【課題】ウエハステージを高精度駆動する。
【解決手段】平面モータ３０により駆動されるウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置をエンコーダシステムを用いて計測し、エンコーダシステムからのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のそれぞれについての位置計測情報と、ウエハステージＷＳＴ２の位置に依存するウエハステージＷＳＴ１についての位置計測情報に対する補正情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴ１を駆動する。これにより、ウエハステージＷＳＴ２の移動に伴う周辺磁場の変動に主として起因するウエハステージＷＳＴ１の位置計測誤差を補正することができる。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージを精度良く駆動する。
【解決手段】平面モータ３０により駆動されるウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置をエンコーダシステムを用いて計測し、エンコーダシステムからのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のそれぞれについての位置計測情報と、両ステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置に応じたエンコーダシステムの位置計測誤差の補正情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴ１を駆動する。これにより、主として両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動に伴う周辺磁場の変動に起因する誤差を補正することができる。 （もっと読む）

【課題】被吸着物と静電チャックとの間の異物に関する情報を検出できる静電吸着方法、露光方法、静電吸着装置、露光装置及びデバイス製造方法の提供。
【解決手段】被吸着物を基台に静電吸着する静電吸着方法であって、被吸着物の基台への吸着状態を検知する検知工程１０４と、検知工程１０４での検知結果に基づいて被吸着物と基台との間の異物情報を判断する判断工程１０５とを有する。また、被吸着物を基台に静電吸着する静電吸着装置であって、被吸着物の基台への吸着状態を検知する検知部と、検知部の検知結果に基づいて被吸着物と基台との間の異物情報を判断する判断部とを有する。 （もっと読む）

【課題】 環状フレームの撓み及び粘着テープの撓みを抑制可能な収容カセットを提供することである。
【解決手段】 ウエーハを収容する開口部を有する環状フレームと、該環状フレームの開口部を覆うように外周部が該環状フレームに貼着された粘着テープと、該粘着テープの中央に貼着されたウエーハとから構成されるウエーハユニットを収容する収容カセットであって、該収容カセットは、上壁と、底壁と、該上壁と底壁とを連結する一対の側壁と、ウエーハユニットが出し入れされる開口部とを有し、該一対の側壁の内側には該環状フレームを支える複数対のガイドレールが該上壁から該底壁に渡り所定の間隔を持って形成されており、該各ガイドレールは、該環状フレームのうち該粘着テープが貼着されていない外側を支える外側支持部と、該粘着テープが貼着された内側を支える内側支持部とを備え、該内側支持部は該外側支持部に対して該粘着テープの厚さに相当する段差分低く形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダの吸着力を確実に維持する。
【解決手段】ステージ上に保持され、基板が載置されるホルダ本体と、基板をホルダ本体に吸着させる吸着部と、互いに異なる位置に配され、吸着部への吸着力の供給を受ける複数の受給部とを備える基板ホルダが提供される。複数の受給部は、ホルダ本体がステージ上に配置された状態で吸着部への吸着力の供給を受ける。また、基板を保持する基板ホルダが保持されるステージと、基板ホルダの互いに異なる位置に設けられた複数の受給部へ基板の吸着力を供給する複数の供給部とを備えるステージ装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】基板に対して反射防止膜を形成する工程、レジスト膜を形成する工程、露光後の基板に対して現像を行う工程を実施する塗布、現像装置において、装置の奥行き寸法を抑えること。
【解決手段】基板にレジスト膜を形成するためのＣＯＴ層Ｂ４と、レジスト膜の下側に反射防止膜を形成するためのＢＣＴ層Ｂ５と、レジスト膜の上に反射防止膜を形成するためのＴＣＴ層Ｂ３と、現像処理を行うためのＤＥＶ層Ｂ１，Ｂ２とを互に積層する。これら積層体の前後に各層に対応する受け渡しステージを積層した受け渡しステージ群を設け、受け渡しステージを介して各層の間で基板の受け渡しができる。またレジスト液を基板に塗布するユニットなどの薬液ユニットについては、横並びの３連カップを共通の処理容器内に配置し、これらカップ内でレジスト塗布などの液処理を行う。 （もっと読む）

