【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 駆動系により、アーム部材７１から移動体ＷＦＳのＸＹ平面に平行な一面に配置されたグレーティングＲＧに対して計測ビームを照射して移動体のＸＹ平面内の位置を計測する第１計測系の計測結果に基づいて移動体が駆動される。この場合、アーム部材からグレーティングＲＧに計測ビームを照射する構成が採用されているので、ステージ定盤にエンコーダシステムを設ける場合とは異なり、移動体の駆動に起因する悪影響はない。従って、移動体を精度良く駆動することが可能になる。 （もっと読む）

連続補給ＣＶＤシステムは、ＣＶＤ処理の際、堆積チャンバを通して、ウエハを搬送する、ウエハ搬送機構を含む。堆積チャンバは、ウエハ搬送機構によって搬送される間、ウエハを通過させるための通路を画定する。堆積チャンバは、複数の処理チャンバのそれぞれ内に別個の処理化学物質を維持する、障壁によって隔離される、複数の処理チャンバを含む。複数の処理チャンバはそれぞれ、ガス流入ポートおよびガス排出ポートと、複数のＣＶＤガス源と、を含む。複数のＣＶＤガス源のうちの少なくとも２つは、複数の処理チャンバのそれぞれのガス流入ポートに連結される。
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【課題】載置ずれや変形を生じさせることなく基板をの受け渡すことができる基板保持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法を提供するしを行うこと。
【解決手段】基板を保持する基板保持装置９は、基板が載置される複数の基板載置部３１と、複数の基板載置部３１を区画する凹部３０と、凹部３０と載置部３１の背部空間とを連通させる複数の連通孔４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】大型の被駆動体を搭載可能で安定した動作が可能なステージ装置を提供する。
【解決手段】被駆動体を駆動するステージ装置は、スライダー３と、Ｚ軸方向に平行な表面２ａを有するガイド２と、ガイド２の表面２ａに対するＺ軸方向の移動を容易にする静圧軸受としての軸受１２と、ガイド２とは反対側の外面１１ｂから突出して球面又は円筒面の一部を構成する表面１４ａを有する突起１４と、を有する軸受部１０と、突起１４の表面１４ａに対するＸＹＺのいずれかの軸周りの回転方向の移動を容易にする軸受２２を有してスライダー３に固定される軸受部２０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の物体テーブルを位置決めするためのデバイスを利用したデバイス製造方法。
【解決手段】物体テーブル３０を位置決めするためのデバイスは、物体テーブル３０を第１の方向に支持するためのフレームと、第１の力を第１の方向に実質的に直角の第２の方向から物体テーブル３０に付与し、第２の力を第１の方向及び第２の方向に実質的に直角の第３の方向から物体テーブル３０に付与するように構築され、且つ、配置されたモータ・ユニット３５、３６とを備えている。モータ・ユニット３５、３６は、第２の部品４０、４１と協働して第１及び第２の力を生成するように構築され、且つ、配置された第１の部品３８、３９を備えており、第１の力及び第２の力の両方が実質的に物体テーブル３０の重心を通る方向に物体テーブル３０の上に配置される。 （もっと読む）

【課題】焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】水圧パッドと水圧パッドとによって、ウエハ及び該ウエハが載置されたテーブルが狭持されている。水圧パッドによって、その軸受面とウエハとの投影光学系の光軸方向に関する間隔が、所定寸法に維持される。また、水圧パッドは、気体静圧軸受とは異なり、軸受面と支持対象物（基板）との間の非圧縮性流体（液体）の静圧を利用するので、軸受の剛性が高く、軸受面と基板との間隔が、安定してかつ一定に保たれる。また、液体（例えば純水）は気体（例えば空気）に比べて、粘性が高く、液体は振動減衰性が気体に比べて良好である。従って、焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どないウエハ（基板）上へのパターンの転写が実現される。 （もっと読む）

