基板を基板支持体または実験的に判定された位置と軸方向に位置合せするステップを含む平面基板の急速熱処理のための方法および装置について記載される。方法および装置は、基板と基板支持体の相対的な向きを判定するセンサシステムを含む。
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【課題】リソグラフィ装置の質量の大きい基板サポートを高い精度で位置決めすることができるよう、基板サポート位置制御帯域幅を広くするシステム及び方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付ける照明システムと、パターニング・デバイスを支持するパターニング・デバイス・サポートとを有している。リソグラフィ装置は、さらに、基板を支持する基板サポートと、基板サポートを支持するマシン・フレームと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射する投影システムと、基板サポートを少なくとも１つの方向に移動させる基板サポート・ドライブとを有している。リソグラフィ装置は、反動質量と、つり合い質量と、ベース・フレームとを有することができ、基板サポート・ドライブは、基板サポートと反動質量、つり合い質量又はサポート・フレームとの間に少なくとも１つの方向の力を生成するようになされている。 （もっと読む）

【課題】走査露光装置において基板の表面位置を計測する際の計測対象ポイントの間隔をより小さくすることができる技術を提供する。
【解決手段】複数の計測ポイントで基板の表面位置を計測する計測器を有する走査露光装置は、前記複数の計測ポイントが並んだ方向である配置方向と前記基板の走査方向とが直交しない状態で前記基板の表面位置を前記計測器に計測させる制御部を備える。前記計測器による計測結果に基づいて前記基板の露光が制御される。 （もっと読む）

【課題】液体の漏れ出しを抑制する。
【解決手段】液体（Ｌｑ）が供給される投影光学系（ＰＬ）直下の第１領域に一方のステージ（ＷＳＴ１（又はＷＳＴ２））が位置する第１の状態から他方のステージ（ＷＳＴ２（又はＷＳＴ１））が第１領域に位置する第２の状態に遷移させる際に、両ステージが、Ｘ軸方向に関して近接した状態を維持してＸ軸方向に同時に駆動される。このため、投影光学系とその直下にある特定のステージとの間に液体を供給したままの状態で、第１の状態から第２の状態に遷移させることが可能となる。これにより、一方のステージ側での露光動作の終了から他方のステージ側での露光動作開始までの時間を短縮することが可能となり、高スループットの処理が可能となる。また、投影光学系の像面側には、液体が常に存在させることができるので、投影光学系の像面側の光学部材にウォーターマークが発生するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】任意な繰り返しパターンを露光することができる露光装置および露光方法を提供する。
【解決手段】近接露光装置１では、基板Ｗを移動させて、基板Ｗの被露光部を各マスクのパターン８５の下方位置で停止させるステップ移動と、各ステップ移動において停止した基板Ｗに対して複数のマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板Ｗに各マスクＭのパターン８５を露光する露光動作とを繰り返す。 （もっと読む）

【課題】基板アライメント装置が緊急停止した場合に、マーク保持部が基板及び基板保持部と衝突することを防止する。
【解決手段】上ステージ部と下ステージ部とにより互いに面方向に相対移動されて位置合せされる一対のウエハに設けられたアライメントマークを撮像する上顕微鏡１４８と下顕微鏡１５０との視野内に、上顕微鏡１４８と下顕微鏡１５０とにより撮像される上顕微鏡１４８と下顕微鏡１５０との相対位置検出用の基準マーク１４６を出し入れする基準マーク移動装置１００であって、基準マーク１４６を保持するボード１４４と、ボード１４４におけるマーク形成部分をウエハ及びウエハホルダの移動通路に出入りさせると共に、駆動が停止された場合に、ボード１４４の全体を移動通路の外部へ退避させる昇降装置１０２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 マスクを被処理対象物に対して位置合わせ後、基台にマスクを設置固定する際に、高精度にマスクと被処理対象物の相対的な位置のずれを無くすること。
【解決手段】保持装置は、基板が載置される基台と、マスクを支持する為に、基板が載置される保持面の外側の周辺部に少なくとも３個配置され、マスクが基板の上に載置されるときには保持面から突き出ているマスク支持部材と、マスク支持部材により支持されているマスクの位置を調整する調整機構と、調整機構により位置が調整されたマスクを基台に固定する固定機構と、を有する。 （もっと読む）

