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Fターム[5F031LA02]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 動作機構等 (3,476) | 軸受、すべり部 (512) | 非接触支持、浮上支持 (433)

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【課題】可動体を目標方向に駆動する際に該可動体に作用しうる他の方向の力を低減する。
【解決手段】可動体をX方向に位置決めするためのX1、X2電磁石(第1アクチュエータ)を駆動する電流アンプ534Xを含む系と、該可動体をY方向に位置決めするためのY1、Y2電磁石(第2アクチュエータ)を駆動する電流アンプ534Yを含む系と、該可動体を第1アクチュエータによってX方向に駆動する際に該可動体に作用するY方向の力を低減する従方向成分補正部601Xと、該可動体を第2アクチュエータによってY方向に駆動する際に該可動体に作用するX方向の力を低減する従方向成分補正部601Yとを備える。 (もっと読む)


【課題】
スライダエアーベアリングの供給エアーの温度上昇による干渉計計測空間の揺らぎの発生、ならびに6軸微動駆動ステージおよびウエハ支持手段の熱歪の発生を防ぎ、もって、ステージ位置決め精度の向上を図る。
【解決手段】
基準面を有する定盤と、基板を搭載して該基準面上で移動する移動体とを有し、前記移動体に設けられ、該移動体を前記基準面上で移動可能に支持する静圧軸受けと、該移動体を基準面に沿う二次元方向に駆動する平面モータとを有するステージ装置において、前記平面モータは可動子としてコイルを備え、前記静圧軸受けと前記コイルとの間の少なくとも一部に冷却手段を設けたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】物体を良好に支持できる支持装置を提供する。
【解決手段】支持装置は、チャンバの内側で物体を支持する。支持装置は、物体の6自由度の移動を抑制するように、物体の複数の部位のそれぞれに接続される、チャンバの内側の圧力より高い圧力の内部空間を有する弾性変形可能な複数の変形部材を備えている。 (もっと読む)


【課題】 冷却部を有する部品に冷却媒体を供給するための樹脂チューブの使用量を低く抑えること。
【解決手段】 ステージベース50は、ステージを支持するプレートと、プレート上に配置された、冷却部を有する部品1と、プレートの中を通り部品1内に至るように配置された冷媒用流路41と、を備える。 (もっと読む)


【課題】反力処理装置の大型化を抑制する。
【解決手段】反力処理装置1は、互いに高さの異なる複数の盤面18,19を有すると共に床25に除振バネ16,16を介して設置された定盤11と、盤面18,19上にそれぞれ配設され当該盤面18,19上を移動するステージ12,12と、を具備するステージ装置10に設けられ、ステージ12,12の移動で定盤11に生じる反力F,Fを処理する。また、反力処理装置1は、カウンタ推力R,Rを定盤11に印加する第1及び第2反力処理アクチュエータ2,2と、カウンタ推力R,Rの大きさを制御する制御部31と、を備えている。この反力処理装置1では、定盤11におけるカウンタ推力R,Rの作用点高さが互いに異なっており、制御部31が反力F,Fを合力及び合モーメントとして相殺するように、カウンタ推力R,Rを制御する。 (もっと読む)


【課題】 レーザ測長器を用いた位置決め装置において、レーザ光路の屈折率変動による移動体の位置の測定誤差を軽減し、高精度な位置決めを実現する。
【解決手段】 ガイド面を有する固定部と、前記ガイド面上を移動する移動体と、前記移動体の前記固定部との相対位置を測定するレーザ測長器とからなる位置決め装置であって、前記移動体は、上壁部と、側壁部と、前記上壁部及び前記側壁部に囲まれた空間部と、前記側壁部の前記ガイド面に対向する面であって、前記空間部の外周に配置されたシール部と、を有し、前記空間部に前記レーザ測長器を収容し、前記空間部を減圧することによって、高精度な位置決めを実現する。 (もっと読む)


【課題】ステージを駆動する駆動機構に対する負荷量を調整して安定した負荷量とし、これによって、ステージ駆動を安定化させる。
【解決手段】ステージ3に設けた微細な孔を通して吸気することによって、ステージを定盤2に対して吸引させ、ステージを駆動する駆動機構に対する負荷を発生させる。これにより、ステージは定盤に対して非接触となるため、摩耗による負荷力や静止特性の変動や、摩耗物による汚染の問題を解消する。定盤上に配置するステージを2次元平面内で駆動機構によりステージ駆動する方法であり、定盤面と対向する面から定盤面に対して気体を放出することによってステージを定盤上に浮上支持するとともに、定盤面との対向面から吸気することによってステージを定盤に対して吸引させる。この吸引を調整することによって、ステージを駆動する駆動機構の負荷を調整する。 (もっと読む)