【課題】基板アライメント装置が緊急停止した場合に、マーク保持部が基板及び基板保持部と衝突することを防止する。
【解決手段】上ステージ部と下ステージ部とにより互いに面方向に相対移動されて位置合せされる一対のウエハに設けられたアライメントマークを撮像する上顕微鏡１４８と下顕微鏡１５０との視野内に、上顕微鏡１４８と下顕微鏡１５０とにより撮像される上顕微鏡１４８と下顕微鏡１５０との相対位置検出用の基準マーク１４６を出し入れする基準マーク移動装置１００であって、基準マーク１４６を保持するボード１４４と、ボード１４４におけるマーク形成部分をウエハ及びウエハホルダの移動通路に出入りさせると共に、駆動が停止された場合に、ボード１４４の全体を移動通路の外部へ退避させる昇降装置１０２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ワークの平面精度の維持および荷搬重量の低減により、搬送時の加減速の応答性向上が可能なワーク移動テーブル等を提供する。
【解決手段】このワーク移動テーブルは、テーブルベース２２の上面に分布させて上向きに設けた複数のベルヌーイチャックと、複数のベルヌーイチャックに作動エアーを供給する作動エアー供給手段と、複数のベルヌーイチャックによる浮上間隙を存して上方に配設され、ワークＷがセットされるワークセットプレート２４と、エアー浮上させたワークセットプレート２４を、Ｘ軸方向にスライド自在に移動させるＸ軸移動機構２５と、を備え、ワークセットプレート２４には、複数のベルヌーイチャックの負圧をワークＷに作用させる複数の負圧連通孔が形成されている。 （もっと読む）

【課題】 ケーブルガイド等、可動部の移動によって消耗する交換部品の適切な交換時期を判断、及び予測することが可能なステージ装置を提供する。。
【解決手段】 本発明では、少なくとも一の方向に移動可能な可動部と、前記可動部の移動方向に沿った位置を検出する位置センサとを有するステージ装置において、
前記ステージ装置は計測器を有しており、該計測器は、前記位置センサにより検出される前記可動部の位置が、その可動範囲内に設定された第一の座標を通過した後に続いて、同じく前記可動部の可動範囲上に設定された第二の座標を通過したことの回数をカウントし、そのカウント値を記憶することとした。 （もっと読む）

【課題】静電浮上モータを用いた真空搬送装置において、大きな静電吸引力を得ることができ、高重量物を搬送可能な真空搬送装置を提供する。
【解決手段】移載装置５を支持台３の下面側に支持することによって支持台３の上面全体を真空雰囲気中に露出させることが可能になり、これに伴い真空室１の天板部１７ａの内面に、支持台３の上面全体に対応して平板電極７を配置することが可能になる。これにより、電極面積を広くとることが可能となり、従来の典型的な真空搬送装置に比較して、大きな静電吸引力を得ることができ、高重量物を搬送可能な真空搬送装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】プロセス室内を所望の真空圧に維持した状態で、基板の搬入及び搬出が可能な差動排気シールを備えた真空チャンバーを提供する。
【解決手段】真空チャンバー１０は、プロセス室Ｐを基板Ｗが通過するように所定の方向に基板Ｗを搬送可能な基板搬送機構としての浮上チャック４０と、プロセス室Ｐの周囲に配置され、搬送される基板Ｗ、及び該基板Ｗと対向するシール面２１との間の隙間を密封する差動排気シール２０と、を備え、浮上チャック４０は、搬送される基板Ｗの歪みを除去する歪み除去手段としても機能する。 （もっと読む）

【課題】重量が大きな移動体に対しても各種機器に悪影響を与えることなく駆動時のガイド精度を確保する。
【解決手段】移動体２を支持して第１方向Ｙに移動する可動子７５Ａと、可動子を第１方向に沿って駆動する固定子７４Ａとを有する。磁力により可動子に対して第１方向と交差する第２方向Ｚに作用する力を発生させて、可動子と固定子とを非接触状態とする第１駆動装置７８と、可動子と固定子との相対位置に応じて、可動子に対して第２方向に作用する電磁力を発生させ、可動子の第１方向への移動に伴う第１駆動装置の駆動に関する較正に用いられる第２駆動装置７９とを有する。 （もっと読む）

【課題】移動体の位置情報を計測精度の低下を抑制できる位置計測装置を提供する。
【解決手段】位置計測装置は、移動面内を移動する移動体の位置情報を計測する。位置計測装置は、位置が固定された回折格子を含むスケール板と、供給された光をスケール板に導く導光光学系の少なくとも一部を含む、移動体に配置されたエンコーダヘッドと、移動体と離れた位置で光を射出して、導光光学系に供給する光源とを備えている。 （もっと読む）