【課題】液体の漏洩や浸入を抑えることのできる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって、基板を露光する。露光装置は、基板を保持する基板ホルダを有し、基板ホルダに基板を保持して移動可能な基板ステージと、基板ホルダに基板もしくはダミー基板が保持されているか否かを検出する検出器と、検出器の検出結果に応じて、基板ステージの可動領域を変更する制御装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】 押印装置における処理能力の改善。
【解決手段】 基板チャックと、基板チャックが固定され且つＸＹ面に平行に移動可能なステージとを有し、基板チャックに保持された基板上のレジストにモールドを押し付けてレジストのパターンを基板に形成する押印装置であって、ＸＹ面に平行な方向には剛性を、ＸＹ面に垂直な方向には弾性をそれぞれ有し、且つ基板チャックをステージに固定するフレクシャを有するものとする。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の製造歩留まりを向上できる。
【解決手段】本発明の例に関わる半導体装置は、ウェハ１内に設けられる第１及び第２半導体チップエリア２_１，２_２と、第１及び第２半導体チップエリア２_１，２_２内の各々に設けられ、トランジスタが形成される第１素子領域５_１，５_２と、第１及び第２半導体チップ５_１，５_２間に設けられるダイシングエリア３Ａと、ダイシングエリア３Ａ内に設けられ、アライメントマークが形成されるアライメント領域３５と、第１素子領域５_１，５_２とアライメント領域３５との間に設けられ、ウェハ１表面に対して垂直方向に突出した凸部９_１，９_２を有する凸部形成領域７_１，７_２とを具備し、凸部９_１，９_２の上端は、ウェハ１表面より高い位置にあり、トランジスタのゲート電極１２上端よりも低い位置にある。 （もっと読む）

【課題】対象物同士の位置合わせを簡便に高精度に行うことができるアライメント方法およびアライメント装置を提供することを目的とする。
【解決手段】アライメント装置１０の上下移動機構１４の偏心等によるアライメントマーク画像のずれ量を示す誤差テーブルを作成し、アライメントマーク画像のずれ量を無視できる許容間隔を予め導出する。その後、ウエハ１とマスク２を接触して倣い調整した後、ウエハ１とマスク２の間隔を導出した許容間隔内の所定の間隔として、ウエハ１とマスク２のアライメントを行う。 （もっと読む）

【課題】 光学部材の変動の影響を抑制して所定の面の面位置を高精度に検出する。
【解決手段】 本発明の態様にかかる面位置検出装置は、第１および第２パターンからの第１測定光および第２測定光を異なる入射角で被検面（Ｗａ）に入射させ、被検面に第１パターンの中間像および第２パターンの中間像を投射する送光光学系（４〜１１）と、被検面によって反射された第１および第２測定光を第１観測面（２３Ａａ）および第２観測面（２３Ｂａ）へ導いて、第１および第２観測面に第１パターンの観測像および第２パターンの観測像を形成する受光光学系（３１〜２４）と、第１パターンの観測像および第２パターンの観測像の各位置情報を検出し、各位置情報に基づいて被検面の面位置を算出する検出部（２３〜２１，ＰＲ）とを備えている。送光光学系は、送光側共通光学部材（５〜８）を経た第２測定光を偶数回反射して第１測定光よりも小さい入射角で被検面に入射させる送光側反射部（１１）を有する。 （もっと読む）

【課題】圧力の変動を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置は、所定空間内の所定面上で移動可能な第１可動部材と、所定面上で、第１可動部材と離れた状態で移動して、所定空間内の少なくとも一部の圧力を調整する第２可動部材とを備えている。 （もっと読む）

