【課題】集塵穴から異物を効率良く回収することにより、異物の周囲への拡散をより確実に抑えることができる配線基板の非接触搬送装置を提供すること。
【解決手段】本発明の非接触搬送装置は吸引部を備える。吸引部の吸引面３０１の外周部には、吸引面３０１を包囲するように突設された環状の凸部３０２が形成される。また、配線基板の基板主面上の異物を回収する集塵穴３０６が、吸引面３０１における凹部の外側領域かつ凸部３０２の内側領域に配設される。 （もっと読む）

【課題】 基板載置面に付着した塵を効率良く除去する。
【解決手段】 清掃用カバー１００を、基板載置面（基板ホルダ５０の上面）の一部に対向配置する。そして、清掃用カバー１００及び基板ホルダ５０から清掃用カバー１００の下面と基板載置面との間（対向面間）に圧縮気体を噴出して対向面間の気体を激しく撹拌するとともに基板ホルダ５０により対向面間から気体を吸引する。これにより、基板載置面における清掃用カバー１００の下面に対向する領域に付着した塵Ｄは、対向面間で撹拌された気体中に取り込まれ、この気体と共に吸引されて除去される。 （もっと読む）

【課題】システムスループットを増加させ、処理シーケンスＣｏＯを低減する機器を提供する。
【解決手段】実施形態は、一般的に、スループットを増加させ、信頼性を増加させたマルチチャンバ処理システム（例えばクラスタツール）を使用して基板を処理する機器および方法を提供する。クラスタツール内で処理される基板は繰り返し可能性が高く、システムフットプリントが小さい。クラスタツールの一実施形態では、基板をまとめてグループ化して移送することで、基板を２枚以上のグループ毎に処理してシステムスループットを増加することにより、また、処理チャンバの間で基板のバッチを移送する際の動作数を低減することで、ロボットの疲労を低減し、システムの信頼性を増加させることにより所有権のコストが低減される。実施形態はまた、システムの停止時間を低減し、基板移送処理の信頼性を増加させるために使用される方法および機器を提供する。 （もっと読む）

【課題】角形の基板に形成される塗布膜の基板縁部に生じるフリンジを抑制すると共に、フリンジの除去を容易にし、基板の使用領域の拡大を図れるようにすること。
【解決手段】角形の基板Ｇの表面に処理液を供給して所定の処理を施す液処理装置において、基板を水平に保持すると共に、基板を鉛直軸回りに回転させるスピンチャック１１と、スピンチャックに保持された基板の表面に処理液を供給する供給ノズル２０と、スピンチャックに保持された基板の各辺の外方近傍に設けられると共に、上面平坦部３１ａを有する下部整流部材３１と、下部整流部材の上方に位置し、下部整流部材の上面平坦部と協働して平行な流路空間３４を形成する下面平坦部３２ａを有する上部整流部材３２とを具備する気流調整部３０と、スピンチャックの周縁の外側を包囲すると共に、気流調整部に形成される流路空間の外側近傍に吸引口４７が開口する吸引流路４６を有するカップと、を備える。 （もっと読む）

【課題】作業性を向上させることができるとともに、短時間でウエハの並べ替えを行い、処理効率の向上を図ることができるウエハ並べ替え装置を提供する。
【解決手段】複数のウエハ２が収容されるカセット１を載置可能な複数のカセットステージ１０と、ウエハ２の識別情報を認識する識別手段３を有する識別ステージ３０とを平面視円弧状に並べて一列に設置するとともに、各ステージの半径方向外方及び上方を開放状態とし、その半径方向内方位置に、旋回アーム４０の先端に１ウエハを一枚ずつ支持して各ステージ間を移送する移送手段４を設けた。 （もっと読む）

【課題】スタッカクレーン走行時においても側方へ押し退けられる塵埃を含んだ空気流がポートエリア内に流れ込まないようにしてカセットを汚染することなく高速で搬送できるようにしたカセットストッカを提供すること。
【解決手段】スタッカクレーンエリアＳａを走行するスタッカクレーンＫの走行台車側部位置で、かつポートエリアＳｂ下方位置にスタッカクレーンエリアＳａ下部と互いに導通するようにして、スタッカクレーンＫの走行時に発生した塵埃をダウンフローと一緒に吸収するようにしたエアーチャンバＣを、スタッカクレーンＫの走行方向に沿って設置する。 （もっと読む）

