リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
【課題】基板テーブルの異なる領域間の液体の封止を効率よくできるリソグラフィ装置を提供すること。
【解決手段】基板テーブルは基板テーブル本体ＭＢの上面に配置されるカバー部レート１００を備え、カバープレート１００は平坦で連続的な上面を有するので局所領域タイプの液体供給システムに適用できる。カバープレート１００の上面は基板Ｗの上面とほぼ同一面であり、基板サポートＳＳと基板テーブル本体ＭＢとの間の凹部の中に液体が進入するのを低減する、又は防止するために、封止突出部２００を設置することが可能である。封止突出部２００はカバープレート１００の底部内縁と基板サポートＳＳの上面との間を接続する。
【解決手段】基板テーブルは基板テーブル本体ＭＢの上面に配置されるカバー部レート１００を備え、カバープレート１００は平坦で連続的な上面を有するので局所領域タイプの液体供給システムに適用できる。カバープレート１００の上面は基板Ｗの上面とほぼ同一面であり、基板サポートＳＳと基板テーブル本体ＭＢとの間の凹部の中に液体が進入するのを低減する、又は防止するために、封止突出部２００を設置することが可能である。封止突出部２００はカバープレート１００の底部内縁と基板サポートＳＳの上面との間を接続する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、基板の上、通常は基板の標的部分上に望ましいパターンを加える機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用することができる。その場合、代替的にマスク又はレチクルと呼ばれるパターニング・デバイスが、ＩＣの個々の層の上に形成される回路パターンを生成するために使用される可能性がある。このパターンは、基板（例えば、シリコン・ウエハ）の上の標的部分（例えば、１つ又は幾つかのダイの一部を備える）の上に転写することができる。パターンの転写は、通常、基板上に提供される感放射性材料（レジスト）の層の上への結像を介する。一般に、単一の基板は、連続してパターン形成される隣接標的部分のネットワークを含む。既知のリソグラフィ装置は、パターン全体を標的部分上に一度に露光させることによって各標的部分が照射されるいわゆるステッパと、放射ビームにより所与の方向（「走査」方向）においてパターンを走査し、同時に、この方向に平行又は反平行な基板を同期して走査することによって、各標的部分が照射されるいわゆるスキャナとを含む。また、パターンを基板の上にインプリントすることによって、パターンニング・デバイスから基板にパターンを転写することも可能である。
【０００３】
投影システムの最終要素と基板との間の空間を充填するように、水などの比較的高い屈折率を有する液体内にリソグラフィ投影装置の基板を浸漬させることが提案されている。これの重点は、より小さいフィーチャの結像が可能になることであるが、その理由は、露光放射は、液体内で波長がより短くなるからである（液体の効果は、システムの有効ＮＡを増大させ、また、焦点深度を増大させると見なすことも可能である）。内部に懸濁された固体粒子（例えば石英）を有する水など、他の浸漬液体が提案されている。
【０００４】
しかし、基板又は基板及び基板テーブルを液体の槽に浸漬させることは（例えば、参照によって完全に本明細書に組み込まれている米国特許第４５０９８５２号明細書参照）は、走査露光中に加速しなければならない大量の液体が存在することを意味する。これは、追加の、又はより多くの強力なモータを必要とし、液体における乱流は、望ましなく予測不可能な効果をもたらす可能性がある。
【０００５】
提案された解決策の１つは、液体供給システムが、基板の局所領域上で、及び投影システムの最終要素と基板（基板は、投影システムの最終要素より大きな表面積を一般に有する）との間でのみ液体を提供することである。これを構成するために提案された１つの方式が、参照によって本明細書に完全に組み込まれているＰＣＴ特許出願第ＷＯ９９／４９５０４号において開示されている。図２及び３に示されるように、液体は、好ましくは最終要素に対して基板の移動方向に沿って、少なくとも１つの入り口ＩＮによって基板上に供給され、投影システムの下を通過した後、少なくとも１つの出口ＯＵＴによって除去される。すなわち、基板が−Ｘ方向において要素よりで走査される際に、液体は、要素の＋Ｘ側において供給され、−Ｘ側において取り上げられる。図２は、液体が入り口ＩＮを介して供給され、低圧線源に接続される出口ＯＵＴによって要素の他の側において取り上げられる構成を概略的に示す。図２の例示では、液体は、最終要素に対して基板の移動方向に沿って供給されるが、このとおりである必要はない。様々な配向及び最終要素の回りに位置する入り口及び出口の数が可能であり、一実施例が図３に示され、両側に出口を有する４セットの入り口が、最終要素の回りに規則的なパターンで提供される。
【０００６】
当然、浸漬装置における液体の取扱いは、特に困難である。具体的には、基板テーブルの繊細な部分は、浸漬液体の侵入に対して耐液体性でなければならない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
したがって、例えば、基板テーブルの異なる部分間で封止することが有利である。具体的には、封止が間で延びる基板テーブルの部分間で力を伝達しない封止を有することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様によれば、
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
添着された可撓性投影を有する基板テーブルの第１部分と、
第１部分と第２部分との間に封止を創出するために、突出部の自由端部を引き付けて保持するように構成されるクランプ・デバイスを有する基板テーブルの第２部分とを備える、リソグラフィ投影装置が提供される。
【０００９】
本発明の一態様によれば、
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
一端において基板テーブルに添着され、他端において基板テーブル上のクランプによって取外し式に定位置に保持される封止突出部とを備える、リソグラフィ投影装置が提供される。
【００１０】
本発明の一態様によれば、
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
基板テーブルの上に配置されるセンサと、
センサと基板テーブルとの間に配置され、一端においてセンサに接着され、他端において基板テーブルに接着される封止構造とを備える、リソグラフィ装置が提供される。
【００１１】
本発明の一態様によれば、
基板テーブルの第１部分と第２部分との間に封止を形成するように、基板テーブルの第１部分上に配置されるクランプ・デバイスを使用して可撓性突出部の端部をクランプするステップと、
基板テーブルの上に保持されている基板の上に放射のパターン形成ビームを投影することとを備える、デバイス製造方法が提供される。
【００１２】
本発明の一態様によれば、
放射ビームをセンサ上に投影することを備えるデバイス製造方法が提供され、封止構造が、センサと、基板を保持するように構成される基板テーブルとの間に配置され、封止構造が、一端においてセンサに接着され、他端において基板テーブルに接着される。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を示す図である。
【図２】リソグラフィ投影装置において使用される液体供給システムを示す図である。
【図３】リソグラフィ投影装置において使用される液体供給システムを示す図である。
【図４】リソグラフィ投影装置において使用される他の液体供給システムを示す図である。
【図５】リソグラフィ投影装置において使用される他の液体供給システムを示す図である。
【図６】本発明の一実施例による基板テーブルの断面を示す図である。
【図７】本発明の一実施例による基板テーブルのカバー・プレートと基板サポートとの間の封止の断面図である。
【図７Ａ】本発明の一実施例による基板テーブルのカバー・プレートと基板サポートとの間の他の封止の断面図である。
【図７Ｂ】本発明の一実施例による基板テーブルのカバー・プレートと基板サポートとの間の他の封止の断面図である。
【図８】基板テーブルの上面図である。
【図９】図８の基板テーブルの基板テーブル本体とセンサとの間に形成される封止の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
ここで、対応する参照符号が対応する部分を示す添着の概略的な図面を参照して、例示としてのみ、本発明の実施例について記述する。
【００１５】
図１は、本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を概略的に示す。装置は、
放射ビームＢ（例えば、ＵＶ放射又はＤＵＶ放射）を調整するように構成される照明システム（照明装置）ＩＬと、
パターニング・デバイス（例えば、マスク）ＭＡを保持するように構築され、あるパラメータに従ってパターニング・デバイスを正確に配置するように構成される第１位置決め装置ＰＭに接続される支持構造（例えば、マスク・テーブル）ＭＴと、
基板（例えば、レジストコーティング基板）Ｗを保持するように構築され、あるパラメータに従って基板を正確に配置するように構成される第２位置決め装置ＰＷに接続される基板テーブル（例えば、ウェハ・テーブル）ＷＴと、
放射ビームに付与されたパターンをパターニング・デバイスＭＡによって基板Ｗの標的部分Ｃ（例えば、１つ又は複数のダイを備える）の上に投影するように構成される投影システム（例えば、屈折投影レンズ・システム）ＰＳとを備える。
【００１６】
照明システムは、放射を誘導、成形、又は制御するために、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気、又は他のタイプの光学構成要素、或いはその組合わせなど、様々なタイプの光学構成要素を含むことが可能である。
【００１７】
支持構造は、パターニング・デバイスの配向、リソグラフィ装置の設計、及び、例えばパターニング・デバイスが真空環境において保持されているか否かなどの他の条件に依存するような方式で、パターニング・デバイスを保持する。支持構造は、パターニング・デバイスを保持するために、機械、真空、静電気、又は他のクランプ技法を使用することができる。支持構造は、例えば、必要に応じて固定又は可動とすることが可能であるフレーム又はテーブルとすることが可能である。支持構造は、パターニング・デバイスが、例えば、投影システムに対して、望ましい位置にあることを保証することが可能である。本明細書における「レチクル」又は「マスク」という要素のあらゆる使用は、より一般的な用語である「パターニング・デバイス」と同義であると考慮されることが可能である。
【００１８】
本明細書において使用される「パターニング・デバイス」という用語は、基板の標的部分においてパターンを創出するようになど、断面において放射ビームにパターンを付与するために使用することができる任意のデバイスを指すと広範に解釈されるべきである。放射ビームに付与されるパターンは、例えば、パターンが、位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板の標的部分における望ましいパターンに正確に対応しない可能性があることに留意されたい。一般に、放射ビームに付与されるパターンは、集積回路においてなど、標的部分において創出されるデバイスの特定の機能層に対応する。
【００１９】
パターニング・デバイスは、透過性又は反射性とすることが可能である。パターニング・デバイスの実施例には、マスク、プログラム可能ミラー・アレイ、及びプログラム可能ＬＣＤパネルがある。マスクは、リソグラフィでは周知であり、バイナリ、レベンソン型位相シフト、ハーフトーン型位相シフトなどのタイプのマスク、並びに様々なハイブリッド・マスクのタイプを含む。プログラム可能ミラー・アレイの実施例は、小さいミラーの行列構成を使用し、ミラーのそれぞれは、入り放射ビームを異なる方向に反射するように個々に傾斜させることができる。傾斜ミラーは、ミラー行列によって反射される放射ビームにおいてパターンを付与する。
【００２０】
