【課題】ハンプのない半導体装置の製造方法と、半導体装置と、露光装置とを提供する。
【解決手段】被加工膜２の上に下層レジスト膜となる感光性のネガ型のレジスト材料が塗布される。下層レジスト材料膜に露光光を照射することにより酸を発生させる。ベーク処理を施すことによって下層レジスト膜３ｂが形成される。現像処理を施すことにより、架橋した下層レジスト膜３ｂを残して、未架橋の下層レジスト材料膜の部分が除去される。中間層レジスト膜となる感光性のネガ型のレジスト材料を塗布し、同様の露光処理と現像処理を施すことにより、架橋した中間層レジスト膜４ｂを残して、未架橋の中間層レジスト材料膜の部分が除去される。 （もっと読む）

【課題】現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】被処理基板Ｇに形成された感光膜を複数の大ブロックＢ１に分割し、前記大ブロックを複数の小ブロックＢ２に分割するステップと、前記大ブロック内の小ブロック毎に、段階的に異なる照射照度を設定するステップと、複数の発光素子Ｌに対し相対的に移動する前記基板の感光膜に対し、前記小ブロック毎に設定された照射照度に基づき、前記発光素子を発光制御するステップと、前記感光膜を現像処理するステップと、前記小ブロック毎に、前記感光膜の残膜厚を測定し、前記小ブロックに設定された照度と残膜厚との相関データを得るステップと、前記相関データに基づき前記大ブロック毎に設定された感光膜の目標残膜厚から、各大ブロックに照射する必要照度を求めるステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】第１レジストパターンの保護性能の向上及び第２レジストの面内塗布性能の向上が図れ、かつ、レジストの省薬液化を図れるようにしたレジストパターン形成方法及びその装置を提供すること。
【解決手段】ウエハにレジスト塗布処理、露光処理及び現像処理等のリソグラフィ処理を施して所定のパターンを形成するリソグラフィ工程を繰り返し行うレジストパターン形成において、ウエハに架橋剤を含有するレジストを塗布（Ｓ−１）し、その後、露光（Ｓ−４）及び現像（Ｓ−６）して第１レジストパターンを形成する。第１レジストパターンに紫外線を所定時間照射（Ｓ−７）すると共に、第１レジストパターンが形成されたウエハを所定温度で加熱（Ｓ−８）した後、第１レジストパターンが形成されたウエハに、第２レジストを塗布（ｓ−９）、露光（Ｓ−１２）及び現像（Ｓ−１４）して第２レジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】 製造コストの低廉化が図られた微細構造物の製造方法を提供する。
【解決手段】 微細構造物の製造方法は、薄膜を形成する工程と、薄膜をパターニングして第１薄膜パターンを形成する工程と、第１薄膜パターンを覆うように第２薄膜を形成する工程と、第１薄膜パターンの分布領域よりも広い領域に亘って形成され、複数の凸部を含む転写パターンが形成された型を準備する工程と、型を第２薄膜に押し当て、第２薄膜パターンを形成する工程と、第２薄膜パターンをマスクとして、第１薄膜パターンをパターニングする工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】
現像液を用いることなく、高いコントラスト性と高い画像安定性、さらには優れた塗膜物性を実現できるドライタイプの画像形成方法と光硬化画像、およびその方法に用いる光硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】
本発明の画像形成方法は、光酸発生剤と電子供与性染料とを含有する光硬化性組成物の塗膜に対し、異なる波長域で複数回露光することにより、着色部と未着色部とからなる画像コントラストの形成と定着をそれぞれ行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体素子等の製造プロセスにおいて、フォトマスクを用いた複数の露光工程でそれぞれ形成されるパターン間のずれを抑制する。
【解決手段】フォトマスク６０を、デュアルダマシン配線構造のトレンチ及びその内側に配置されるコンタクトホールそれぞれのパターニングに共用可能とする。フォトマスク６０は、第１遮光層６４及び第２遮光層６６を積層される。第１遮光層６４は、第１照射光に対して遮光性を有すると共に、トレンチに対応した開口部６８を有する。第２遮光層６６は、第２照射光に対して遮光性を有し、かつ第１照射光に対して透過性を有すると共に、コンタクトホールに対応した開口部７０を有する。フォトマスク６０に第１照射光を照射すれば、トレンチのパターンを露光でき、第２照射光を照射すればコンタクトホールのパターンを露光できる。 （もっと読む）

