【課題】局所液浸型の露光装置のフットプリントの大型化を抑制する。
【解決手段】 露光装置１００は、投影光学系ＰＬの射出面と対向する位置にあるとき投影光学系ＰＬとの間で液体Ｌｑを保持可能な微動ステージＷＦＳ１と、微動ステージＷＦＳ１が投影光学系ＰＬとの間で液体Ｌｑを保持しているとき、微動ステージＷＦＳ１に所定距離以内に近接し、該近接状態を維持して微動ステージＷＦＳ１と共に移動し、その移動後に投影光学系ＰＬとの間で液体Ｌｑを保持するブレードＢＬを備えている。従って、投影光学系の直下に複数のステージを交換的に配置する必要がなく、露光装置のフットプリントの大型化を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】
位置決め基準の異なる露光装置間での位置決めのエラーを防止し、プリアライメントのエラーによるダウンタイムを低減し、半導体製造工程における生産性を向上する露光装置および露光方法を提供する。
【解決手段】
基板の外周位置を検出する検出部と、前記検出部の出力にもとづいて前記基板の外周形状に関するデータを算出する算出部と、前記算出部の出力にもとづいて前記基板の位置を調整する調整部と、前記調整部によって位置調整された前記基板をステージ上に搬送する搬送部とを備える露光装置において、前記ステージ上で、基板に形成されたマークの位置を検出するマーク検出部と、前記マーク検出部の出力にもとづいて前記算出部の算出条件または算出方法を変更する変更部と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】例えば可撓性を持つ長尺のフィルム状部材を目標とする経路に沿って高精度に搬送する。
【解決手段】フィルム状基板Ｐを搬送するラダー式ステージ装置２８であって、フィルム状基板Ｐを支持するために、フィルム状基板Ｐの移動方向に直交する方向に長手方向が配置される複数のロッド３０Ａ〜３０Ｌと、ロッド３０Ａ〜３０Ｌを閉じたループ状の軌跡に沿って連結するチェーン３２Ａ，３２Ｂと、チェーン３２Ａ，３２Ｂを介してそのループ状の軌跡に沿ってロッド３０Ａ〜３０Ｌを移動する駆動モータ３６Ａとを備える。 （もっと読む）

【課題】高い位置合わせ精度を満たすために位置合わせ時間が増加した場合においても生産性を低下させない露光装置を提供する。
【解決手段】基板を保持して移動する基板ステージと、ショットのアライメントマークの位置を計測する位置計測手段と、基板の高さを計測する高さ計測手段と、を有し、これらの計測結果にしたがって基板ステージを位置決めして基板を露光する露光装置において、基板上の一部のショットに関してショット内の複数の計測箇所で高さ計測手段に高さの計測を行わせてショット表面の形状を算出し、各ショットのアライメントマークの位置を位置計測手段に計測させてショットの配列を算出し、アライメントマークの位置の計測に並行して高さの計測を行い基板の表面の形状を算出する処理手段を有する。 （もっと読む）

【課題】、裏面側の位置検出光学系を移動させることなく、投影光学系の露光パターンの投影位置及び位置検出光学系の検出位置の相対的な位置合わせをより正確に行って、露光を高精度に行うことが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１は、基板７を載置するステージ９と、基板７の表面側に配置され、基板７の表面７ａにパターンを投影する投影光学系４と、基板７の裏面側に配置され、基板７の裏面７ｂに形成された位置合わせマークを検出する裏面位置検出光学系６と、ステージ９を貫通する貫通孔９ｂに取り付けられ、光を透過する部材で形成された窓部材１０と、投影光学系４により窓部材１０の表面１０ａに形成されたパターンの像を、窓部材１０の裏面側から裏面位置検出光学系６で検出し、投影光学系４により形成されるパターンの像の位置と裏面位置検出光学系６で検出される位置合わせマークの位置との相対関係を算出する制御部１１と、を有する （もっと読む）

【課題】本発明は、レーザー光照射による改質現象を用いた電子部品の製造方法における加工精度を向上させることを目的とする。
【解決手段】本発明は、要切断部１２Ａに沿って高さ認識用マーカー１４を形成する第１の工程と、少なくとも高さ認識用マーカー１４形成部に光を照射し、高さ認識用マーカー１４形成部からの反射光の強度から高さ認識用マーカー１４形成部の高さ情報を算出し記憶する第２の工程と、記憶された高さ認識用マーカー１４形成部の高さ情報を用いてレーザー光の焦点距離を調整し、媒質１２の要切断部１２Ａにレーザー光を照射して要切断部１２Ａを改質させる第３の工程とを有し、レーザー可動ライン１１における高さ認識用マーカー非形成部１４Ｂにおいてはレーザー可動ラインにおいて高さ認識用マーカー非形成部１４Ｂの次に照射される高さ認識用マーカー形成部１４Ａの高さ情報を用いてレーザー光の焦点距離を事前調整しておくものである。 （もっと読む）