本明細書において使用される「投影システム」という用語は、使用される露光放射に適切である、又は浸漬液体の使用若しくは真空の使用などの他のファクタに適切である屈折、反射、反射屈折、磁気、電磁気、及び静電気の光学システムの任意のタイプの投影システムを包含すると広範に解釈されるべきである。本明細書における「投影レンズ」という用語のあらゆる使用は、「投影システム」というより一般的な用語と同義であると見なされることが可能である。
【００２１】
本明細書において記述されるように、装置は、透過タイプである（例えば、透過性マスクを使用する）。代替として、装置は、反射タイプ（例えば、上記で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイを使用する、又は反射性マスクを使用する）とすることが可能である。
【００２２】
リソグラフィ装置は、２つ（２重ステージ）以上の基板テーブル（及び／又は２つ以上の支持構造）を有するタイプとすることが可能である。そのような「複数ステージ」機械では、追加のテーブルは、平行に使用されることが可能であり、或いは、１つ又は複数の他のテーブルが露光に使用されている間、予備ステップが、１つ又は複数のテーブル上で実施されることが可能である。
【００２３】
図１を参照すると、照明装置ＩＬは、放射線源ＳＯから放射ビームを受け取る。線源及びリソグラフィ装置は、例えば線源がエキシマ・レーザであるとき、別々のエンティティとすることが可能である。そのような場合、線源は、リソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な方向付けミラー及び／又はビーム・エクスパンダを備えるビーム送達システムＢＤの補助で、線源ＳＯから照明装置ＩＬに進む。他の場合、線源は、例えば線源が水銀灯であるとき、リソグラフィ装置の一体的一部とすることが可能である。線源ＳＯ及び照明装置ＩＬは、必要であればビーム送達システムＢＤと共に、放射システムと呼ばれることが可能である。
【００２４】
照明装置ＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調節する調節装置ＡＤを備えることが可能である。一般に、照明装置の瞳平面における強度分布の少なくとも外部及び／又は内部の径方向程度（一般にそれぞれσ外部及びσ内部と呼ばれる）が、調節されることが可能である。更に、照明装置ＩＬは、積分器ＩＮ及びコンデンサＣＯなど、様々な他の構成要素を備えることが可能である。照明装置は、断面において望ましい一様性及び強度分布を有するように、放射ビームを調整するために使用されることが可能である。
【００２５】
放射ビームＢは、支持構造（例えば、マスク・テーブルＭＴ）上で保持されるパターニング・デバイス（例えば、マスクＭＡ）に入射し、パターニング・デバイスによってパターン形成される。パターニング・デバイスＭＡを横断した後、放射ビームＢは、投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳは、基板Ｗの標的部分Ｃにビームを集束させる。第２位置決め装置ＰＷ及び位置センサＩＦ（例えば、干渉デバイス、線形エンコーダ、又は容量センサ）の補助で、例えば放射ビームＢの経路に異なる標的部分Ｃを配置するように、基板テーブルＷＴを正確に移動させることができる。同様に、第１位置決め装置ＰＭ及び他の位置センサ（図１では明示されていない）は、例えばマスク・ライブラリからの機械的な取出しの後、又は走査中、放射ビームＢの経路に関して位置決めデバイスＭＡを正確に配置するために使用されることが可能である。一般に、支持構造ＭＴの移動は、第１位置決め装置ＰＭの一部を形成する長ストローク・モジュール（粗い位置決め）及び短ストローク・モジュール（細かい位置決め）の補助で実現されることが可能である。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第２位置決め装置ＰＷの一部を形成する長ストローク・モジュール及び短ストローク・モジュールを使用して実現されることが可能である。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、支持構造ＭＴは、短ストローク作動装置のみに接続されることが可能であり、又は固定されることが可能である。マスクＭＡ及び基板Ｗは、パターニング・デバイス・アライメント・マークＭ１、Ｍ２及び基板アライメント・マークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることが可能である。基板アライメント・マークは、示されるように、専用標的部分を占めるが、標的部分（これらは、スクライブ・レイン・アライメント・マークとして既知である）間の空間に位置することが可能である。同様に、２つ以上のダイがパターニング・デバイスＭＡ上で提供される状況では、パターニング・デバイス・アライメント・マークは、ダイ間に位置することが可能である。
【００２６】
以下のモードの少なくとも１つにおいて、記述される装置を使用することができる。
１．ステップ・モードにおいて、支持構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴは、本質的に静止して維持され、一方、放射ビームに付与されるパターン全体は、標的部分Ｃの上に一度に投影される（すなわち、単一静的露光）。次いで、基板テーブルＷＴは、異なる標的部分Ｃを露光させることができるように、Ｘ及び／又はＹ方向においてシフトされる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズは、単一静的露光において結像される標的部分Ｃのサイズを限定する。
２．走査モードにおいて、支持構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴは、放射ビームに付与されるパターンが標的部分Ｃの上に投影される間、同期して走査される（すなわち、単一動的露光）。支持構造ＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影システムＰＳの（縮小）倍率及び像反転特性によって決定されることが可能である。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズは、単一動的露光における標的部分の幅（非走査方向における）を限定し、一方、走査動きの長さは、標的部分の高さ（走査方向における）を決定する。
３．他のモードにおいて、支持構造ＭＴは、本質的に静止して維持されて、プログラム可能パターニング・デバイスを保持し、基板テーブルＷＴは、放射ビームに付与されるパターンが標的部分Ｃの上に投影される間、移動又は走査される。このモードでは、一般に、パルス放射線源が使用され、プログラム可能パターニング・デバイスは、基板テーブルＷＴの各移動後、又は走査中の連続放射パルス間で、必要に応じて更新される。この動作モードは、上記で記述されたタイプのプログラム可能ミラー・アレイなど、プログラム可能パターニング・デバイスを使用するマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
【００２７】
上述された使用モードの組合わせ及び／又は変形形態、或いは完全に異なる使用モードが使用されることも可能である。
【００２８】
局所液体供給システムを有する他の浸漬リソグラフィ解決策が、図４に示されている。液体は、投影システムＰＬの両側にある２つの溝入り口ＩＮによって供給され、入り口ＩＮの径方向外側に配置される複数の離散出口ＯＵＴによって除去される。入り口ＩＮ及びＯＵＴは、中央に穴を有するプレートにおいて構成することができ、その穴を通して、投影ビームが投影される。液体は、投影システムＰＬの一方の側にある１つの溝入り口ＩＮによって供給され、投影システムＰＬの他の側にある複数の離散出口ＯＵＴによって除去され、投影システムＰＬと基板Ｗとの間で液体の薄膜の流れが生じる。入り口ＩＮ及び出口ＯＵＴのどの組み合わせを使用するかの選択は、基板Ｗの移動方向に依存することがある（入り口ＩＮと出口ＯＵＴの他の組合わせは、非活動的である）。
【００２９】
提案されている局所液体供給システム解決策を有する他の浸漬リソグラフィ解決策は、液体閉込め構造を有する液体供給システムを提供する。液体閉込め構造は、投影システムの最終要素と基板テーブルとの間の空間の境界の少なくとも一部に沿って延びる。そのようなシステムが、図５に示されている。液体閉込め構造は、ＸＹ平面において投影システムに対してほぼ静止しているが、Ｚ方向（光軸の方向）にはある程度の相対運動が行われることが可能である。封止が、液体閉込め構造と基板の表面との間に形成される。一実施例では、封止は、気体封止など、無接触封止である。気体封止を有するそのようなシステムが、参照によって本明細書に完全に組み込まれている米国特許出願第１０／７０５７８３号において開示されている。
【００３０】
図５は、リザーバ１０の構成を示し、これは、投影システムの像フィールドの回りに基板に対する無接触封止を形成し、それにより、液体は、基板表面と投影システムの最終要素との間の空間を充填するように閉じ込められる。投影システムＰＬの最終要素の下に配置され、かつそれを囲む液体閉込め構造１２が、リザーバを形成する。液体は、投影システムの下で液体閉込め構造１２の内部の空間内に入れられる。液体閉込め構造１２は、投影システムの最終要素よりわずかに上に延び、液体レベルは、液体のバッファが提供されるように、最終要素より上まで上昇する。液体閉込め構造１２は、上端部において好ましくは投影システム又はその最終要素の形状に密接に合致し、例えば円形とすることが可能である内周囲を有する。底部において、内周囲は、例えば矩形である像フィールドの形状に密接に合致するが、これは、必要ではない。
【００３１】
液体は、液体閉込め構造１２の底部と基板Ｗの表面との間の気体封止１６によってリザーバに閉じ込められる。気体封止は、空気、人工空気、Ｎ２、又は不活性気体などの気体によって形成され、液体閉込め構造１２と基板との間のギャップへ入り口１５を介して加圧されて提供され、出口１４を介して抽出される。気体入り口１５に対する過剰圧力、出口１４に対する真空レベル、及びギャップの幾何学的形状は、液体を閉じ込める高速気体流が内部に存在するように構成される。当業者なら、単に液体及び／又は気体を除去するための出口など、液体を包含するために他のタイプの封止を使用することができることを理解するであろう。
【００３２】
図６は、基板テーブルＷＴを示す。基板テーブルＷＴは、基板テーブル本体ＭＢを備え、これは、一実施例では、基板Ｗの位置を計算することができるように、干渉計システムの１つ又は複数のミラーを担持するミラー・ブロックである。基板テーブル本体ＭＢは、基板Ｗを配置するように構成される１つ又は複数の作動装置を収容することも可能である。基板Ｗは、基板テーブル本体ＭＢの上面の凹み８０に配置される基板サポートＳＳによって保持される。基板サポートＳＳは、上面及び底面に複数の突出部を備えるいわゆるピンプル又はバール・テーブルであることが好都合である。真空又は不足圧力が、基板テーブル本体ＭＢに対して基板サポートＳＳを保持し、また基板サポートＳＳに対して基板Ｗを保持するために、ピンプル間の領域において加えられる。一実施例では、基板サポートＳＳは、基板テーブル本体ＭＢに一体式とすることが可能である。
【００３３】
この基板テーブルＷＴは、液体が投影システムＰＳと基板Ｗとの間で提供される浸漬リソグラフィ装置において使用されるので、基板テーブルは、基板テーブル本体ＭＢの上面に配置されるカバー・プレート１００を更に備える。カバー・プレート１００は、平坦で連続的な上面を提供し、それにより、局所領域タイプの液体供給システム（すなわち、一度に基板Ｗの局所領域にのみ液体を提供するもの）を使用することができる。したがって、カバー・プレート１００の上面は、基板Ｗの上面と（及び、図８に示され、以下で記述されるように、基板テーブル本体ＭＢの上面の凹みに配置されることが可能である任意のセンサの上面とも）ほぼ共面である。一実施例では、カバー・プレート１００は、基板テーブル本体ＭＢに一体式とすることが可能である。
【００３４】
基板サポートＳＳと基板テーブル本体ＭＢとの間の凹み８０の中に液体が進入するのを低減する、又は防止するために、封止突出部２００が提供されることが可能であり、これは、カバー・プレート１００の底部内縁と基板サポートＳＳの上面との間で延びる。構成は、図７において詳細に見ることができる。