【課題】成膜処理後の基板上の塵を確実に除去することができる成膜装置提供。
【解決手段】プラズマＣＶＤ装置(1)は、トレイ(16)上に載置された基板(17)に薄膜を形成する成膜処理室(12)と、成膜処理済みの基板(17)が載置されたトレイ(16)を搬送する搬送装置(14,15)と、搬送移動しているトレイ(16)の基板載置面に向けてエアを噴出して、トレイ(16)および該トレイ(16)に載置された基板(17)に付着する塵を吹き飛ばすブロア(22A,22B)と、吹き飛ばされた塵をエアとともに吸引するノズル(25)とを備える。ブロア(22A,22B)は、搬送方向下流側に斜めにエアを噴出する噴出口と、搬送方向上流側に斜めにエアを噴出する噴出口とを備え、ノズル(25)にはこれらの噴出口の間に配置されて基板載置面に対向する吸入口が設けられている。 （もっと読む）

【課題】基板表面への傷付きを防止すること。
【解決手段】基板８の斜め下側を向いた基板８裏面の周縁部を支持する複数の基板支持板５２，５３を備えた基板受け渡し機構により基板テーブル１２と基板８との隙間が制御され、基板テーブル１２には、基板受け面に配置される基板８の下側の端面を支持する基板支持突起３３と、基板支持板５２，５３を受け入れる複数の凹所３８，３９とが設けられ、基板８の受け渡し時に、搬送部４２に対して基板テーブル１２が駆動機構により進退可能に構成されているとともに、搬送部４２に対して基板支持板５２，５３が基板受け渡し機構により進退可能に構成され、基板受け渡し機構は、基板テーブル１２と基板支持板５２，５３との隙間を制御することで基板テーブル１２と基板８との隙間を制御するように構成した。 （もっと読む）

【課題】浮上搬送用の気体の吸引量を適切に調整して、基板の搬送高さ位置を高精度に制御し得る技術を提供する。
【解決手段】基板Ｗを搬送する基板搬送装置２は、基板Ｗに向けて気体を噴射することにより、基板Ｗに浮上力を付与して支持する塗布ステージ４と、塗布ステージ４が噴射する気体を供給する供給ラインＬ１と、塗布ステージ４が噴射する気体を吸引する吸引ラインＬ２と、吸引ラインＬ２の途中に接続され、該吸引ラインＬ２に気体を導入する給気ラインＬ３とを備えている。給気ラインＬ３のブロワ１８ｂは、装置内の発塵源まで延びる吸引ダクト１８１によって、発塵源周りの雰囲気を吸引して、該雰囲気を吸引ラインＬ２に導入する。吸引ラインＬ２のブロワ１８ａは、吸引孔４０ｂより吸引される気体と、給気ラインＬ３から導入される気体とを排出する。 （もっと読む）

【課題】ＦＯＵＰ内のガス置換と、ウエハ上の汚染物質の除去を短時間で行うことができ、既存装置への適用も可能な基板搬送装置およびその基板搬送装置を搭載した搬送システム、さらにその置換方法を提供する。
【解決手段】基板を載置するフォーク１１と、前記フォーク１１を支持して移動させる動作部１２と、前記動作部１２を支持する胴体部１９と、を備えた基板搬送装置１０において、 前記基板搬送装置１０が、基板を収容する容器内の気体を所定のガスに置換するためのガス噴射用ノズル１３を備えた。 （もっと読む）

【課題】定盤上の塵を簡単な構造で容易に除去する。
【解決手段】重量キャンセル装置４０のベース４１ａの下面に取り付けられたベースパッド１００では、軸受面１０６ａから定盤１２に向けて噴出する加圧空気が、コアンダ効果により軸受面１０６ａに連続して形成された傾斜面１０７に沿って流れる。この際、定盤１２上の塵Ｄがベルヌーイ効果により加圧気体に引きつけられ、その加圧気体とともに、定盤１２から離れる方向に案内される。加圧気体は、フィルタ部材１２６で濾過されてベースパッド１００外に排気される。ベースパッド１００は、特別な吸引装置などを用いることなく、定盤上１２の塵Ｄを吸引できるので構造が簡単である。 （もっと読む）

【課題】基板載置部の摺動部で発生した塵埃がマスクや基板へ付着するのを低減、或いは防止することのできる露光装置を提供する。
【解決手段】基板を載置する載置台５と、載置台５を搭載するステージ１と、ステージ１上で載置台５を移動するための移動機構２，３，４とを有する露光装置において、ステージ１は、内部がリブで格子状の構造を有し、更に、その上面に複数の吸気口と、その側面に複数の排気口とを有する。これにより、移動機構で発生した塵埃を速やかに排気することができる。 （もっと読む）