【課題】基板貼り合わせ装置のスループットを向上させる。
【解決手段】素子を形成された基板を貼り合わせる基板貼り合わせ装置であって、前記基板に対して処理を実行する３以上の処理部と、前記３以上の処理部の夫々に対して前記基板を搬送する搬送部とを備え、前記３以上の処理部のいずれかは、前記基板を互いに位置合わせして重ね合わせる位置合わせ装置であり、前記３以上の処理部の夫々は前記搬送部の回動中心に対する円周上に配される。 （もっと読む）

【課題】高精度なフォーカス制御を実現する。
【解決手段】第１基板が載置されたステージを所定方向に走査し、該所定方向に沿って設けられた第１及び第２投影光学ユニットを介して第１基板のパターンを第２基板に露光する。ステージに第３基板を載置してステージを所定方向に走査する第１ステップと、第３基板上に所定方向に沿って配置された複数のマークを第１投影光学ユニットを介して検出し、複数のマークに対応する第１投影光学ユニットの第１フォーカス位置情報を計測する第２ステップと、複数のマークを第２投影光学ユニットを介して検出し、複数のマークに対応する第２投影光学ユニットの第２フォーカス位置情報を計測する第３ステップと、第１及び第２フォーカス位置情報に基づいて、前記パターンに対応する第１及び第２投影光学ユニットの各フォーカス位置と第２基板との相対位置を調整する第４ステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】ウェハの直径が大きくなる傾向にある近年、ウェハのウェハホルダに対する着脱、ウェハホルダの各装置に対する着脱を正確、高速かつ安定的に行うことが困難になってきている。
【解決手段】基板を保持する基板ホルダと、基板ホルダを載置するステージとを含む半導体処理装置であって、基板ホルダは、基板を保持するための静電吸着部と、基板を保持する保持面に設けられた貫通孔とを備え、ステージは、一端の開口が基板ホルダを載置する載置面において貫通孔と接続される第１吸引導管と、一端の開口が載置面において貫通孔とは接続されずに基板ホルダに対向する第２吸引導管とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ツインステージ型露光装置において、露光が終わるまで計測ステーションに待機時間が生じると、計測値の経時変化が生じていた。
【解決手段】 露光ステーションによる露光と、計測ステーションによる計測を並行して実行する際、露光に要する時間が計測の時間よりも長い場合、計測ステーションによる基準マーク計測を再度行う。 （もっと読む）

【課題】レーザー照射により捺印を形成する工程における半導体ウェハの搬送を容易にする固定治具およびそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の固定治具１は、平面視でＣ字形状を呈するクランパ３と、クランパ３に配置された半導体ウェハの周囲に接触するクランプリング２とから主に構成されている。更に、クランパ３の内側端部を厚み方向に窪ませて段差部６が設けられており、半導体ウェハはこの段差部６に収納された状態で、クランプリング２により固定される。この様に固定治具１により半導体ウェハを固定することにより、捺印工程における半導体ウェハのハンドリングが容易になる利点がある。 （もっと読む）

【課題】基板上のマークの位置をより短い時間で検出し、基板へのパターンの転写のために要する時間を削減する。
【解決手段】原版のパターンを基板の複数のショット領域に順に転写する。各ショット領域は、チップ領域１０２ａとそれを取り囲むスクライブライン領域Ｓ１とを含む。露光装置は、走査方向に駆動されている基板における隣接する第１スクライブライン領域Ｓ１、第２スクライブライン領域Ｓ２を同時に観察し、前記第１スクライブライン領域、前記第２スクライブライン領域にそれぞれ配置されている第１マーク１０４ａ、第２マーク１０４ｂからの光を検出する検出器と、前記検出器から出力される検出信号を処理して前記第１マーク、前記第２マークの位置を決定する処理部とを備える。前記基板は、前記第１マークおよび前記第２マークの位置に基づいて位置決めされ、露光される。 （もっと読む）