【００３５】
一実施例では、基板テーブルＷＴを本格的に解体せずに、基板サポートＳＳが基板テーブル本体ＭＢから取り外されることが可能であることが有用である。この理由で、例えば、カバー・プレート１００と基板サポートＳＳとの間で、取外し可能及び／又は非活動化可能封止突出部２００が提供されることが可能である。カバー・プレート１００は、基板テーブル本体ＭＢの上面に取外し式に取り付けられることも可能であり、それにより、カバー・プレート１００によって保護される基板テーブルＷＴの要素は、容易にサービスされることが可能である。カバー・プレート１００は、カバー・プレート突出部１１０を備え、これは、例えば欧州特許出願第０４２５３３５４．７号に記載されているように、いわゆる縁封止部材である。この縁封止部材の最も基本的な形態が、図７に示されている。他のタイプの縁封止部材及び／又は他の構成も、使用されることが可能である。
【００３６】
本発明の代替又は追加の実施例によれば、封止突出部２００は、一般に半円の形状である末端２１１を備える。これは、図７Ａにおいてより詳細に示されている。半円断面を有する末端を提供することによって、圧力差に露光される封止突出部２００の全表面、具体的には底面において低圧入り口８５に露光される末端２１１の全表面が増大される。これにより、封止突出部２００を基板サポートＳＳの上にクランプするのを補助する力がより大きくなる。末端２１１は、封止突出部材２００と同じ材料で作成することができるが、あらゆる他の適切な材料で作成することも可能である。
【００３７】
本発明の他の代替又は追加の実施例によれば、分離力部材２１２が提供され、これは、封止突出部材２００に対して力を及ぼすことができる。これは、図７Ｂにおいてより詳細に示されている。分離力部材２１２は、基板サポートＳＳに添着され、その自由端部は、封止突出部２００に接触する。例えば封止突出部２００の材料と同様の材料である弾性材料で作成されることが可能であり、封止突出部２００に接触する分離力部材２１２で、封止突出部２００を基板サポートＳＳにクランプするのを補助する追加のクランプ力を及ぼすことができる。
【００３８】
封止突出部２００は、示されるように一実施例ではカバー・プレート突出部１１０の下にあるカバー・プレート１００の底面と、基板サポートＳＳの上面との間で延びる。一実施例では、封止突出部２００は、基板サポートＳＳの全周囲の回りに一部品で延びる。これは、液密に最適な構成である可能性がある。封止突出部２００の材料は可撓性であり、それにより、基板テーブルＳＳとカバー・プレート１００との間で、すべての方向であるが、具体的にはＺ方向の力を伝達されることができない、すなわち、封止は、リソグラフィ装置の光軸の実質的な方向において、カバー・プレート１００及び基板サポートＳＳから脱結合される。一実施例では、可撓性封止は、封止の約１Ｎ／ｍより小さい最大力を及ぼす。封止突出部２００の一端が、接着剤２２０のビードによってカバー・プレートに添着される。液密方式で封止を添着する他の方式が使用されることも可能である。封止突出部２００の他端は、示される実施例では低圧入り口８５の形態において、基板サポートＳＳに引き付けられ、そこで、クランプ・デバイスによって取外し式に保持される。クランプ・デバイスは、例えば電磁クランプ・デバイス、静電気クランプ・デバイス、及び／又は取外し式接着剤を含めて、あらゆるタイプとすることが可能である。したがって、カバー・プレートは、取り外されることが可能であり、封止突出部２００は、遠隔的に活動化又は非活動化されることが可能である。
【００３９】
可撓性封止突出部２００と基板サポートＳＳとの間で良好な封止を達成するために、実質的に非可撓性の部分２１０（可撓性封止突出部２００より少なくとも可撓性ではない部分）が、カバー・プレート１００から突出する封止突出部２００の自由端部に配置される。非可撓性部分は、例えば、可撓性封止突出部２００の可撓性材料の上面に接着される金属部分とすることが可能である。したがって、低圧入り口８５が活動化されるとき、可撓性封止突出部２００は下方に湾曲し、それにより、可撓性材料は、良好な封止を生成するように、非可撓性部材２１０と低圧入り口８５との間でクランプされる。このようにして、クランプ・デバイスの低圧入り口８５は、液体が進入するのを防止することができるので、完全乾燥低圧入り口とすることが可能である。これは、湿潤低圧入り口（図示せず）とすることが可能である基板サポートＳＳによって使用される低圧入り口とはおそらく対照的であるが、その理由は、そのような良好な封止は、カバー・プレート１００と基板Ｗとの間で容易には達成されない可能性があり、その結果、液体が、基板Ｗと基板サポートＳＳとの間のギャップに侵入する可能性があるからである。非可撓性部分２１０は、可撓性部分、基板サポートＳＳ、カバー・プレート１００、及び基板Ｗの間のギャップを部分的に充填する。一実施例では、このギャップは、液体供給システムの最適な性能のために最小限に抑えられる。
【００４０】
一実施例では、封止突出部２００及び／又は非可撓性部分２１０は、リソグラフィ装置の放射に対して耐性のあるポリマー可撓性又は弾性材料で作成される。封止突出部２００及び／又は非可撓性部分２１０は、金属で作成されることも可能である。例えば、カバー・プレート突出部１１０が封止突出部２００及び／又は非可撓性部分２１０を投影ビームＢによる照射から保護する場合、更にゴムが使用されることが可能である。
【００４１】
一実施例では、非可撓性部分２１０、半円形末端２１１、及び分離力部材２１２は、投影ビームＢの放射から封止突出部２００を遮蔽することが可能であり、それにより、投影システムの放射に対して耐性のない材料が、封止突出部２００について選択されることが可能である。
【００４２】
一実施例では、クランプ・デバイスの強度（この実施例では低圧クランプ・デバイス８５）は、液密封止を創出するように約２５Ｎ／ｍであり、可撓性封止突出部２００の材料はゴムである。
【００４３】
本発明の一実施例による基板テーブルＷＴの他の詳細が、図８及び９を参照して示されている。図８は、基板テーブルＷＴの上面の平面図である。様々なオリフィスを有するカバー・プレート１００の上面を見ることができる。中央円形オリフィスは、基板サポートＳＳが配置される凹み８０のオリフィスである。様々な構成要素が、中央オリフィスの回りに配置され、これは、投影システムＰＳの投影ビームＢによって照明することができる。これらの様々な構成要素は、例えば２つの透過性センサ（ＴＩＳ）３１０、スポット・センサ３３０、及び集積レンズ干渉計（ＩＬＩＡＳ）３２０を含めて、１つ又は複数のセンサとすることが可能である。一実施例では、カバー・プレート１００は、基板テーブル本体ＭＢから容易に取り外すことが可能であるが、カバー・プレート１００、センサ３１０、３２０、３３０の１つ又は複数、及び基板テーブル本体ＭＢの間に良好な封止も存在すべきである。図９に示される構成は、センサ３１０、３２０、３３０に隣接するカバー・プレート１００の縁及び基板テーブル本体ＭＢを通る断面である。一実施例では、サービス性（すなわち、カバー・プレートの取外し性）を犠牲にせずにカバー・プレート１００とセンサ３１０、３２０、３３０との間の良好な封止を確立することができる。また、カバー・プレート１００、基板テーブル本体ＭＢ、及び／又はセンサ３１０、３２０、３３０の間を進行する妨害が、最小限に抑えられるべきである。このために、２重層封止構築が示され、底部層は、液密封止として機能し、上部層は、狭窄に入らないあらゆる液体を除去する能力を有する狭窄として構築される。
【００４４】
封止の底部層は、封止構造４００を有し、この場合、可撓性である必要はないが、可撓性又は剛性とすることができ、センサ３１０、３２０、３３０と基板テーブル本体ＭＢとの間に位置する。１つ又は複数のステップが、基板テーブル本体ＭＢ、及び封止構造４００が１つの上に配置されるセンサ３１０、３２０、３３０の両方から機械加工される。封止構造４００は、接着剤のビード４１０、４２０で、各端部のそれぞれにおいて基板テーブル本体ＭＢ及びセンサ３１０、３２０、３３０に接着される。接着剤は、封止構造４００の端部においてのみ加えられ、それにより、封止構造４００は、端部のそれぞれにおいて小さい旋回運動を受けることができる。したがって、封止構造４００は、それが接着される基板テーブル本体ＭＢの壁とセンサ３１０、３２０、３３０との間のギャップより狭くなるように寸法決めされる。一実施例では、封止構造４００は、センサ３１０、３２０、３３０の全周囲の回りに延びる単一部品の材料から機械加工される。封止のこの底部層は、液密である。このようにして、封止構造４００は、Ｚ方向においてコンプライアントであり、センサ３１０、３２０、３３０が、基板テーブル本体ＭＢ又はカバー・プレート１００とは独立に、Ｚ方向に移動することを可能にする。
【００４５】
一実施例では、センサ３１０、３２０、３３０の底部ステップは、センサ３１０、３２０、３３０の中立軸３５０が封止基板４００の平面にあるような位置にある。センサ３１０、３２０、３３０の中立軸は、センサ３１０、３２０、３３０の変位及び変形を誘起しない力を回りに加えることができる軸である。このようにして、封止構造４００を経てセンサ３１０、３２０、３３０に加えられるあらゆる力が、センサ３１０、３２０、３３０を傾斜させるようには作用しない。
【００４６】
接着剤４１０、４２０のビード、具体的には内部ビード４１０を投影ビームＢによる照明、したがって可能な劣化から保護するために（センサ３１０、３２０、３３０の１つ又は複数が、液体を経て投影ビームＢによって照明されることが可能であるので）、突出部１２０が、カバー・プレート１００のセンサ・オリフィスの内周囲の回りに提供される。この突出部は、ステップ１２０の形態にあり、センサ３１０、３２０、３３０の相補ステップ３４０と相互作用する。カバー・プレート１００の突出部１２０とセンサ３１０、３２０、３３０のステップ３４０との間にギャップ５００が提供され、それにより、妨害力が、センサ３１０、３２０、３３０とカバー・プレート１００との間で伝達されない。しかし、ギャップ５００のサイズは、液体が容易に通過することができない狭窄を提供するように、小さくあるべきである（一実施例では、０．３ｍｍ未満、０．１ｍｍ未満、又は０．０５ｍｍ未満）。狭窄５００を通過しない液体は、封止構造４００より上に位置する低圧入り口１４０によって抽出されることが可能である。カバー・プレート１００の相補インタロック・ステップ及びセンサ３１０、３２０、３３０は、基板テーブルの上から封止構造４００への経路が、液体が通過することが困難であるように、蛇行するようなものである。
【００４７】
２つのタイプの封止が、カバー・プレート１００と基板サポートＳＳとの間、及び基板テーブル本体ＭＢとセンサ３１０、３２０、３３０との間の封止に関して本明細書において議論されたが、これらは、単なる実施例であり、本明細書において議論される封止のタイプは、基板テーブルにおける、若しくは基板テーブルの上にあるあらゆる２つの部分間、及び／又は基板テーブルと基板Ｗとの間を封止するために使用されることが可能である。
【００４８】
欧州特許出願第０３２５７０７２．３号において、ツイン又は２重ステージの浸漬リソグラフィ装置の概念が開示されている。そのような装置は、基板を支持する２つのテーブルを備える。レベル測定が、浸漬液体を有さずに、第１位置のテーブルで実施され、露光が、浸漬液体が存在する第２位置のテーブルで実施される。代替として、装置は、１つのテーブルのみを有する。
【００４９】
このテキストでは、ＩＣを製造するリソグラフィ装置の使用を具体的に参照することが可能であるが、本明細書において記述されるリソグラフィ装置は、集積光学システム、磁区メモリのガイダンス及び検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造など、他の応用分野を有することが可能であることを理解されたい。当業者なら、そのような代替適用分野の文脈では、本明細書の「ウエハ」又は「ダイ」という用語のあらゆる使用は、それぞれ、「基板」又は「標的部分」というより一般的な用語と同義であると見なすことが可能であることを理解するであろう。本明細書において言及される基板は、例えば、トラック（通常、レジストの層を基板に加え、露光レジストを開発する器具）、計測ツール、及び／又は検査ツールにおいて、露光前又は露光後に処理されることが可能である。適用可能である場合、本明細書の開示は、そのような処理器具及び他の基板処理器具に適用されることが可能である。更に、基板は、例えば多層ＩＣを創出するために、２回以上処理されることが可能であり、したがって、本明細書において使用される基板という用語は、複数の処理層をすでに含む基板を指すことも可能である。