【課題】エッジグリップ方式チャックにおいては、定期的なメンテナンス（清掃等）が不可欠となる。しかし、清掃等のメンテナンスを行う場合、人が作業を行う以上作業にムラが生じる可能性を否定できない。また、人を介することで新たな塵を付着させたり傷を付けたり、部品を破壊したりといったリスクも考慮しなければならない。
【解決手段】本発明は上記課題を解決するためにウエハチャックを検査光学系より後方に移動し、前記検査光学系より後方で、前記ウエハチャックを清掃することを特徴とする。また、本発明は、ウエハチャックヘ供給される空気の流量と、前記ウエハチャックへ供給される空気の排気量を制御することを他の特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハ等の被着体に塵が落下して歩留まりが低下することを抑制できるようにすること。
【解決手段】シート剥離装置１０は、半導体ウエハＷに貼付された接着シートＳに剥離用テープＰＴを貼付する貼付手段１６と、接着シートＳに貼付された剥離用テープＰＴと半導体ウエハＷとを相対移動させることで接着シートＳを半導体ウエハＷから剥離する剥離手段１５とを備えている。剥離手段１５は、半導体ウエハＷとの間に接着シートＳを挟み込みつつ剥離姿勢を形成するローラ３０と、このローラ３０による剥離によって発生する塵を除去する除塵手段３１とを備えている。 （もっと読む）

【課題】効果的に内部環境を清潔に維持することができるストッカーを提供する。
【解決手段】本発明の実施形態によるストッカー１０２は、複数の収納台２２を有する本体部２０;収納物を移送させる移送部;前記移送部によって移送された前記収納物を前記本体部の前記収納台に積載するロボットアーム４０;そして前記ロボットアームと共に動きながら、前記本体部の内部のパーティクルを除去する集塵ユニット；を含む。 （もっと読む）

【課題】蓋付気相成長装置においてチャンバーの開閉に伴うチャンバー蓋の上下動に影響されることがない、被成膜物載置台上の塵埃除去を実現する。
【解決手段】本発明の気相成長装置は、チャンバー本体４とチャンバー蓋６とから構成されたチャンバー１と、チャンバー１内に配置された基板トレイ載置台９と、チャンバー１の中心軸Ｏを回転軸として、基板トレイ載置台９を回転させる回転機構１１と、基板トレイ載置台９上の塵埃を除去する掃除手段２とを備えている。掃除手段２は、基板トレイ載置台９へ延びたアーム２２と、アーム２２の一方の端部に設けられた吸引ノズル２１と、中心軸Ｏと平行な第１の方向に延びた第１の回転軸シャフト部２５をチャンバー１外部に有し、第１の回転軸シャフト部２５を回転軸としてアーム２２を回転させることにより、吸引ノズル２１を上記チャンバーの外部から内部へ、及び外部から内部へ移動させる移動機構２３とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 装置内部からのパーティクル飛散を防止するとともに、ＣＶＤやＰＶＤなどの腐食性ガスを使用する環境においても内部に腐食性ガスが侵入することがなく、極めて長期的に安定した耐腐食性能を得ることができるプリアライナー装置を提供する。
【解決手段】 機枠２１の内部を機枠２１に設けた排気用継ぎ手３２から真空排気などにより吸引することによって陰圧化するとともに、機枠２１の外側に外被容器１１を設け、外被容器１１には気体導入用の継ぎ手１２を設けておき、気体導入用の継ぎ手１２から清浄なエアを印加して機枠２１と外被容器１１との間の空間１４に充填することで、外被容器１１の内側を外部雰囲気３に対して陽圧とする。 （もっと読む）

【課題】クリーンルームのコンパクト化、かつ、高清浄度化を達成可能な自動倉庫システム及びその容器移載方法を提供するものである。
【解決手段】本発明に係る自動倉庫システムは、クリーンルーム１１内に配置されるものであり、容器１４を格納する棚１３を垂直方向に複数段設け、容器１４をその棚１３と搬入出ポート１２との間で移載する移載手段１６を棚１３と平行に設けると共に、その移載手段１６に棚１６の側に向かって伸長自在なベース部材２４を設けてなり、そのベース部材２４は、固定系のベース本体７１と、ベース本体７１の長手方向に伸長自在なスライド部材７２と、スライド部材７２の上面に設けられ、スライド部材７２の長手方向にスライド自在で、かつ、昇降自在な爪部材７３とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】装置本体内を下向流として流通する大気中に含まれるパーティクルが基板に付着することによるパーティクル汚染を防止することができる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板搬送装置１３の装置本体の上部には大気導入部４１が設けられ、下部には大気排出部４９が設けられている。大気導入部４１と大気排出部４９との間の基板搬送部には、ウエハＷを支持するピック４３、搬送アーム腕部４２及びマッピングアーム４４を備えた搬送アーム機構１９が配置されている。大気導入部４１に隣接してＦＦＵ３４が設けられており、ＦＦＵ３４は、大気導入部４１から流入し、基板搬送部を経て大気排出部４９から流出する大気の下向流を形成する。ＦＦＵ３４と基板搬送部との間に軟Ｘ線レーザ光照射装置５２及び整流板５１が配置されており、これによって大気をイオン化して帯電したパーティクルを除電し、残留する帯電したパーティクルを捕集する。 （もっと読む）