【課題】製品の歩留まりを向上させる露光方法を提供する。
【解決手段】本発明の露光方法は、レチクルのデバイスパターンをウエハに露光する露光方法であって、前記レチクルを第１の角度で配置して該レチクルの第１の平面度を測定する工程と、前記レチクルを第２の角度で配置して該レチクルの第２の平面度を測定する工程と、前記第１の平面度及び前記第２の平面度の測定結果に基づいて露光時における該レチクルの設定角度を決定する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】短時間で正確にウェハの位置合わせを行う。
【解決手段】ウェハアライメント装置は、１枚目のウェハの位置を基に２枚目以降のウェハを補正する補正処理と、予め定めた２つの低倍率アライメントパターンと基準位置とのズレ量から前記２枚目以降のウェハに対するＸＹθ方向の補正を行う低倍率補正処理と、予め定めた２つの高倍率アライメントパターンと基準位置とのズレ量から前記２枚目以降のウェハに対するＸＹθ方向の補正を行う高倍率補正処理とを具備する制御部を備える。ウェハアライメント方法は、ウェハアライメント装置の処理と同様の処理機能によって、複数のウェハを連続的に入れ替えて処理する際に当該ウェハの位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】矩形の基板がステージ上で傾いて載置されても、当該基板を位置決めし直すことのできる矩形基板の載置位置矯正方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗの左辺Ｌに二点で接触可能な一対の第一部材１１及び第二部材１２を前後方向基準線Ｘ０に平行な直線Ｘ１上に位置させ、基板Ｗの前辺Ｆに一点で接触可能な第三部材１３、及び、基板Ｗの後辺Ｂに一点で接触可能な第七部材１７を、基板Ｗの前後方向寸法ｂよりも広い間隔でかつ左右方向基準線を中心として位置させる。左側の前記二点及び右側の第五部材１５と第六部材１６とで基板Ｗを左右方向に挟むと共に、この左右方向に挟む動作の間に、基板Ｗを第四部材１４及び第八部材１８で、左右方向基準線Ｙ０を中心として前後方向に挟む。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ装置中に液浸液が残存することに関連した問題を軽減し、適切なデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】液浸リソグラフィ装置の対象物Ｗ、基板テーブルＷＴ、又はその両方から能動的に液体を除去するための能動型乾燥ステーションＡＤＳが投射システムと基板露光後処理モジュールとの間に設けられ、基板テーブルＷＴは該能動型乾燥ステーションＡＤＳに対象物Ｗを搬送し、該能動型乾燥ステーションＡＤＳがガス流手段を有する。 （もっと読む）

【課題】観察画像のコントラストを高くする。
【解決手段】顕微鏡で観察する被観察物を照明する照明装置であって、互いに波長の異なる複数の単波長光源と、照明された被観察物を観察した観察像のコントラストの大きさを検出するコントラスト検出部と、コントラスト検出部により検出されたコントラストに応じて、複数の単波長光源の強度比を設定する強度比設定部とを備える。上記照明装置は、強度比を変化させながら被観察物を照明した場合に、コントラスト検出部が検出したコントラストの大きさを監視して、前記コントラストがより大きくなる強度比を決定する強度比決定部を更に備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】基板テーブルの異なる領域間の液体の封止を効率よくできるリソグラフィ装置を提供すること。
【解決手段】基板テーブルは基板テーブル本体ＭＢの上面に配置されるカバー部レート１００を備え、カバープレート１００は平坦で連続的な上面を有するので局所領域タイプの液体供給システムに適用できる。カバープレート１００の上面は基板Ｗの上面とほぼ同一面であり、基板サポートＳＳと基板テーブル本体ＭＢとの間の凹部の中に液体が進入するのを低減する、又は防止するために、封止突出部２００を設置することが可能である。封止突出部２００はカバープレート１００の底部内縁と基板サポートＳＳの上面との間を接続する。 （もっと読む）

【課題】露光工程のスループットを高く維持して、アライメントを高精度に行う。
【解決手段】複数のウエハマークが形成されたウエハを露光する露光システムにおいて、計測対象のウエハマークに対応させてウエハＷ２上に複数の基準パターンを形成する簡易型露光装置４と、ウエハＷ２上の計測対象の複数のウエハマークとこれに対応する基準パターンとの位置ずれ量を計測するマーク検出装置１０と、その位置ずれ量の計測結果に基づいてウエハＷ２の位置合わせを行って、ウエハＷ２上の複数のショット領域を露光する露光装置１２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハの２つの層の間のアライメント・オーバーレイの非破壊特性決定方法を提供する。
【解決手段】波長または入射角度の関数としての１つの実施例として、入射ビームの放射は、ウェーハ表面上に向けられ、結果として得られる回折ビームの特性が決定される。スペクトル的、または角度的に分解された回折ビームは、オーバーレイ・フィーチャのアライメントと関連する。計算された回折スペクトルのライブラリは、オーバーレイ・アライメントにおける予期される変動の全ての範囲をモデル化することにより確立される。少なくとも２つの層におけるアライメント・ターゲットを有する実際のウェーハの検査により得られたスペクトルは、実際のアライメントの特性を決定するため、最も適合するもの（ベスト・フィット）を識別するように、ライブラリと比較される。比較の結果は、上流および／または下流処理制御への入力として使用される。 （もっと読む）