【００５０】
光学リソグラフィの文脈において、本発明の実施例の使用を上記で具体的に参照した可能性があるが、本発明は、インプリント・リソグラフィなど、他の応用分野において使用されることが可能であり、文脈が許容すれば、光学リソグラフィに限定されるものではないことが理解されるであろう。インプリント・リソグラフィでは、パターニング・デバイスのトポグラフィが、基板の上に創出されるパターンを確定する。パターニング・デバイスのトポグラフィは、基板に加えられたレジスト層の中にプレスすることが可能であり、その際、レジストは、電磁放射、熱、圧力、又はその組合わせを加えることによって硬化する。パターニング・デバイスは、レジストから外され、レジストが硬化した後、レジストにおいてパターンを残す。
【００５１】
本明細書において使用される「放射」及び「ビーム」という用語は、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５、２４８、１９３、１５７、若しくは１２６ｎｍの波長、又はほぼその波長を有する）、及び極紫外線（ＥＵＶ）放射（例えば、５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）、並びにイオン・ビーム又は電子ビームなどの粒子ビームを含む、すべてのタイプの電磁放射を包含する。
【００５２】
「レンズ」という用語は、文脈が許容すれば、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気、及び光学の構成要素を含めて、様々なタイプの光学構成要素のいずれか１つ又は組合わせを指すことが可能である。
【００５３】
本発明の具体的な実施例が上記において記述されたが、本発明は、記述とは異なるように実施されることが可能であることが理解されるであろう。例えば、本発明は、上記で開示された方法を記述する機械可読命令の１つ又は複数のシーケンスを含むコンピュータ・プログラム、又は内部に記憶されているコンピュータ・プログラムなどを有するデータ記憶媒体（例えば、半導体メモリ、磁気ディスク、又は光ディスク）の形態を取ることが可能である。
【００５４】
本発明の１つ又は複数の実施例が、浸漬液体が槽の形態で又は基板の局所表面領域上においてのみ提供されるかにかかわらず、上記で記述されたタイプなどの任意の浸漬リソグラフィ装置に適用されることが可能である。液体供給システムは、投影システムと基板及び／又は基板テーブルとの間の空間に液体を提供する任意の機構である。これは、１つ又は複数の構造、１つ又は複数の液体入り口、１つ又は複数の気体入り口、１つ又は複数の気体出口、並びに／或いは１つ又は複数の液体出口の任意の組合わせを備えることが可能であり、組合わせは、液体を空間に提供して、閉じ込める。一実施例では、空間の表面が、基板及び／又は基板テーブルの一部に限定されることが可能であり、空間の表面が、基板及び／又は基板テーブルの表面を完全に覆うことが可能であり、或いは、空間は、基板及び／又は基板テーブルを包むことが可能である。
【００５５】
上記の記述は、限定ではなく、例示を意図する。したがって、当業者には、述べられる特許請求の範囲から逸脱せずに、記述された本発明に対し修正を実施することが可能であることが明らかであろう。
【符号の説明】
【００５６】
ＩＬ 照明システム（照明装置）
Ｂ 放射ビーム
ＭＴ 支持構造（マスク・テーブル）
ＭＡ パターニング・デバイス（マスク）
ＰＭ 第１位置決め装置
ＷＴ 基板テーブル
Ｗ 基板
ＰＷ 第２位置決め装置
ＰＳ 投影システム
Ｃ 標的部分
ＳＯ 放射線源
ＢＤ ビーム送達システム
ＡＤ 調節装置
ＩＮ 積分器
ＣＯ コンデンサ
ＩＦ 位置センサ
Ｍ１、Ｍ２ パターニング・デバイス・アライメント・マーク
Ｐ１、Ｐ２ 基板アライメント・マーク
ＭＢ 基板テーブル本体
ＳＳ 基板サポート
ＩＮ 入り口
ＯＵＴ 出口
１０ リザーバ
１２ 液体閉込め構造
１４ 出口
１５ 入り口
８５ 低圧入り口
１００ カバー・プレート
１４０ 低圧入り口
２００ 封止突出部
２１０ 非可撓性部分
２１１ 末端
２１２ 分離力部材
２２０ 接着剤
３１０ 透過増センサ
３２０ 集積レンズ干渉計
３３０ スポット・センサ
４００ 封止構造
４１０、４２０ 接着剤のビード
５００ 狭窄、ギャップ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、基板の上、通常は基板の標的部分上に望ましいパターンを加える機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用することができる。その場合、代替的にマスク又はレチクルと呼ばれるパターニング・デバイスが、ＩＣの個々の層の上に形成される回路パターンを生成するために使用される可能性がある。このパターンは、基板（例えば、シリコン・ウエハ）の上の標的部分（例えば、１つ又は幾つかのダイの一部を備える）の上に転写することができる。パターンの転写は、通常、基板上に提供される感放射性材料（レジスト）の層の上への結像を介する。一般に、単一の基板は、連続してパターン形成される隣接標的部分のネットワークを含む。既知のリソグラフィ装置は、パターン全体を標的部分上に一度に露光させることによって各標的部分が照射されるいわゆるステッパと、放射ビームにより所与の方向（「走査」方向）においてパターンを走査し、同時に、この方向に平行又は反平行な基板を同期して走査することによって、各標的部分が照射されるいわゆるスキャナとを含む。また、パターンを基板の上にインプリントすることによって、パターンニング・デバイスから基板にパターンを転写することも可能である。
【０００３】
投影システムの最終要素と基板との間の空間を充填するように、水などの比較的高い屈折率を有する液体内にリソグラフィ投影装置の基板を浸漬させることが提案されている。これの重点は、より小さいフィーチャの結像が可能になることであるが、その理由は、露光放射は、液体内で波長がより短くなるからである（液体の効果は、システムの有効ＮＡを増大させ、また、焦点深度を増大させると見なすことも可能である）。内部に懸濁された固体粒子（例えば石英）を有する水など、他の浸漬液体が提案されている。
【０００４】
しかし、基板又は基板及び基板テーブルを液体の槽に浸漬させることは（例えば、参照によって完全に本明細書に組み込まれている米国特許第４５０９８５２号明細書参照）は、走査露光中に加速しなければならない大量の液体が存在することを意味する。これは、追加の、又はより多くの強力なモータを必要とし、液体における乱流は、望ましなく予測不可能な効果をもたらす可能性がある。
【０００５】
提案された解決策の１つは、液体供給システムが、基板の局所領域上で、及び投影システムの最終要素と基板（基板は、投影システムの最終要素より大きな表面積を一般に有する）との間でのみ液体を提供することである。これを構成するために提案された１つの方式が、参照によって本明細書に完全に組み込まれているＰＣＴ特許出願第ＷＯ９９／４９５０４号において開示されている。図２及び３に示されるように、液体は、好ましくは最終要素に対して基板の移動方向に沿って、少なくとも１つの入り口ＩＮによって基板上に供給され、投影システムの下を通過した後、少なくとも１つの出口ＯＵＴによって除去される。すなわち、基板が−Ｘ方向において要素よりで走査される際に、液体は、要素の＋Ｘ側において供給され、−Ｘ側において取り上げられる。図２は、液体が入り口ＩＮを介して供給され、低圧線源に接続される出口ＯＵＴによって要素の他の側において取り上げられる構成を概略的に示す。図２の例示では、液体は、最終要素に対して基板の移動方向に沿って供給されるが、このとおりである必要はない。様々な配向及び最終要素の回りに位置する入り口及び出口の数が可能であり、一実施例が図３に示され、両側に出口を有する４セットの入り口が、最終要素の回りに規則的なパターンで提供される。
【０００６】
当然、浸漬装置における液体の取扱いは、特に困難である。具体的には、基板テーブルの繊細な部分は、浸漬液体の侵入に対して耐液体性でなければならない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
したがって、例えば、基板テーブルの異なる部分間で封止することが有利である。具体的には、封止が間で延びる基板テーブルの部分間で力を伝達しない封止を有することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様によれば、
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
添着された可撓性投影を有する基板テーブルの第１部分と、
第１部分と第２部分との間に封止を創出するために、突出部の自由端部を引き付けて保持するように構成されるクランプ・デバイスを有する基板テーブルの第２部分とを備える、リソグラフィ投影装置が提供される。
【０００９】
本発明の一態様によれば、
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
一端において基板テーブルに添着され、他端において基板テーブル上のクランプによって取外し式に定位置に保持される封止突出部とを備える、リソグラフィ投影装置が提供される。
【００１０】
本発明の一態様によれば、
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
基板テーブルの上に配置されるセンサと、
センサと基板テーブルとの間に配置され、一端においてセンサに接着され、他端において基板テーブルに接着される封止構造とを備える、リソグラフィ装置が提供される。
【００１１】
本発明の一態様によれば、
基板テーブルの第１部分と第２部分との間に封止を形成するように、基板テーブルの第１部分上に配置されるクランプ・デバイスを使用して可撓性突出部の端部をクランプするステップと、
基板テーブルの上に保持されている基板の上に放射のパターン形成ビームを投影することとを備える、デバイス製造方法が提供される。
【００１２】
本発明の一態様によれば、
放射ビームをセンサ上に投影することを備えるデバイス製造方法が提供され、封止構造が、センサと、基板を保持するように構成される基板テーブルとの間に配置され、封止構造が、一端においてセンサに接着され、他端において基板テーブルに接着される。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を示す図である。
【図２】リソグラフィ投影装置において使用される液体供給システムを示す図である。
【図３】リソグラフィ投影装置において使用される液体供給システムを示す図である。
【図４】リソグラフィ投影装置において使用される他の液体供給システムを示す図である。
【図５】リソグラフィ投影装置において使用される他の液体供給システムを示す図である。
【図６】本発明の一実施例による基板テーブルの断面を示す図である。
【図７】本発明の一実施例による基板テーブルのカバー・プレートと基板サポートとの間の封止の断面図である。
【図７Ａ】本発明の一実施例による基板テーブルのカバー・プレートと基板サポートとの間の他の封止の断面図である。
【図７Ｂ】本発明の一実施例による基板テーブルのカバー・プレートと基板サポートとの間の他の封止の断面図である。
【図８】基板テーブルの上面図である。
【図９】図８の基板テーブルの基板テーブル本体とセンサとの間に形成される封止の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
ここで、対応する参照符号が対応する部分を示す添着の概略的な図面を参照して、例示としてのみ、本発明の実施例について記述する。
【００１５】
図１は、本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を概略的に示す。装置は、
放射ビームＢ（例えば、ＵＶ放射又はＤＵＶ放射）を調整するように構成される照明システム（照明装置）ＩＬと、