分割軸ステージアーキテクチャが、高速度かつ高加速度で素材の振動的・熱的に安定な搬送を可能とする多ステージ位置決めシステム(10)として実現される。分割軸デザインでは、ステージ動作が、平行な別々の平面内にある直交する2つの軸に沿って、分離される。花崗岩又は他の石の厚板の形態、またはセラミック材又は鋳鉄の形態の寸法安定な基体(12)が、下部及び上部ステージの土台として使用される。硬い支持構造体は、レーザ加工システムに於ける、軸方向に調整可能な光学構成要素のより早くより正確な位置決めを可能とする。光学アセンブリ(30)が硬い空気軸受スリーブ(214)に収容され、その空気軸受スリーブが多ステージ位置決めシステムの試料ステージ(26)の上方にある支持構造体(236,240)に取り付けられる場合、振動及び熱安定性が向上する。 (もっと読む)


【課題】第1ステージとその上に搭載される第2ステージとを含むステージ装置において、駆動用のアクチュエータの発熱を低減する。
【解決手段】第2ステージは第1ステージの上に搭載される。第1アクチュエータは第1ステージを第1方向に駆動する。第2アクチュエータは、第1ステージに対して第2ステージが相対的に移動するように第2ステージを駆動する。第1ユニットは、第1ステージの第1方向の端部に配置された第1可動磁石と、第1ステージが第1方向の移動ストロークの一端に位置するときに及び第1可動磁石に対面するように配置されて第1可動磁石に対して斥力を発生する第1固定磁石と、を含む。第2ユニットは、第2ステージの第1方向の両端部に配置された第2可動磁石と、第1ステージが第1方向の移動ストロークの一端に位置するときに第2可動磁石に対面するように配置されて第2可動磁石に対して斥力を発生する第2固定磁石と、を含む。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、真空露光装置、真空検査装置等に使用されるゲートバルブおよびゲートバルブを備えた露光装置に関し、弁体の開閉に伴う振動の発生を低減することを目的とする。
【解決手段】 バルブ本体の開口部を弁体の移動により開閉するゲートバルブにおいて、前記弁体の移動を案内する静圧軸受を有していることを特徴とする。また、前記静圧軸受を、前記バルブ本体に配置してなることを特徴とする。さらに、前記開口部の閉時に前記開口部を遮蔽する差動排気シールを有していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】メンテナンス時に、ステージ本体が他の部材と衝突するのを回避しつつ、当該ステージ本体を容易に取り出すことができるステージ装置、このようなステージ装置を備えた露光装置及びステージ装置のメンテナンス方法を提供すること。
【解決手段】ステージ本体STMを干渉計に対して高さ方向に回避することができる。加えて、ホバー機構によってステージ本体STMを浮上させ、床面FLに平行な方向においてステージ本体STMと床面FLとの間の摩擦を無くすことができるので、床面FLに平行な方向にステージ装置STを容易に移動させることができる。これにより、メンテナンス時にステージ本体を他の部材と衝突させることなく容易に取り出すことができ、安全で効率的なメンテナンスを行うことができる。 (もっと読む)


【課題】簡素且つ軽量な構成で高精度な位置決めを実現できる位置決め装置を提供する。
【解決手段】移動部材3の両端近傍をスライダ3d、3dと支持部3bとでそれぞれ支持することで、移動部材3をガイドレール2,2に沿って精度良く移動させることができると共に、移動部材3に熱膨張が生じた場合でも、その熱膨張分を静圧軸受3aを介して基台1に対して非接触状態で支持される支持部3bの変位により吸収し、移動部材3に歪みを与えない。更に、リニアモータ5、5が、基台1に対して、移動部材3の両端側を駆動するので、スライダ3d、3dと支持部3bとで移動時の抵抗が異なる場合でも、リニアモータ5、5による駆動を相対的に調整することで、駆動時における移動部材3の姿勢変化を抑えることができ高精度な位置決めを実現できる。又、移動部材3の両端側を駆動することで移動部材3の剛性を低くでき、移動部材3の軽量化を図ることができる。 (もっと読む)


【課題】製作が容易で高精度な回転位置決めテーブル装置を提供すること。
【解決手段】回転テーブル14と、回転テーブル14を回転自在に支持するエアベアリング16と磁気吸引部18、20、22と、回転テーブル14端部に回転力を付与するローラフォロア32と、ローラフォロア32を回転駆動するリニアアクチュエータ30とを備え、エアベアリング16により回転テーブル14の一部の領域を浮上させ、回転テーブル14の他の領域を磁気吸引部18、20、22で垂直方向に吸引し、回転テーブル14の片持ちによるアンバランス成分と搭載物の重力方向の負荷のバランスをとる。 (もっと読む)