【課題】高精度な位置合わせ装置は調整範囲が狭いので、その調整範囲に収まるように予備的に位置合わせをすることが望ましいが、予備的な位置合わせをしてから高精度な位置合わせ装置に搬入されるまでに、位置ずれが生じてしまう可能性があった。
【解決手段】ウェハと、ウェハを保持した状態で搬送されるウェハホルダと、ウェハを、ウェハホルダに対し載置方向に配置した状態で、載置面の側から照明する照明部と、照明部により照明されたウェハの外周部を、載置面とは反対の面の側から撮像することによりウェハの位置を同定する位置同定部と、ウェハホルダを搬送する搬送部と、ウェハを保持したウェハホルダを２組用い、互いのウェハを位置合わせして重ね合わせる重ね合わせステージとを備える重ね合わせ装置。 （もっと読む）

【課題】ワークにそりや局部的な変形を発生させない吸着装置を提供する。
【解決手段】ワーク５を吸着する吸着装置２０であって、吸着板２１と、吸着板２１に設けられワーク５の外形に沿って額縁状に形成された多孔質の多孔質吸着部２２と、多孔質吸着部２２に連通された負圧発生部２５と、を備えている。このため、ワーク５を吸着する部分がワーク５の外形付近であり、吸着する面積が広いためワーク５にそりや局部的な変形を与えることなく吸着ができる。そして、ワーク５に不要な応力をかかることがなく、ワーク５の割れを防止できる。 （もっと読む）

【課題】向上したステージの位置決め精度を有するリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、オブジェクトを保持するステージであって、基準構造に対してある運動範囲内で移動可能なステージと、運動範囲の少なくとも一部に空間的に変化する磁界を提供する磁石構造であって、基準構造及びステージに対して移動可能な磁石構造と、基準構造に対するステージ及び／又はオブジェクトの測定方向の位置に対応する第１の測定信号を提供する第１の位置測定システムと、磁石構造に対するステージの位置に対応する第２の測定信号を提供する第２の位置測定システムと、第２の測定信号に依存する値で第１の測定信号を補正して、基準構造に対するステージ及び／又はオブジェクトの測定方向の位置を表す第１の補正測定信号を提供するデータプロセッサとを含む。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単な計算で、マスクとワークのギャップを平均化することができ、露光精度を向上することができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】ギャップセンサ１７によってマスクＭ及びワークＷとの間のギャップを４箇所の測定点Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄで測定し、４箇所の測定点Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄによって画成される四角形ＡＢＣＤの各辺の中点Ｋ，Ｌ，Ｍ，Ｎの４箇所の座標のうち、３箇所の中点Ｋ、Ｌ、Ｍの座標における各ギャップが一様になるようにＺ−チルト調整機構４３を駆動する。 （もっと読む）

【課題】マスク保持部のフレームの熱変形を抑制して、露光精度を向上することができる露光装置を提供する。
【解決手段】マスクステージベース１１は、複数の中空フレーム９１〜９４によって構成されており、中空フレーム９１〜９４の内部には、サーマルチャンバ８０内に供給されるエアと共に温調されたエアが供給される。 （もっと読む）

【課題】フィルム状部材を目標とする経路に沿って正確に搬送するとともに、その表面に交差する方向に容易に移動する。
【解決手段】フィルム状のＴＦＴ基板ＴＰを搬送する搬送方法において、ＴＦＴ基板ＴＰをこの表面に沿った移動方向Ｂ１に移動する工程と、ＴＦＴ基板ＴＰの表面に沿って移動方向Ｂ１に交差する方向に長手方向が配置され、移動方向Ｂ１に沿って配列される複数のロッド３０でＴＦＴ基板ＴＰの複数の表面部位を支持する工程と、ＴＦＴ基板ＴＰを支持している複数のロッド３０を同期させて移動方向Ｂ１に移動する工程と、複数のロッド３０をＴＦＴ基板ＴＰの表面に交差するＺ方向に移動する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】アライメント動作に要する時間を短縮して、スループットを向上することができる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】制御部７０Ａには、両アライメントマークＭａ，Ｗａのずれ量がマスク位置調整機構１６の駆動によって露光転写時の所望のアライメント精度範囲以内となる、アライメント動作実施許容範囲が設定されており、両アライメントマークＭａ，Ｗａのずれ量がアライメント動作実施許容範囲以内であるとき、マスク位置調整機構１６によるアライメント動作を実行して該アライメント動作を完了する。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された下地パターンの上に新たなパターンを露光する際、下地パターンの歪みが基板内で場所によって異なっても、新たなパターンを基板全体に渡って下地パターンに合わせて露光する。
【解決手段】下地パターンが形成され、下地パターンの上にフォトレジストが塗布された基板１の表面を複数の区画に分割し、分割した区画毎に下地パターンの歪みを検出し、検出結果に基づき、分割した区画毎の下地パターンの歪みに応じて、描画データを補正する。基板１をチャック１０に搭載し、チャック１０と、光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置２０とを、相対的に移動し、光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査して、基板１にパターンを描画する。 （もっと読む）