パターニング・デバイス（例えば、マスク）ＭＡを保持するように構築され、あるパラメータに従ってパターニング・デバイスを正確に配置するように構成される第１位置決め装置ＰＭに接続される支持構造（例えば、マスク・テーブル）ＭＴと、
基板（例えば、レジストコーティング基板）Ｗを保持するように構築され、あるパラメータに従って基板を正確に配置するように構成される第２位置決め装置ＰＷに接続される基板テーブル（例えば、ウェハ・テーブル）ＷＴと、
放射ビームに付与されたパターンをパターニング・デバイスＭＡによって基板Ｗの標的部分Ｃ（例えば、１つ又は複数のダイを備える）の上に投影するように構成される投影システム（例えば、屈折投影レンズ・システム）ＰＳとを備える。
【００１６】
照明システムは、放射を誘導、成形、又は制御するために、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気、又は他のタイプの光学構成要素、或いはその組合わせなど、様々なタイプの光学構成要素を含むことが可能である。
【００１７】
支持構造は、パターニング・デバイスの配向、リソグラフィ装置の設計、及び、例えばパターニング・デバイスが真空環境において保持されているか否かなどの他の条件に依存するような方式で、パターニング・デバイスを保持する。支持構造は、パターニング・デバイスを保持するために、機械、真空、静電気、又は他のクランプ技法を使用することができる。支持構造は、例えば、必要に応じて固定又は可動とすることが可能であるフレーム又はテーブルとすることが可能である。支持構造は、パターニング・デバイスが、例えば、投影システムに対して、望ましい位置にあることを保証することが可能である。本明細書における「レチクル」又は「マスク」という要素のあらゆる使用は、より一般的な用語である「パターニング・デバイス」と同義であると考慮されることが可能である。
【００１８】
本明細書において使用される「パターニング・デバイス」という用語は、基板の標的部分においてパターンを創出するようになど、断面において放射ビームにパターンを付与するために使用することができる任意のデバイスを指すと広範に解釈されるべきである。放射ビームに付与されるパターンは、例えば、パターンが、位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板の標的部分における望ましいパターンに正確に対応しない可能性があることに留意されたい。一般に、放射ビームに付与されるパターンは、集積回路においてなど、標的部分において創出されるデバイスの特定の機能層に対応する。
【００１９】
パターニング・デバイスは、透過性又は反射性とすることが可能である。パターニング・デバイスの実施例には、マスク、プログラム可能ミラー・アレイ、及びプログラム可能ＬＣＤパネルがある。マスクは、リソグラフィでは周知であり、バイナリ、レベンソン型位相シフト、ハーフトーン型位相シフトなどのタイプのマスク、並びに様々なハイブリッド・マスクのタイプを含む。プログラム可能ミラー・アレイの実施例は、小さいミラーの行列構成を使用し、ミラーのそれぞれは、入り放射ビームを異なる方向に反射するように個々に傾斜させることができる。傾斜ミラーは、ミラー行列によって反射される放射ビームにおいてパターンを付与する。
【００２０】
本明細書において使用される「投影システム」という用語は、使用される露光放射に適切である、又は浸漬液体の使用若しくは真空の使用などの他のファクタに適切である屈折、反射、反射屈折、磁気、電磁気、及び静電気の光学システムの任意のタイプの投影システムを包含すると広範に解釈されるべきである。本明細書における「投影レンズ」という用語のあらゆる使用は、「投影システム」というより一般的な用語と同義であると見なされることが可能である。
【００２１】
本明細書において記述されるように、装置は、透過タイプである（例えば、透過性マスクを使用する）。代替として、装置は、反射タイプ（例えば、上記で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイを使用する、又は反射性マスクを使用する）とすることが可能である。
【００２２】
リソグラフィ装置は、２つ（２重ステージ）以上の基板テーブル（及び／又は２つ以上の支持構造）を有するタイプとすることが可能である。そのような「複数ステージ」機械では、追加のテーブルは、平行に使用されることが可能であり、或いは、１つ又は複数の他のテーブルが露光に使用されている間、予備ステップが、１つ又は複数のテーブル上で実施されることが可能である。
【００２３】
図１を参照すると、照明装置ＩＬは、放射線源ＳＯから放射ビームを受け取る。線源及びリソグラフィ装置は、例えば線源がエキシマ・レーザであるとき、別々のエンティティとすることが可能である。そのような場合、線源は、リソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な方向付けミラー及び／又はビーム・エクスパンダを備えるビーム送達システムＢＤの補助で、線源ＳＯから照明装置ＩＬに進む。他の場合、線源は、例えば線源が水銀灯であるとき、リソグラフィ装置の一体的一部とすることが可能である。線源ＳＯ及び照明装置ＩＬは、必要であればビーム送達システムＢＤと共に、放射システムと呼ばれることが可能である。
【００２４】
照明装置ＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調節する調節装置ＡＤを備えることが可能である。一般に、照明装置の瞳平面における強度分布の少なくとも外部及び／又は内部の径方向程度（一般にそれぞれσ外部及びσ内部と呼ばれる）が、調節されることが可能である。更に、照明装置ＩＬは、積分器ＩＮ及びコンデンサＣＯなど、様々な他の構成要素を備えることが可能である。照明装置は、断面において望ましい一様性及び強度分布を有するように、放射ビームを調整するために使用されることが可能である。
【００２５】
放射ビームＢは、支持構造（例えば、マスク・テーブルＭＴ）上で保持されるパターニング・デバイス（例えば、マスクＭＡ）に入射し、パターニング・デバイスによってパターン形成される。パターニング・デバイスＭＡを横断した後、放射ビームＢは、投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳは、基板Ｗの標的部分Ｃにビームを集束させる。第２位置決め装置ＰＷ及び位置センサＩＦ（例えば、干渉デバイス、線形エンコーダ、又は容量センサ）の補助で、例えば放射ビームＢの経路に異なる標的部分Ｃを配置するように、基板テーブルＷＴを正確に移動させることができる。同様に、第１位置決め装置ＰＭ及び他の位置センサ（図１では明示されていない）は、例えばマスク・ライブラリからの機械的な取出しの後、又は走査中、放射ビームＢの経路に関して位置決めデバイスＭＡを正確に配置するために使用されることが可能である。一般に、支持構造ＭＴの移動は、第１位置決め装置ＰＭの一部を形成する長ストローク・モジュール（粗い位置決め）及び短ストローク・モジュール（細かい位置決め）の補助で実現されることが可能である。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第２位置決め装置ＰＷの一部を形成する長ストローク・モジュール及び短ストローク・モジュールを使用して実現されることが可能である。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、支持構造ＭＴは、短ストローク作動装置のみに接続されることが可能であり、又は固定されることが可能である。マスクＭＡ及び基板Ｗは、パターニング・デバイス・アライメント・マークＭ１、Ｍ２及び基板アライメント・マークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることが可能である。基板アライメント・マークは、示されるように、専用標的部分を占めるが、標的部分（これらは、スクライブ・レイン・アライメント・マークとして既知である）間の空間に位置することが可能である。同様に、２つ以上のダイがパターニング・デバイスＭＡ上で提供される状況では、パターニング・デバイス・アライメント・マークは、ダイ間に位置することが可能である。
【００２６】
以下のモードの少なくとも１つにおいて、記述される装置を使用することができる。
１．ステップ・モードにおいて、支持構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴは、本質的に静止して維持され、一方、放射ビームに付与されるパターン全体は、標的部分Ｃの上に一度に投影される（すなわち、単一静的露光）。次いで、基板テーブルＷＴは、異なる標的部分Ｃを露光させることができるように、Ｘ及び／又はＹ方向においてシフトされる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズは、単一静的露光において結像される標的部分Ｃのサイズを限定する。
２．走査モードにおいて、支持構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴは、放射ビームに付与されるパターンが標的部分Ｃの上に投影される間、同期して走査される（すなわち、単一動的露光）。支持構造ＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影システムＰＳの（縮小）倍率及び像反転特性によって決定されることが可能である。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズは、単一動的露光における標的部分の幅（非走査方向における）を限定し、一方、走査動きの長さは、標的部分の高さ（走査方向における）を決定する。
３．他のモードにおいて、支持構造ＭＴは、本質的に静止して維持されて、プログラム可能パターニング・デバイスを保持し、基板テーブルＷＴは、放射ビームに付与されるパターンが標的部分Ｃの上に投影される間、移動又は走査される。このモードでは、一般に、パルス放射線源が使用され、プログラム可能パターニング・デバイスは、基板テーブルＷＴの各移動後、又は走査中の連続放射パルス間で、必要に応じて更新される。この動作モードは、上記で記述されたタイプのプログラム可能ミラー・アレイなど、プログラム可能パターニング・デバイスを使用するマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
【００２７】
上述された使用モードの組合わせ及び／又は変形形態、或いは完全に異なる使用モードが使用されることも可能である。
【００２８】
局所液体供給システムを有する他の浸漬リソグラフィ解決策が、図４に示されている。液体は、投影システムＰＬの両側にある２つの溝入り口ＩＮによって供給され、入り口ＩＮの径方向外側に配置される複数の離散出口ＯＵＴによって除去される。入り口ＩＮ及びＯＵＴは、中央に穴を有するプレートにおいて構成することができ、その穴を通して、投影ビームが投影される。液体は、投影システムＰＬの一方の側にある１つの溝入り口ＩＮによって供給され、投影システムＰＬの他の側にある複数の離散出口ＯＵＴによって除去され、投影システムＰＬと基板Ｗとの間で液体の薄膜の流れが生じる。入り口ＩＮ及び出口ＯＵＴのどの組み合わせを使用するかの選択は、基板Ｗの移動方向に依存することがある（入り口ＩＮと出口ＯＵＴの他の組合わせは、非活動的である）。
【００２９】
提案されている局所液体供給システム解決策を有する他の浸漬リソグラフィ解決策は、液体閉込め構造を有する液体供給システムを提供する。液体閉込め構造は、投影システムの最終要素と基板テーブルとの間の空間の境界の少なくとも一部に沿って延びる。そのようなシステムが、図５に示されている。液体閉込め構造は、ＸＹ平面において投影システムに対してほぼ静止しているが、Ｚ方向（光軸の方向）にはある程度の相対運動が行われることが可能である。封止が、液体閉込め構造と基板の表面との間に形成される。一実施例では、封止は、気体封止など、無接触封止である。気体封止を有するそのようなシステムが、参照によって本明細書に完全に組み込まれている米国特許出願第１０／７０５７８３号において開示されている。
【００３０】