【課題】搬送手段とガイド軸と間に生じる応力を解消して、過負荷エラーによる移動体の停止を防止して、被検体を好ましく検査する。
【解決手段】移動体40の他側部をフリーにさせた状態で、移動体の一側部のみを第一搬送手段25を介して第一ガイド軸20に沿って移動させ、移動体40の一側部の所定位置毎に、移動体と第一、第二搬送手段25,35との係合部分に生じる応力を求める。この応力が所定値以下になる調整ポイントを予め求め、第一、第二ガイド軸20,30に対する移動体の姿勢を制御するにあたり、第一、第二搬送手段を駆動させて移動体を調整ポイントまで移動させ、移動体と第一搬送手段及び移動体と第二搬送手段のうち何れか一方若しくは両方の係合を一旦解除する。その後、調整ポイントで再び移動体と第一搬送手段及び移動体と第二搬送手段をそれぞれ係合させて、移動体の姿勢を正規の姿勢に戻す。 (もっと読む)


【課題】 実装部品の温度変化による干渉計測長誤差を抑制し、ステージの位置決め精度を向上させることを目的とする。
【解決手段】 定盤上を非接触に移動可能なステージ可動部と、前記ステージ可動部の位置を計測する干渉計と、前記ステージ可動部に接続された配管または配線を備えるステージ装置であって、前記配管または配線から前記干渉計の計測光が通過する空間に伝わる熱を低減するように配置された断熱材または熱回収ユニットを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ウエハやマスクの位置決め精度に与える悪影響を除く。
【解決手段】リソグラフィ投影装置において使用するための支持アセンブリは可動部材を含み、可動部材とハウジングとの間で実質的に振動力が伝達されないように可動部材はハウジング内でジャーナル軸受で支えられている。このアセンブリはガスが充填された圧力室を含み、この圧力室のガスは、可動部材およびこれが支えるあらゆるその他の対象物の重量による力を少なくとも部分的に打ち消すように可動部材に作用する。圧力室にはガスが供給され、アセンブリ全体は、可動部材が実質的に静止しているときには実質的にガスが圧力室を経て流れないように構成され、配置されている。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、ガイド部材に沿ってスライダを案内し、スライダの移動によりステージを移動するステージ装置およびこのステージ装置を備えた露光装置に関し、スライダとガイド部材との間に配置される静圧パッドがガイド部材のガイド面に対して傾くことを防止することを目的とする。
【解決手段】 ガイド部材に沿ってスライダを案内し、前記スライダの移動によりステージを移動するステージ装置において、前記スライダを静圧パッドを介して前記ガイド部材に支持し、前記静圧パッドを前記スライダに対して揺動自在に配置してなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 ステージ装置の制御精度を向上させ、振動を効果的に抑制することができるステージ装置、及びこのステージ装置を備える露光装置を提供する。
【解決手段】 レチクルステージ装置10は、レチクルステージ定盤11上をY方向に移動可能なレチクルステージRSTと、レチクルステージRSTのY方向への移動に応じてレチクルステージRSTとは反対方向に移動するカウンタマスとを備える。カウンタマス12の四隅の底面には気体を用いてカウンタマス12を支持する自重キャンセラ34が設けられている。停電等の異常時には自重キャンセラ34に供給された気体が緩やかに排気されるよう調整される。 (もっと読む)


【課題】
コンパクトな構成を有しながらも、剛性を高めることができる位置決め装置を提供する。
【解決手段】
左下パッドLLPと左上パッドLUP、及び右下パッドRLPと右上パッドRUPが、テーブル13Cの移動方向に交差する方向に並べて配置されているので、テーブル13Cの移動方向に交差する方向における傾き剛性を高めることができる。又、駆動装置DRが、第1のスライダ部13Aと第2のスライダ部13Bとの間に配置されているので、外部に駆動装置を設ける必要がなく、構成のコンパクト化を図れる。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィ装置及び基板ステージ補償を利用したデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付ける照明システムと、パターニング・デバイスを支持するパターニング・デバイス・サポートとを有している。パターニング・デバイスによって放射ビームがパターン化される。リソグラフィ装置は、さらに、基板を支持する基板サポートと、基板サポートを支持するマシン・フレームと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射する投影システムと、基板サポートを少なくとも1つの方向に移動させる基板サポート・ドライブとを有している。リソグラフィ装置は、反動質量と、つり合い質量と、ベース・フレームとを有することができ、基板サポート・ドライブは、基板サポートと反動質量、つり合い質量又はサポート・フレームとの間に少なくとも1つの方向の力を生成するようになされている。 (もっと読む)


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