【課題】製造期間および製造コストを抑制しつつ高精度に光学樹脂を加工すること。
【解決手段】基板上に加工対象となる光学樹脂層を積層し、光学樹脂層上にこの光学樹脂層に対するＸ線遮光の役割を兼ねる第１のメッキシード層およびＸ線レジスト層からなるＸ線マスク形成層を積層し、Ｘ線マスク形成層上にこのＸ線マスク形成層に対するＵＶ遮光の役割を兼ねる第２のメッキシード層およびＵＶレジスト層からなる中間マスク形成層を積層した積層基板を用意し、中間マスク形成層に形成された中間マスクを用いることによってＸ線マスク形成層に高コントラストＸ線マスクを形成し、Ｘ線マスク形成層に形成された高コントラストＸ線マスクを用いることによって光学樹脂層を加工する。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイ等の電子デバイスを構成する微細パターンの形成に使用して好適な露光方法及び露光装置であって高解像度かつ安価な露光方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板に対して光学系を用いてパターンを露光する露光方法であって、光学系としての干渉式光学系及び可変成形光学系を準備すること、基板と干渉式光学系及び可変成形光学系とを所定の走査方向に沿って相対走査すること、相対走査中に、干渉式光学系を用いて走査方向に平行なパターンを基板上に露光する干渉露光と、可変成形光学系を用いる可変成形露光と行なう。 （もっと読む）

【課題】非常に局在している照明モードが使用される場合に、投影システムの加熱によって引き起こされる収差を補償する改善された装置を提供する
【解決手段】リソグラフィ投影装置において、例えばレンズ加熱の影響を補償するために、投影システムの調整が、所与のパターンおよび照明装置に対して関心領域を決定するステップであって、関心領域が、像の形成に寄与する変調されたビームの実質的に全ての放射が通過する瞳面の非円形領域であるステップと、関心領域にわたり直交する１組の基底関数を獲得するステップと、関心領域にわたり直交する基底関数および１組の係数によって瞳面内の変調された放射ビームの波面を表すステップと、係数の値を最小にするために少なくとも１つの制御設定の値を決定するステップとによって実行される。 （もっと読む）

【課題】中心波長等の特性がほぼ同じ２つのレーザ光を出力できるレーザ装置を提供する。
【解決手段】それぞれ狭帯域化モジュールＬＮＭを有し、レーザ光ＬＣ１及びＬＣ２をパルス発光する第１及び第２のレーザ光源１Ａ及び１Ｂと、レーザ光の波長情報を計測するモニタ部６６Ｂと、レーザ光ＬＣ１，ＬＣ２のいずれか一方を選択的にモニタ部６６Ｂに導く可動ミラー６５Ｂ及び６７と、モニタ部６６Ｂの計測結果に基づいてレーザ光源１Ａ，１Ｂ内の狭帯域化モジュールＬＮＭを介してレーザ光ＬＣ１，ＬＣ２の波長を制御する制御部３５Ａとを備えた。 （もっと読む）