図５は、リザーバ１０の構成を示し、これは、投影システムの像フィールドの回りに基板に対する無接触封止を形成し、それにより、液体は、基板表面と投影システムの最終要素との間の空間を充填するように閉じ込められる。投影システムＰＬの最終要素の下に配置され、かつそれを囲む液体閉込め構造１２が、リザーバを形成する。液体は、投影システムの下で液体閉込め構造１２の内部の空間内に入れられる。液体閉込め構造１２は、投影システムの最終要素よりわずかに上に延び、液体レベルは、液体のバッファが提供されるように、最終要素より上まで上昇する。液体閉込め構造１２は、上端部において好ましくは投影システム又はその最終要素の形状に密接に合致し、例えば円形とすることが可能である内周囲を有する。底部において、内周囲は、例えば矩形である像フィールドの形状に密接に合致するが、これは、必要ではない。
【００３１】
液体は、液体閉込め構造１２の底部と基板Ｗの表面との間の気体封止１６によってリザーバに閉じ込められる。気体封止は、空気、人工空気、Ｎ２、又は不活性気体などの気体によって形成され、液体閉込め構造１２と基板との間のギャップへ入り口１５を介して加圧されて提供され、出口１４を介して抽出される。気体入り口１５に対する過剰圧力、出口１４に対する真空レベル、及びギャップの幾何学的形状は、液体を閉じ込める高速気体流が内部に存在するように構成される。当業者なら、単に液体及び／又は気体を除去するための出口など、液体を包含するために他のタイプの封止を使用することができることを理解するであろう。
【００３２】
図６は、基板テーブルＷＴを示す。基板テーブルＷＴは、基板テーブル本体ＭＢを備え、これは、一実施例では、基板Ｗの位置を計算することができるように、干渉計システムの１つ又は複数のミラーを担持するミラー・ブロックである。基板テーブル本体ＭＢは、基板Ｗを配置するように構成される１つ又は複数の作動装置を収容することも可能である。基板Ｗは、基板テーブル本体ＭＢの上面の凹み８０に配置される基板サポートＳＳによって保持される。基板サポートＳＳは、上面及び底面に複数の突出部を備えるいわゆるピンプル又はバール・テーブルであることが好都合である。真空又は不足圧力が、基板テーブル本体ＭＢに対して基板サポートＳＳを保持し、また基板サポートＳＳに対して基板Ｗを保持するために、ピンプル間の領域において加えられる。一実施例では、基板サポートＳＳは、基板テーブル本体ＭＢに一体式とすることが可能である。
【００３３】
この基板テーブルＷＴは、液体が投影システムＰＳと基板Ｗとの間で提供される浸漬リソグラフィ装置において使用されるので、基板テーブルは、基板テーブル本体ＭＢの上面に配置されるカバー・プレート１００を更に備える。カバー・プレート１００は、平坦で連続的な上面を提供し、それにより、局所領域タイプの液体供給システム（すなわち、一度に基板Ｗの局所領域にのみ液体を提供するもの）を使用することができる。したがって、カバー・プレート１００の上面は、基板Ｗの上面と（及び、図８に示され、以下で記述されるように、基板テーブル本体ＭＢの上面の凹みに配置されることが可能である任意のセンサの上面とも）ほぼ共面である。一実施例では、カバー・プレート１００は、基板テーブル本体ＭＢに一体式とすることが可能である。
【００３４】
基板サポートＳＳと基板テーブル本体ＭＢとの間の凹み８０の中に液体が進入するのを低減する、又は防止するために、封止突出部２００が提供されることが可能であり、これは、カバー・プレート１００の底部内縁と基板サポートＳＳの上面との間で延びる。構成は、図７において詳細に見ることができる。
【００３５】
一実施例では、基板テーブルＷＴを本格的に解体せずに、基板サポートＳＳが基板テーブル本体ＭＢから取り外されることが可能であることが有用である。この理由で、例えば、カバー・プレート１００と基板サポートＳＳとの間で、取外し可能及び／又は非活動化可能封止突出部２００が提供されることが可能である。カバー・プレート１００は、基板テーブル本体ＭＢの上面に取外し式に取り付けられることも可能であり、それにより、カバー・プレート１００によって保護される基板テーブルＷＴの要素は、容易にサービスされることが可能である。カバー・プレート１００は、カバー・プレート突出部１１０を備え、これは、例えば欧州特許出願第０４２５３３５４．７号に記載されているように、いわゆる縁封止部材である。この縁封止部材の最も基本的な形態が、図７に示されている。他のタイプの縁封止部材及び／又は他の構成も、使用されることが可能である。
【００３６】
本発明の代替又は追加の実施例によれば、封止突出部２００は、一般に半円の形状である末端２１１を備える。これは、図７Ａにおいてより詳細に示されている。半円断面を有する末端を提供することによって、圧力差に露光される封止突出部２００の全表面、具体的には底面において低圧入り口８５に露光される末端２１１の全表面が増大される。これにより、封止突出部２００を基板サポートＳＳの上にクランプするのを補助する力がより大きくなる。末端２１１は、封止突出部材２００と同じ材料で作成することができるが、あらゆる他の適切な材料で作成することも可能である。
【００３７】
本発明の他の代替又は追加の実施例によれば、分離力部材２１２が提供され、これは、封止突出部材２００に対して力を及ぼすことができる。これは、図７Ｂにおいてより詳細に示されている。分離力部材２１２は、基板サポートＳＳに添着され、その自由端部は、封止突出部２００に接触する。例えば封止突出部２００の材料と同様の材料である弾性材料で作成されることが可能であり、封止突出部２００に接触する分離力部材２１２で、封止突出部２００を基板サポートＳＳにクランプするのを補助する追加のクランプ力を及ぼすことができる。
【００３８】
封止突出部２００は、示されるように一実施例ではカバー・プレート突出部１１０の下にあるカバー・プレート１００の底面と、基板サポートＳＳの上面との間で延びる。一実施例では、封止突出部２００は、基板サポートＳＳの全周囲の回りに一部品で延びる。これは、液密に最適な構成である可能性がある。封止突出部２００の材料は可撓性であり、それにより、基板テーブルＳＳとカバー・プレート１００との間で、すべての方向であるが、具体的にはＺ方向の力を伝達されることができない、すなわち、封止は、リソグラフィ装置の光軸の実質的な方向において、カバー・プレート１００及び基板サポートＳＳから脱結合される。一実施例では、可撓性封止は、封止の約１Ｎ／ｍより小さい最大力を及ぼす。封止突出部２００の一端が、接着剤２２０のビードによってカバー・プレートに添着される。液密方式で封止を添着する他の方式が使用されることも可能である。封止突出部２００の他端は、示される実施例では低圧入り口８５の形態において、基板サポートＳＳに引き付けられ、そこで、クランプ・デバイスによって取外し式に保持される。クランプ・デバイスは、例えば電磁クランプ・デバイス、静電気クランプ・デバイス、及び／又は取外し式接着剤を含めて、あらゆるタイプとすることが可能である。したがって、カバー・プレートは、取り外されることが可能であり、封止突出部２００は、遠隔的に活動化又は非活動化されることが可能である。
【００３９】
可撓性封止突出部２００と基板サポートＳＳとの間で良好な封止を達成するために、実質的に非可撓性の部分２１０（可撓性封止突出部２００より少なくとも可撓性ではない部分）が、カバー・プレート１００から突出する封止突出部２００の自由端部に配置される。非可撓性部分は、例えば、可撓性封止突出部２００の可撓性材料の上面に接着される金属部分とすることが可能である。したがって、低圧入り口８５が活動化されるとき、可撓性封止突出部２００は下方に湾曲し、それにより、可撓性材料は、良好な封止を生成するように、非可撓性部材２１０と低圧入り口８５との間でクランプされる。このようにして、クランプ・デバイスの低圧入り口８５は、液体が進入するのを防止することができるので、完全乾燥低圧入り口とすることが可能である。これは、湿潤低圧入り口（図示せず）とすることが可能である基板サポートＳＳによって使用される低圧入り口とはおそらく対照的であるが、その理由は、そのような良好な封止は、カバー・プレート１００と基板Ｗとの間で容易には達成されない可能性があり、その結果、液体が、基板Ｗと基板サポートＳＳとの間のギャップに侵入する可能性があるからである。非可撓性部分２１０は、可撓性部分、基板サポートＳＳ、カバー・プレート１００、及び基板Ｗの間のギャップを部分的に充填する。一実施例では、このギャップは、液体供給システムの最適な性能のために最小限に抑えられる。
【００４０】
一実施例では、封止突出部２００及び／又は非可撓性部分２１０は、リソグラフィ装置の放射に対して耐性のあるポリマー可撓性又は弾性材料で作成される。封止突出部２００及び／又は非可撓性部分２１０は、金属で作成されることも可能である。例えば、カバー・プレート突出部１１０が封止突出部２００及び／又は非可撓性部分２１０を投影ビームＢによる照射から保護する場合、更にゴムが使用されることが可能である。
【００４１】
一実施例では、非可撓性部分２１０、半円形末端２１１、及び分離力部材２１２は、投影ビームＢの放射から封止突出部２００を遮蔽することが可能であり、それにより、投影システムの放射に対して耐性のない材料が、封止突出部２００について選択されることが可能である。
【００４２】
一実施例では、クランプ・デバイスの強度（この実施例では低圧クランプ・デバイス８５）は、液密封止を創出するように約２５Ｎ／ｍであり、可撓性封止突出部２００の材料はゴムである。
【００４３】
本発明の一実施例による基板テーブルＷＴの他の詳細が、図８及び９を参照して示されている。図８は、基板テーブルＷＴの上面の平面図である。様々なオリフィスを有するカバー・プレート１００の上面を見ることができる。中央円形オリフィスは、基板サポートＳＳが配置される凹み８０のオリフィスである。様々な構成要素が、中央オリフィスの回りに配置され、これは、投影システムＰＳの投影ビームＢによって照明することができる。これらの様々な構成要素は、例えば２つの透過性センサ（ＴＩＳ）３１０、スポット・センサ３３０、及び集積レンズ干渉計（ＩＬＩＡＳ）３２０を含めて、１つ又は複数のセンサとすることが可能である。一実施例では、カバー・プレート１００は、基板テーブル本体ＭＢから容易に取り外すことが可能であるが、カバー・プレート１００、センサ３１０、３２０、３３０の１つ又は複数、及び基板テーブル本体ＭＢの間に良好な封止も存在すべきである。図９に示される構成は、センサ３１０、３２０、３３０に隣接するカバー・プレート１００の縁及び基板テーブル本体ＭＢを通る断面である。一実施例では、サービス性（すなわち、カバー・プレートの取外し性）を犠牲にせずにカバー・プレート１００とセンサ３１０、３２０、３３０との間の良好な封止を確立することができる。また、カバー・プレート１００、基板テーブル本体ＭＢ、及び／又はセンサ３１０、３２０、３３０の間を進行する妨害が、最小限に抑えられるべきである。このために、２重層封止構築が示され、底部層は、液密封止として機能し、上部層は、狭窄に入らないあらゆる液体を除去する能力を有する狭窄として構築される。
【００４４】
封止の底部層は、封止構造４００を有し、この場合、可撓性である必要はないが、可撓性又は剛性とすることができ、センサ３１０、３２０、３３０と基板テーブル本体ＭＢとの間に位置する。１つ又は複数のステップが、基板テーブル本体ＭＢ、及び封止構造４００が１つの上に配置されるセンサ３１０、３２０、３３０の両方から機械加工される。封止構造４００は、接着剤のビード４１０、４２０で、各端部のそれぞれにおいて基板テーブル本体ＭＢ及びセンサ３１０、３２０、３３０に接着される。接着剤は、封止構造４００の端部においてのみ加えられ、それにより、封止構造４００は、端部のそれぞれにおいて小さい旋回運動を受けることができる。したがって、封止構造４００は、それが接着される基板テーブル本体ＭＢの壁とセンサ３１０、３２０、３３０との間のギャップより狭くなるように寸法決めされる。一実施例では、封止構造４００は、センサ３１０、３２０、３３０の全周囲の回りに延びる単一部品の材料から機械加工される。封止のこの底部層は、液密である。このようにして、封止構造４００は、Ｚ方向においてコンプライアントであり、センサ３１０、３２０、３３０が、基板テーブル本体ＭＢ又はカバー・プレート１００とは独立に、Ｚ方向に移動することを可能にする。
【００４５】