【課題】一対の基板を精度よく位置合わせして接合する。
【解決手段】接合装置であって、対向しつつ接近して個別に保持した一対の基板を接合する一対のステージと、基板を支持する複数の支持部材と、複数の支持部材を駆動して、基板の傾きを変化させながら、一対のステージの一方に基板を当接させ、当該ステージに基板を保持させる当接駆動部とを備える。上記接合装置において、個別に保持した一対の基板を接合する場合に、一対のステージの一方を他方に接近させる接合駆動部を更に有してもよい。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置のエンコーダ型センサシステムの位置精度を増大させる。
【解決手段】基準構造に対するリソグラフィ装置の基板テーブルの位置を測定するエンコーダ型センサシステムを含むリソグラフィ装置が開示される。エンコーダ型センサシステムは、エンコーダセンサヘッドおよびエンコーダセンサターゲットを含み、リソグラフィ装置は、エンコーダセンサターゲットを収容するための凹所を備える。 （もっと読む）

【課題】密封部材を介して蓋により処理管の炉口を確実に密封状態にする。
【解決手段】基板を載置するボートと、前記ボートを収納する処理管と、前記ボートが載置され前記処理管の下端に設けられた炉口を開閉する蓋と、前記処理管の下端面と前記蓋との間を密封する密封部材と、前記蓋を昇降させる昇降機構と、前記昇降機構を駆動するモータと、前記蓋の位置を検出する位置検出手段と、前記蓋が上昇して位置検出手段によって前記処理管の下端面から規定離間距離だけ離れた位置に前記蓋が位置したことが検出された後、前記蓋が上昇する際の前記モータが受ける負荷を監視し、前記モータが受ける負荷が規定負荷値に達したときに前記処理管が気密に密封されたと判定する制御部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ一様性に影響を与えるＭＳＤの変動性の測定を改良する。
【解決手段】テスト方法は、異なる特定の周波数および軸で比較的大きな動的位置決め誤差を恣意的に注入しながら装置を数回動作させること（５０４）を含む。関心周波数帯域に亘って所与の軸について注入された誤差、の異なる周波数および振幅について、付与されたパターンにおける誤差（ＣＤ）の変動（ＣＤＵ）が測定される。前記測定および注入された周波数の知識を使用した計算（５０８、５１０）によると、注入された誤差の周波数のそれぞれと相関する周波数帯域における動的位置決め誤差の変動を解析できる。パターニング動作のパラメータおよび注入軸と測定軸との関係に基づいて、相関関数（ＣＦ）が前記計算で使用される。装置を低減された速度で動作させ、かつ、走査スリットフィルタ応答のヌル周波数によって決定される周波数で誤差を注入することによって、ＣＤ感度が測定される。 （もっと読む）

【課題】振動ミラーを用いて被検面の面位置を検出する際に、計測値のドリフトを小さくして、計測精度を向上させる。
【解決手段】被検面の面位置情報を検出するＡＦ系９０において、検出光ＤＬを被検面に斜めに投射する投射系９０ａと、その被検面で反射される検出光を受光する受光系９０ｂと、投射系９０ａ内で検出光ＤＬを反射する反射面が形成された可動部と、その可動部を支持する１対の支持部とを有する振動ミラー３８と、振動ミラー３８の支持部が固定される保持部材４８と、振動ミラー３８の可動部を振動させる駆動部４９と、受光系９０ｂで得られる検出信号をその可動部の振動に同期して処理する信号処理系２５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 物体の変位量を高精度に測定可能な変位測定装置を提供すること。
【解決手段】 本発明の一側面としての変位測定装置は、格子パターン６が形成されたスケール７と、スケール７に光を照射する光源と、スケール７の格子パターン６で回折された光を受光する受光素子と、を備える。格子パターン６の形状は、その格子パターン６の格子方向Ｙに一定の周期で変化している。受光素子は、格子パターン６上の、格子方向Ｙにその周期の自然数倍の長さを有する領域１００で回折された光を受光する。 （もっと読む）