【課題】複数の波長を含む露光光により原版のパターンを基板に露光する場合でも、原版のパターンの結像位置を正確に求めることができる露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の第１側面に係る露光装置は、光源から提供される複数の波長を含む露光光で、投影光学系を介して基板を露光する露光装置であって、原版を保持する原版ステージに配置され、パターンが形成された原版側基準プレートと、前記基板を保持する基板ステージに配置され、パターンが形成された基板側基準プレートと、前記原版側基準プレート、投影光学系及び前記基板側基準プレートを通過した前記光源からの光を検出する検出部と、前記光源から提供される光の波長を前記複数の波長のいずれか１つの波長に変更し、前記基板側基準プレートを駆動し、前記検出部に前記光源からの光を検出させ、前記検出部が検出した結果に基づいて、前記原版側基準プレートのパターンの像が結像される位置を演算する制御部とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの誤整列及び取替えによる収率及び量産性の低下を最小化しながら、二重露光によって一層微細化された感光膜パターンを形成できる二重露光用フォトマスクを提供する。また、前記二重露光用フォトマスクを用いた二重露光方法を提供する。
【解決手段】上下に均等に配列された第１領域ａと第２領域ｂとに区分されるマスク基板１０２と;該マスク基板１０２の前記第１領域ａ上に形成される第１マスクパターン１０４と;前記マスク基板１０２の前記第２領域ｂ上に形成される第２マスクパターン１０６と；を含んで二重露光用フォトマスクを構成する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、複雑な工程を要さず、製造コストを低減することが可能な、液晶装置用基板の製造方法を提供することを目的とする
【解決手段】 本発明は、基板（100）上に被加工膜（104）を形成する被加工膜形成工程と、被加工膜上に感光性膜（108）を形成する感光性膜形成工程と、可視光波長よりも短い波長の２本のレーザービーム（B1,B2）を交差させて干渉光を発生させ、該干渉光を照射することによって前記感光性膜を露光し、該感光性膜に該干渉光のパターンに対する潜像（109）を形成する露光工程と、前記感光性膜を現像し、該感光性膜に前記潜像のパターンに対応する形状を発現させる現像工程と、前記現像後の前記感光性膜をエッチングマスクとしてエッチングを行い、前記被加工膜表面を加工するエッチング工程と、を含む液晶装置用基板の製造方法を提供するものである。 （もっと読む）

【課題】多重露光プロセスにおいて露光間に除去して再塗布する必要がないコントラスト向上層を有するシステムおよび方法を提供すること。
【解決手段】本発明のデバイス製造システムおよび方法によれば、放射線感光層が基板の上に形成される。リセット可能または復元可能なコントラスト向上層が放射線感光層の上に形成される。リセット可能または復元可能なコントラスト向上層が第１のパターンで漂白される。リセット可能または復元可能なコントラスト向上層に形成された第１のパターンが放射線感光層に伝達される。リセット可能または復元可能なコントラスト向上層をリセットして、リセット可能または復元可能なコントラスト向上層を漂白解除する。リセット可能または復元可能なコントラスト向上層が第２のパターンで漂白される。リセット可能または復元可能なコントラスト向上層に形成された第２のパターンが放射線感光層に伝達される。 （もっと読む）

【課題】 十分に微細化された薄膜パターンの形成が可能なレジストパターンが得ることが可能なレジストパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】 加熱又は露光により酸を発生する酸発生材料を含んでおりパターン化されたレジスト層４を基板１の一面上に形成する工程と、レジスト層４に架橋性樹脂組成物５を付着させる工程と、架橋性樹脂組成物５のうちレジスト層４表面近傍の部分を加熱又は露光により架橋して、レジスト層４を被覆する架橋層６を形成する工程と、架橋性樹脂組成物５のうち架橋層６以外の部分を除去して、レジスト層４及びこれを被覆する架橋層６からなるレジストパターン１０を得る工程と、を備え、架橋性樹脂組成物が、酸の存在下で架橋する水溶性の架橋性樹脂と、無機粒子及び非水溶性樹脂のうち少なくとも一方と、架橋性樹脂を溶解する溶剤と、を含有する、レジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

方法および装置は、放射ソースの波長変化を表すデータを利用して焦点面位置の制御またはセンサデータの修正を行う。第１の様態において、波長変動データは、たとえばマスクテーブル、基板テーブル、または投影光学システムの光エレメントを含む装置コンポーネントを動かすことにより焦点を制御するシステムを制御するために与えられる。第２の様態において、たとえば、透過イメージセンサといった内部センサにより測定される焦点面位置データの修正に、変動データが使用される。２つの様態は、単一の装置において組み合わせることができ、または別々に用いることもできる。 （もっと読む）

【課題】 超微細なパターンと、精度の要求されない大面積パターンとを含むパターンを、高精度にかつ短時間で形成することができるハイブリッドリソグラフィ方式によるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 基板１１上の加工膜に、超微細パターンと大面積パターンを形成するパターン形成方法において、加工膜を超微細パターンに形成するための電子線レジストパターン膜を電子線描画により形成し、加工膜を大面積パターンに形成するためのフォトレジストパターン膜をフォトリソグラフィにより形成した。 （もっと読む）