一実施例では、センサ３１０、３２０、３３０の底部ステップは、センサ３１０、３２０、３３０の中立軸３５０が封止基板４００の平面にあるような位置にある。センサ３１０、３２０、３３０の中立軸は、センサ３１０、３２０、３３０の変位及び変形を誘起しない力を回りに加えることができる軸である。このようにして、封止構造４００を経てセンサ３１０、３２０、３３０に加えられるあらゆる力が、センサ３１０、３２０、３３０を傾斜させるようには作用しない。
【００４６】
接着剤４１０、４２０のビード、具体的には内部ビード４１０を投影ビームＢによる照明、したがって可能な劣化から保護するために（センサ３１０、３２０、３３０の１つ又は複数が、液体を経て投影ビームＢによって照明されることが可能であるので）、突出部１２０が、カバー・プレート１００のセンサ・オリフィスの内周囲の回りに提供される。この突出部は、ステップ１２０の形態にあり、センサ３１０、３２０、３３０の相補ステップ３４０と相互作用する。カバー・プレート１００の突出部１２０とセンサ３１０、３２０、３３０のステップ３４０との間にギャップ５００が提供され、それにより、妨害力が、センサ３１０、３２０、３３０とカバー・プレート１００との間で伝達されない。しかし、ギャップ５００のサイズは、液体が容易に通過することができない狭窄を提供するように、小さくあるべきである（一実施例では、０．３ｍｍ未満、０．１ｍｍ未満、又は０．０５ｍｍ未満）。狭窄５００を通過しない液体は、封止構造４００より上に位置する低圧入り口１４０によって抽出されることが可能である。カバー・プレート１００の相補インタロック・ステップ及びセンサ３１０、３２０、３３０は、基板テーブルの上から封止構造４００への経路が、液体が通過することが困難であるように、蛇行するようなものである。
【００４７】
２つのタイプの封止が、カバー・プレート１００と基板サポートＳＳとの間、及び基板テーブル本体ＭＢとセンサ３１０、３２０、３３０との間の封止に関して本明細書において議論されたが、これらは、単なる実施例であり、本明細書において議論される封止のタイプは、基板テーブルにおける、若しくは基板テーブルの上にあるあらゆる２つの部分間、及び／又は基板テーブルと基板Ｗとの間を封止するために使用されることが可能である。
【００４８】
欧州特許出願第０３２５７０７２．３号において、ツイン又は２重ステージの浸漬リソグラフィ装置の概念が開示されている。そのような装置は、基板を支持する２つのテーブルを備える。レベル測定が、浸漬液体を有さずに、第１位置のテーブルで実施され、露光が、浸漬液体が存在する第２位置のテーブルで実施される。代替として、装置は、１つのテーブルのみを有する。
【００４９】
このテキストでは、ＩＣを製造するリソグラフィ装置の使用を具体的に参照することが可能であるが、本明細書において記述されるリソグラフィ装置は、集積光学システム、磁区メモリのガイダンス及び検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造など、他の応用分野を有することが可能であることを理解されたい。当業者なら、そのような代替適用分野の文脈では、本明細書の「ウエハ」又は「ダイ」という用語のあらゆる使用は、それぞれ、「基板」又は「標的部分」というより一般的な用語と同義であると見なすことが可能であることを理解するであろう。本明細書において言及される基板は、例えば、トラック（通常、レジストの層を基板に加え、露光レジストを開発する器具）、計測ツール、及び／又は検査ツールにおいて、露光前又は露光後に処理されることが可能である。適用可能である場合、本明細書の開示は、そのような処理器具及び他の基板処理器具に適用されることが可能である。更に、基板は、例えば多層ＩＣを創出するために、２回以上処理されることが可能であり、したがって、本明細書において使用される基板という用語は、複数の処理層をすでに含む基板を指すことも可能である。
【００５０】
光学リソグラフィの文脈において、本発明の実施例の使用を上記で具体的に参照した可能性があるが、本発明は、インプリント・リソグラフィなど、他の応用分野において使用されることが可能であり、文脈が許容すれば、光学リソグラフィに限定されるものではないことが理解されるであろう。インプリント・リソグラフィでは、パターニング・デバイスのトポグラフィが、基板の上に創出されるパターンを確定する。パターニング・デバイスのトポグラフィは、基板に加えられたレジスト層の中にプレスすることが可能であり、その際、レジストは、電磁放射、熱、圧力、又はその組合わせを加えることによって硬化する。パターニング・デバイスは、レジストから外され、レジストが硬化した後、レジストにおいてパターンを残す。
【００５１】
本明細書において使用される「放射」及び「ビーム」という用語は、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５、２４８、１９３、１５７、若しくは１２６ｎｍの波長、又はほぼその波長を有する）、及び極紫外線（ＥＵＶ）放射（例えば、５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）、並びにイオン・ビーム又は電子ビームなどの粒子ビームを含む、すべてのタイプの電磁放射を包含する。
【００５２】
「レンズ」という用語は、文脈が許容すれば、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気、及び光学の構成要素を含めて、様々なタイプの光学構成要素のいずれか１つ又は組合わせを指すことが可能である。
【００５３】
本発明の具体的な実施例が上記において記述されたが、本発明は、記述とは異なるように実施されることが可能であることが理解されるであろう。例えば、本発明は、上記で開示された方法を記述する機械可読命令の１つ又は複数のシーケンスを含むコンピュータ・プログラム、又は内部に記憶されているコンピュータ・プログラムなどを有するデータ記憶媒体（例えば、半導体メモリ、磁気ディスク、又は光ディスク）の形態を取ることが可能である。
【００５４】
本発明の１つ又は複数の実施例が、浸漬液体が槽の形態で又は基板の局所表面領域上においてのみ提供されるかにかかわらず、上記で記述されたタイプなどの任意の浸漬リソグラフィ装置に適用されることが可能である。液体供給システムは、投影システムと基板及び／又は基板テーブルとの間の空間に液体を提供する任意の機構である。これは、１つ又は複数の構造、１つ又は複数の液体入り口、１つ又は複数の気体入り口、１つ又は複数の気体出口、並びに／或いは１つ又は複数の液体出口の任意の組合わせを備えることが可能であり、組合わせは、液体を空間に提供して、閉じ込める。一実施例では、空間の表面が、基板及び／又は基板テーブルの一部に限定されることが可能であり、空間の表面が、基板及び／又は基板テーブルの表面を完全に覆うことが可能であり、或いは、空間は、基板及び／又は基板テーブルを包むことが可能である。
【００５５】
上記の記述は、限定ではなく、例示を意図する。したがって、当業者には、述べられる特許請求の範囲から逸脱せずに、記述された本発明に対し修正を実施することが可能であることが明らかであろう。
【符号の説明】
【００５６】
ＩＬ 照明システム（照明装置）
Ｂ 放射ビーム
ＭＴ 支持構造（マスク・テーブル）
ＭＡ パターニング・デバイス（マスク）
ＰＭ 第１位置決め装置
ＷＴ 基板テーブル
Ｗ 基板
ＰＷ 第２位置決め装置
ＰＳ 投影システム
Ｃ 標的部分
ＳＯ 放射線源
ＢＤ ビーム送達システム
ＡＤ 調節装置
ＩＮ 積分器
ＣＯ コンデンサ
ＩＦ 位置センサ
Ｍ１、Ｍ２ パターニング・デバイス・アライメント・マーク
Ｐ１、Ｐ２ 基板アライメント・マーク
ＭＢ 基板テーブル本体
ＳＳ 基板サポート
ＩＮ 入り口
ＯＵＴ 出口
１０ リザーバ
１２ 液体閉込め構造
１４ 出口
１５ 入り口
８５ 低圧入り口
１００ カバー・プレート
１４０ 低圧入り口
２００ 封止突出部
２１０ 非可撓性部分
２１１ 末端
２１２ 分離力部材
２２０ 接着剤
３１０ 透過増センサ
３２０ 集積レンズ干渉計
３３０ スポット・センサ
４００ 封止構造
４１０、４２０ 接着剤のビード
５００ 狭窄、ギャップ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
添着された可撓性突出部を有する前記基板テーブルの第１部分と、
前記第１部分と第２部分との間に封止を創出するために前記突出部の自由端部を引き付けて保持するように構成されるクランプ・デバイスを有する、前記基板テーブルの第２部分とを備えるリソグラフィ投影装置。
【請求項２】
前記クランプ・デバイスが低圧入り口を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記可撓性突出部が前記自由端部に近接する実質的に非可撓性の部分を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記実質的に非可撓性の部分が前記装置の放射による損傷に対して実質的に抵抗力がある材料で作成される、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記可撓性部分が前記第１部分に接着される、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記第１部分が前記基板テーブルの上面の一部を覆うように構成されるカバー・プレートである、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記第２部分が前記基板テーブル上で前記基板を支持するように構成される基板サポートである、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記可撓性部分が前記第２部分を囲み、前記第１部分が、それを介して前記第２部分にアクセスすることができるオリフィスを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記可撓性突出部が、前記装置の放射による損傷に対して実質的に抵抗力がある材料で作成される、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記第１部分が第１部分突出部を備え、前記可撓性部分及び前記第１部分突出部は、使用時に前記第１部分突出部が前記装置の放射から前記可撓性部分をほぼ遮蔽するように、構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
パターン形成された放射ビームを前記基板の標的部分上に投影するように構成される投影システムと、
前記投影システムと前記基板との間の空間を液体で少なくとも部分的に充填するように構成される液体供給システム、とを更に備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
一端において前記基板テーブルに添着され、他端において前記基板テーブル上のクランプによって定位置に取外し式に保持される封止突出部、とを備えるリソグラフィ投影装置。
【請求項１３】
前記クランプが低圧入り口を備える、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記封止突出部が可撓性であり、前記封止突出部が前記封止突出部の他端に近接する実質的に非可撓性の部分を備える、請求項１２に記載の装置。
【請求項１５】
パターン形成された放射ビームを前記基板の標的部分上に投影するように構成される投影システムと、
前記投影システムと前記基板との間の空間を液体で少なくとも部分的に充填するように構成される液体供給システム、とを更に備える、請求項１２に記載の装置。
【請求項１６】
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
前記基板テーブルの上に配置されるセンサと、
前記センサと前記基板テーブルとの間に配置され、一端において前記センサに接着され、他端において前記基板テーブルに接着される封止構造と、を備えるリソグラフィ装置。
【請求項１７】
前記封止構造より上に配置される低圧入り口ポートを備える、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記センサの縁及び前記基板テーブル部の縁は、前記基板テーブルの上から前記封止構造までの経路が蛇行性であるように、前記封止構造より上に構成される相補インタロック・ステップを有する、請求項１６に記載の装置。
