と、この搬送ローラー２７を洗浄する洗浄液２８を搬送ローラー２７に対して噴射する洗浄液噴射手段３０と、搬送ローラー２７上の基板２３の有無を検出する基板検出手段３２と、を有し、基板検出手段３２により搬送ローラー２７上の基板２３が存在しない状態であると検出した時に、洗浄液噴射手段３０により洗浄液２８を搬送ローラー２７に噴射する。 （もっと読む）

【課題】 広視野センサと狭視野センサを切り替えてマークを検出する位置計測装置において、広視野センサと狭視野センサの切り替え頻度を抑えることができる位置計測装置等を提供する。
【解決手段】 第１計測系５１を用いて、マスクＲ上に形成されたパターンＲＡＭを観察し、パターンＲＡＭの位置情報をマスクＲを識別するための識別情報と共に対応付けて記憶する。また、第１計測系５１よりも狭い計測視野を備えた第２計測系５２（５２Ｘ、５２Ｙ）を用いて、パターンＲＡＭを第１計測系５１よりも高倍な計測倍率で観察する。そして、所定マスクＲ上のパターンＲＡＭを第１計測系５１で計測する前に、記憶された情報の中に所定マスクＲに関する識別情報の存在が認識されるとその情報に対応する位置情報に基づいて、第２計測系５２の計測視野とパターンＲＡＭとの位置関係を決定する。
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【課題】カセット内のウェハの情報を収集するための画像センサを備える撮像システムを提供すること。
【解決手段】カセット内のウェハが、カセットを開放する必要なくマッピングされる。カセットは、特定のタイプの放射に対して少なくとも部分的に透過性である。放射源が、カセットの透過性または透明な部分を通ってカセット内に方向付けられ、前記放射に対して感受性の高い画像センサが、カセットの内部のウェハから反射された放射を検知する。第２の放射源および第２のカメラが、好ましくは、異なる角度から追加のウェハの画像のために提供される。これらの画像を処理することによって、ウェハの特定の方向おおよびカセットの装填状態を判定することができる。 （もっと読む）

【課題】トレイとテストヘッドの構成を簡略化し、消耗部品を排除した搬送装置を実現する。
【解決手段】検査対象デバイスをトレイに収納し、このトレイをソケットがある位置まで搬送し、検査対象デバイスをソケットと接続される位置に位置決めする搬送装置において、トレイとソケットにアライメントマークをそれぞれ付け、これらのアライメントマークの位置を撮像手段で画像認識することによって非接触でトレイとテストヘッド間の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板とメタルマスクとを貼り合せることにより貼り合わせ精度の向上を図ること。
【解決手段】ガラス基板を介してメタルマスクを所定の隙間を有して重ねる第１のステップＳ１０１と、カメラにより第１及び第２のマークの撮像情報に基づいて第１と第２のマークとの位置の差を求め、差が所定の範囲内か否かを判断する第２のステップＳ１０３と、前記差が範囲外の場合、前記位置の差に基づいてガラス基板をＸ，Ｙ軸方向に移動させる第３のステップＳ１０５と、前記差が範囲内の場合、メタルマスクとガラス基板とを貼り合せる第４のステップＳ１０７と、第２のステップＳ１０３を実行する第５のステップＳ１０９と、第５のステップＳ１０９での前記差が範囲外の場合、メタルマスクとガラス基板とを分離する第６のステップＳ１１１とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 オリエンテーションフラット等の結晶方位指示部における研磨屑の有無に関わらず、半導体ウエハ等の円板状体の中心位置および結晶方位指示部の向きを所定位置に合わせるための円板状体の位置合わせ装置およびその方法を提供する。
【解決手段】 位置検出手段２に包含される光源５により、円板状体ｗ１の回転手段１への保持側面に光が照射される。照射された光は、当該保持側面において反射される。この反射光を位置検出手段２に包含されるセンサ８により受光して所定の基準位置から円板状体ｗ１の端面までの距離を検出する。これを微小角度ずつ繰り返し行う。 （もっと読む）