【課題】温度変化に伴う基板の位置変位に対して、基板上の任意の位置における位置変位を補正する。
【解決手段】基板ステージの各位置における温度変化による膨張や伸縮を位置変位として関数化し、基板上の所定位置での位置変位から、補正対象の位置変位に関わるパラメータ値を求め、このパラメータ値を関数に適用することによって基板上の任意の位置の位置変位を求める。基板ステージの各位置の温度変化による位置変位を、経過時間を変数とする関数で表し、この位置変位の関数をデータテーブルとして備えておき、基板ステージ上に載置される基板の任意の位置における位置変位を求める工程と、求めた位置変位に対応する基板の温度変化の経過時間を関数を用いて求める工程と、経過時間算出工程で求めた経過時間を基板ステージの各位置で定められた関数に代入して補正データを算出する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】ウエハ処理によってダメージを受け、目標とするマークが検出できない場合もしくは、計測ができなくなった場合でも正確にアライメントを実施する。
【解決手段】基板の各ショットごとに配列された複数の位置検出マークの中からターゲットマークを検出して基板の位置合わせを行う露光装置であって、スコープにより第１の倍率で撮像された画像から、複数の位置検出マークの中の第１のマークの位置と当該第１のマークの外側の領域の特徴とを抽出して第１のマークを識別し、スコープにより第２の倍率で撮像された画像から、ターゲットマークの位置を抽出し、抽出されたターゲットマークの位置の信頼性が閾値を下回る場合、新たなターゲットマークとして複数の位置検出マークから第２のマークを選択し、第２の倍率で撮像された画像から第２のマークの位置を抽出する演算処理部と、第２のマークの位置に基づきステージの位置を制御する制御部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】作業効率の低下を招くことなく、基板における露光領域の変形に関する情報を容易に計測する。
【解決手段】露光処理が施される複数の露光領域ＳＡと、複数の露光領域のそれぞれに設けられ各露光領域における変形に関する情報を計測する変形計測装置Ｇとを有する。変形計測装置は、露光領域に露光処理によりパターニング形成されてなる。 （もっと読む）

【課題】静止安定性を有する位置決め装置。
【解決手段】スライド装置１００は、ガイドレール１０６と、前記ガイドレール１０６に沿って移動するスライダ１０８と、前記スライダ１０８を前記ガイドレール１０６に対して空圧により浮かせて支持する浮遊支持状態と、前記スライダ１０８を前記ガイドレール１０６に対して空圧により圧接させて支持する圧接支持状態とに切り替え可能なエアベアリング１１０と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光を射出する光学部材と、光学部材から射出される露光光の照射位置を含む所定面内を移動可能な可動部材と、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置されたスケール部材と、可動部材に配置され、スケール部材と対向可能なエンコーダヘッドを含み、可動部材の位置情報を計測する計測システムと、光学部材とスケール部材との位置関係を検出する検出システムとを備えている。 （もっと読む）

【課題】
基板の厚さの変動によるオーバレイ精度の変動を低減すること。
【解決手段】
基準マークは、光軸の方向と第１方向とに直交する第２方向において且つ光軸の方向において異なる位置に配置された複数の基準マークを含み、制御手段は、第１干渉計の計測値に従って回転角を一定に保ちながらステージを光軸の方向および第２方向に移動させて、複数の基準マークそれぞれの位置を第１計測手段に計測させ、第２干渉計の計測値に従って回転角を一定に保つようにしながらステージを光軸の方向および第２方向に移動させて、複数の基準マークそれぞれの位置を第２計測手段に計測させ、第１計測手段により計測された複数の基準マークそれぞれの位置と第２計測手段により計測された複数の基準マークそれぞれの位置とに基づいて、光軸の方向におけるステージの位置に従って面内におけるステージの位置を補正する量を算出する。 （もっと読む）

物品サポートが物品を支持するように構成される。物品サポートは、物品サポートへ熱緩衝流体を供給し、かつ物品サポートから熱緩衝流体を抽出するように構成された充填構造を含む。充填構造は、充填構造から熱緩衝流体の少なくとも気相を抽出するように構成および配置された抽出管に接続される。充填構造は、充填構造に熱緩衝流体の液相を供給するように構成および配置された供給管に接続される。充填構造は、熱緩衝流体が複合気液相になるように配置されて物品と熱接続する。 （もっと読む）