【課題】高精度且つ安定なテーブルの位置計測を行う。
【解決手段】 液浸露光方式の露光装置では、ウエハＷを保持するウエハテーブルＷＴＢが移動することによって、ウエハテーブルＷＴＢと投影光学系ＰＬとの間に供給される液体によって形成される液浸領域ＡＬｑが、ウエハテーブルＷＴＢに搭載されたヘッド６０Ａ〜６０Ｄ上を通過することがある。そこで、液浸領域ＡＬｑがその上を通過したヘッド６０Ｃについて、液体の残留の有無を、ウエハテーブル表面からの反射光を受光する受光素子の反射光の受光量に基づいて検出する。そして、複数のヘッドのうち、液体の残留が検出されなかったヘッドの計測値に基づいて、ウエハテーブルＷＴＢの位置情報を計測する。 （もっと読む）

【課題】より効率的に機能することができる基板ハンドラを提供する。
【解決手段】露光前に基板８を基板テーブル６上にロードし、露光後に基板８を基板テーブル６からアンロードするように適合されており、複数の独立した基板８，８を同時に搬送するように適合された少なくとも１つの支持面又はプラットフォーム１４、１６を含む、基板８をリソグラフィ装置の基板テーブル６に対して動かす基板ハンドラ１２を有する。 （もっと読む）

【課題】大きさを抑えつつ、ステージ及び質量体の自重荷重、並びに、ステージと質量体との駆動時に生じる移動荷重による定盤の変形を抑制した位置決め装置を提供する。
【解決手段】 本発明の位置決め装置は、定盤01と、定盤01の上に支持され移動自在なステージ105と、ステージ105の移動に伴い定盤01に発生する反力を相殺する質量体06,09とを備える。定盤01は、ステージ105を支持する天板と、天板の両端縁から垂下する側板と、天板から鉛直方向下方に延びるリブ116とを有する。質量体06,09は、側板の内面及びリブの側面の少なくとも一方に取り付けられる。定盤01は、側板の底部及びリブの底部を含む少なくとも３点05で支持される。 （もっと読む）

【課題】効率的な除湿がなされる除湿手段を備えたウェーハ加工装置を提供する。
【解決手段】チャックテーブル２６に空気吸引作用を発生させる減圧管３０や、切削ユニット４７，５７のエアベアリング機構に供給する圧縮空気を除湿する除湿装置８０を備える。除湿装置８０には、除湿によって分離された水分を外部に放出するためのパージ用空気が供給されるが、そのパージ用空気として、減圧管３０および切削ユニット４７，５７から排出される圧縮空気を再利用する。従来のように除湿した圧縮空気の一部をパージ用空気に利用するといったロスを生じさせず、除湿の効率化を図る。 （もっと読む）

【課題】ステージ装置を容易に搬送できる露光装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置ＳＴと、ステージ装置の少なくとも一部を収容する所定空間５を形成する収容体６とを有する。ステージ装置の少なくとも一部は、ステージ装置が収容体の少なくとも一部を有した状態で、所定空間に対して出し入れ自在に設けられている。 （もっと読む）

【課題】ピッチングを発生させることなく移動体を移動させることのできるステージ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】Ｘ軸方向に沿って複数の磁石を配設することによって形成されて一対のＹ軸可動子９Ａ，９Ｂ同士に連結されたＸ軸シャフト１８Ａ，１８Ｂ、及びＸ軸シャフト１８Ａ，１８Ｂを取り囲むコイルによって構成されるＸ軸可動子１９Ａ，１９Ｂを有するＸ軸駆動部６をＸ軸移動体７の両外側に各々配置することによって、Ｘ軸移動体７の鉛直方向の位置を調整可能とする。そして、Ｘ軸移動体７の鉛直方向の位置を下げることで、Ｘ軸シャフト１８Ａ，１８Ｂ及びＹ軸可動子１９Ａ，１９Ｂを有するＹ軸駆動部６にＸ軸移動体７の鉛直方向の重心位置Ｇを近づける。これによって、Ｘ軸駆動部６でＸ軸移動体７を安定して支持する。 （もっと読む）

【課題】 イメージングの正確さおよび／またはスループットが改善されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】 リソグラフィ装置は、基板上にパターニング済み放射ビームを投影するための投影システムと、投影システムの少なくとも一部の振動を弱めるための制振システムとを含み、制振システムは、インターフェイス制振マスと、インターフェイス制振マスの少なくとも一部の振動を弱めるためのアクティブ制振サブシステムを含み、インターフェイス制振マスは、投影システムに接続されており、アクティブ制振サブシステムは、インターフェイス制振マスに接続されており、アクティブ制振サブシステムは、インターフェイス制振マスの位置量を測定するためのセンサと、センサにより供給される信号に基づきインターフェイス制振マスに力を働かせるためのアクチュエータとを含む。 （もっと読む）