【請求項１９】
前記基板テーブルの上面の一部を覆うように構成されるカバー・プレートを更に備え、前記基板テーブルの縁が前記カバー・プレートにおけるオリフィスの縁である、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記封止構造が前記センサのステップにある、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
前記封止構造が前記センサのほぼ中立軸においてセンサに接着される、請求項１６に記載の装置。
【請求項２２】
パターン形成された放射ビームを前記基板の標的部分上に投影するように構成される投影システムと、
前記投影システムと前記基板との間の空間を液体で少なくとも部分的に充填するように構成される液体供給システムと、を更に備える、請求項１６に記載の装置。
【請求項２３】
基板テーブルの第１部分上に配置されるクランプ・デバイスを使用して、前記基板テーブルの前記第１部分と第２部分との間で封止を形成するために、可撓性突出部の端部をクランプすることと、
放射のパターン形成されたビームを前記基板テーブルの上に保持される基板の上に投影することと、を備える、デバイス製造方法。
【請求項２４】
前記クランプすることが低圧入り口を使用して実施される、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記可撓性突出部が、前記可撓性突出部の端部に近接してほぼ非可撓性の部分を備える、請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
前記可撓性突出部が前記第１部分に接着される、請求項２３に記載の方法。
【請求項２７】
前記第２部分が、前記基板テーブル上で前記基板を支持するように構成される基板サポートである、請求項２３に記載の方法。
【請求項２８】
第１分部突出部を使用して、前記パターン形成放射ビームの放射から前記可撓性突出部をほぼ遮蔽することを更に備える、請求項２３に記載の方法。
【請求項２９】
液体により前記パターン形成放射ビームを前記基板の標的部分上に投影することを備える、請求項２３に記載の方法。
【請求項３０】
放射ビームをセンサ上に投影するステップであって、封止構造が、前記センサと、基板を保持するように構成される基板テーブルとの間に配置され、前記封止構造が、一端において前記センサに接着され、他端において前記基板テーブルに接着されるステップを備えるデバイス製造方法。
【請求項３１】
前記封止構造の上方に配置される低圧入り口ポートを使用して、液体を排出することを備える、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記センサの縁及び前記基板テーブルの縁が、前記基板テーブルの上部から前記封止構造までの経路が蛇行性であるように、前記封止構造より上に構成される相補インタロック・ステップを有する、請求項３０に記載の方法。
【請求項３３】
前記封止構造が、ほぼ前記センサの中立軸において前記センサに接着される、請求項３０に記載の方法。
【請求項３４】
液体により前記ビームを前記センサ上に投影するステップを備える、請求項３０に記載の方法。
【請求項１】
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
添着された可撓性突出部を有する前記基板テーブルの第１部分と、
前記第１部分と第２部分との間に封止を創出するために前記突出部の自由端部を引き付けて保持するように構成されるクランプ・デバイスを有する、前記基板テーブルの第２部分とを備えるリソグラフィ投影装置。
【請求項２】
前記クランプ・デバイスが低圧入り口を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記可撓性突出部が前記自由端部に近接する実質的に非可撓性の部分を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記実質的に非可撓性の部分が前記装置の放射による損傷に対して実質的に抵抗力がある材料で作成される、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記可撓性部分が前記第１部分に接着される、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記第１部分が前記基板テーブルの上面の一部を覆うように構成されるカバー・プレートである、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記第２部分が前記基板テーブル上で前記基板を支持するように構成される基板サポートである、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記可撓性部分が前記第２部分を囲み、前記第１部分が、それを介して前記第２部分にアクセスすることができるオリフィスを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記可撓性突出部が、前記装置の放射による損傷に対して実質的に抵抗力がある材料で作成される、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記第１部分が第１部分突出部を備え、前記可撓性部分及び前記第１部分突出部は、使用時に前記第１部分突出部が前記装置の放射から前記可撓性部分をほぼ遮蔽するように、構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
パターン形成された放射ビームを前記基板の標的部分上に投影するように構成される投影システムと、
前記投影システムと前記基板との間の空間を液体で少なくとも部分的に充填するように構成される液体供給システム、とを更に備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
一端において前記基板テーブルに添着され、他端において前記基板テーブル上のクランプによって定位置に取外し式に保持される封止突出部、とを備えるリソグラフィ投影装置。
【請求項１３】
前記クランプが低圧入り口を備える、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記封止突出部が可撓性であり、前記封止突出部が前記封止突出部の他端に近接する実質的に非可撓性の部分を備える、請求項１２に記載の装置。
【請求項１５】
パターン形成された放射ビームを前記基板の標的部分上に投影するように構成される投影システムと、
前記投影システムと前記基板との間の空間を液体で少なくとも部分的に充填するように構成される液体供給システム、とを更に備える、請求項１２に記載の装置。
【請求項１６】
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
前記基板テーブルの上に配置されるセンサと、
前記センサと前記基板テーブルとの間に配置され、一端において前記センサに接着され、他端において前記基板テーブルに接着される封止構造と、を備えるリソグラフィ装置。
【請求項１７】
前記封止構造より上に配置される低圧入り口ポートを備える、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記センサの縁及び前記基板テーブル部の縁は、前記基板テーブルの上から前記封止構造までの経路が蛇行性であるように、前記封止構造より上に構成される相補インタロック・ステップを有する、請求項１６に記載の装置。
【請求項１９】
前記基板テーブルの上面の一部を覆うように構成されるカバー・プレートを更に備え、前記基板テーブルの縁が前記カバー・プレートにおけるオリフィスの縁である、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記封止構造が前記センサのステップにある、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
前記封止構造が前記センサのほぼ中立軸においてセンサに接着される、請求項１６に記載の装置。
【請求項２２】
パターン形成された放射ビームを前記基板の標的部分上に投影するように構成される投影システムと、
前記投影システムと前記基板との間の空間を液体で少なくとも部分的に充填するように構成される液体供給システムと、を更に備える、請求項１６に記載の装置。
【請求項２３】
基板テーブルの第１部分上に配置されるクランプ・デバイスを使用して、前記基板テーブルの前記第１部分と第２部分との間で封止を形成するために、可撓性突出部の端部をクランプすることと、
放射のパターン形成されたビームを前記基板テーブルの上に保持される基板の上に投影することと、を備える、デバイス製造方法。
【請求項２４】
前記クランプすることが低圧入り口を使用して実施される、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記可撓性突出部が、前記可撓性突出部の端部に近接してほぼ非可撓性の部分を備える、請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
前記可撓性突出部が前記第１部分に接着される、請求項２３に記載の方法。
【請求項２７】
前記第２部分が、前記基板テーブル上で前記基板を支持するように構成される基板サポートである、請求項２３に記載の方法。
【請求項２８】
第１分部突出部を使用して、前記パターン形成放射ビームの放射から前記可撓性突出部をほぼ遮蔽することを更に備える、請求項２３に記載の方法。
【請求項２９】
液体により前記パターン形成放射ビームを前記基板の標的部分上に投影することを備える、請求項２３に記載の方法。
【請求項３０】
放射ビームをセンサ上に投影するステップであって、封止構造が、前記センサと、基板を保持するように構成される基板テーブルとの間に配置され、前記封止構造が、一端において前記センサに接着され、他端において前記基板テーブルに接着されるステップを備えるデバイス製造方法。
【請求項３１】
前記封止構造の上方に配置される低圧入り口ポートを使用して、液体を排出することを備える、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記センサの縁及び前記基板テーブルの縁が、前記基板テーブルの上部から前記封止構造までの経路が蛇行性であるように、前記封止構造より上に構成される相補インタロック・ステップを有する、請求項３０に記載の方法。
【請求項３３】
前記封止構造が、ほぼ前記センサの中立軸において前記センサに接着される、請求項３０に記載の方法。
【請求項３４】
液体により前記ビームを前記センサ上に投影するステップを備える、請求項３０に記載の方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１０−２１２７１１（Ｐ２０１０−２１２７１１Ａ）
【公開日】平成２２年９月２４日（２０１０．９．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１０１３４０（Ｐ２０１０−１０１３４０）
【出願日】平成２２年４月２６日（２０１０．４．２６）
【分割の表示】特願２００９−３３８９３（Ｐ２００９−３３８９３）の分割
【原出願日】平成１７年１２月７日（２００５．１２．７）
【出願人】（５０４１５１８０４）エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． (1,856)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月２４日（２０１０．９．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年４月２６日（２０１０．４．２６）
【分割の表示】特願２００９−３３８９３（Ｐ２００９−３３８９３）の分割
【原出願日】平成１７年１２月７日（２００５．１２．７）
【出願人】（５０４１５１８０４）エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． (1,856)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]