露光装置
【課題】基板載置部の摺動部で発生した塵埃がマスクや基板へ付着するのを低減、或いは防止することのできる露光装置を提供する。
【解決手段】基板を載置する載置台５と、載置台５を搭載するステージ１と、ステージ１上で載置台５を移動するための移動機構２，３，４とを有する露光装置において、ステージ１は、内部がリブで格子状の構造を有し、更に、その上面に複数の吸気口と、その側面に複数の排気口とを有する。これにより、移動機構で発生した塵埃を速やかに排気することができる。
【解決手段】基板を載置する載置台５と、載置台５を搭載するステージ１と、ステージ１上で載置台５を移動するための移動機構２，３，４とを有する露光装置において、ステージ１は、内部がリブで格子状の構造を有し、更に、その上面に複数の吸気口と、その側面に複数の排気口とを有する。これにより、移動機構で発生した塵埃を速やかに排気することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、大型の表示パネル基板へのパターン形成に用いる露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルなどの表示パネル用基板へのパターン形成は、形成したいパターンを有するマスクと、フォトレジストが塗布された表示パネル用ガラス基板とのギャップを１ｍｍ以下に近づけ、マスク上のパターンをガラス基板へ転写するプロキシミティ方式が用いられる。プロキシミティ方式を有する露光装置については、例えば特許文献１に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−１８９０７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
表示用パネルの大型化に伴い、また一巡の露光で生産できる液晶パネルの数を多くして生産性を向上するために露光装置は大型化している。そのサイズは１０ｍ(長さ)×５ｍ(幅)×８ｍ(高さ)、重さは１００トンにも及ぶ。
【０００５】
表示パネル用ガラス基板用の載置台が搭載されるステージの設計の際には、軽量化を図りつつ剛性を持たせるために、ステージ内部の構造はリブで格子状に設計する。これにより、輸送や材料費の削減も図ることができる。
【０００６】
このような露光装置において、露光の際にガラス基板やマスクへ塵埃が付着する場合があること、また、塵埃の発生源はステージ上に設けられた基板載置部の摺動部であることが分かった。ガラス基板に塵埃が付着すると、当該付着部分が露光光照射部分の場合、塵埃により露光光が遮られパターン欠陥となる。また、マスクに塵埃が付着すると、当該付着部分が露光光透過部分の場合、塵埃により露光光が遮られ、そのマスクを用いて形成したパターンは全て欠陥となる。そのため、露光装置内は常にクリーンな環境に保つ必要がある。
【０００７】
特許文献１には、マスク上部に存在する塵埃発生源からの塵埃付着を防止するために、偏向板を設置して気流が当該塵埃発生源へ直接当たるのを防ぐ技術が開示されている。しかしながら、基板載置部の摺動部で発生した塵埃への対応に関しては何ら記載されていない。
【０００８】
本願発明の目的は、基板載置部の摺動部で発生した塵埃がマスクや基板へ付着するのを低減、或いは防止することのできる露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するための一形態として、基板を載置する載置台と、前記載置台を搭載するステージと、前記ステージ上で前記載置台を移動するための移動機構とを有する露光装置において、前記ステージは、内部がリブで格子状の構造を有し、更に、その上面に複数の吸気口と、その側面に複数の排気口とを有することを特徴とする露光装置とする。
【発明の効果】
【００１０】
ステージ上面に吸気口を設けることにより、ステージ上面の摺動部などで発生した塵埃の堆積防止及び塵埃を除去することができるため、塵埃がマスクや基板へ付着するのを低減、或いは防止することのできる露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】第１の実施例に係る露光装置の基板載置台を含むステージの概略斜視図である。
【図２】第１の実施例に係る露光装置のステージの概略斜視図である。
【図３】第１の実施例に係る露光装置のダクトを備えたステージの概略斜視図である。
【図４】第１の実施例に係る露光装置の概略側面図である。
【図５】第２の実施例に係る露光装置の基板載置台を含むステージの概略上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
発明者等は、基板載置部の摺動部で発生した塵埃がマスクや基板へ付着するのを低減、或いは防止する方法について検討を行なった。その結果、ステージ内部の空洞を塵埃の排気に利用することができることに気づいた。
【００１３】
本願発明は上記知見に基づいて生まれたものである。以下、実施例で詳細に説明する。
【実施例１】
【００１４】
第１の実施例について、図１〜図４を用いて説明する。図１は、本実施例に係る露光装置の基板載置台を含むステージの概略斜視図である。
【００１５】
ステージ１の上面にはＸ軸レール２が設置され、前記ステージ１上面にある凹面の側部にリニアモータの固定子が対向して設置されている。Ｘ軸レール２の上には、Ｘ方向に移動するＸ軸可動ステージ３が取り付けられており、図示しないリニアモータ可動子によってＸ軸レール上を移動する。Ｘ軸可動ステージ３の上面にはＹ軸レール３１が設置され、Ｙ軸レール３１の上にはＹ方向に移動するＹ軸可動ステージ４が取り付けられており、図示しないリニアモータまたはボールネジとモータによってＹ軸レール３１上を移動する。Ｙ軸可動ステージ４上には、載置台５が取り付けられており、ガラス基板をこの上に載置し、Ｘ軸レールとＹ軸レールに沿って移動し、露光位置に位置決めされる。
【００１６】
図２は図１のステージ１を単体で表したものである。ステージ上面には、上面の空気を吸気する吸気口６があり、側面にはそれを排気するための排気口７が設けてある。吸気口６と排気口７は、ステージ内部の格子形状のリブに抜き穴が四方八方にあいている為各々がつながっている。
【００１７】
排気口７にダクトを接続した構成を図３に示す。図３は本実施例に係る露光装置のダクトを備えたステージの概略斜視図である。符号８が排気口に接続されたダクトを示す。これにより、ステージ１上面に浮遊あるいは堆積した塵埃を吸引、排気することが出来る。更に、吸気口の行、列に対応して排気口を設けており、吸気口から入った塵埃は速やかに排気口へ導かれるため塵埃をより効果的に排気することができる。
【００１８】
次に、本実施例に係る露光装置について説明する。図４は本実施例に係る露光装置の概略側面図である。ダクト８は露光装置を覆うチャンバーの天井に設置してあるフィルタ付ファン１０に接続されている。露光装置はチャンバー壁９で覆われている。
【００１９】
本露光装置を用いて露光する手順を説明する。先ず、基板の受渡し場所に移動していた載置台５上に基板搬送ユニット(図示せず)により基板(図示せず)を載置する。次に、露光装置に取り付けられていたマスク(図示せず)の下まで基板を移動し、マスクと基板との間隔を１ｍｍ以下の所定の距離に調整する。次に、露光を行なう。マスクよりも基板が大きく、露光領域が複数ある基板には、次の露光領域がマスクの下となるように載置台５を移動する。所定の領域の露光が終わるまで載置台を移動する。当該基板の露光が終了すると基板の受渡し場所まで載置台は移動する。基板は基板搬送ユニットにより載置台から取りはずされる。
【００２０】
上記露光処理の間、ステージ１内部はダクト８にてフィルタ付ファン１０と接続されているため、陰圧になっている。したがって、載置台５が移動することにより基板載置部の摺動部で塵埃が発生しても、塵埃は吸気口から吸引されて排気口から排気される。排気されたエアはフィルタ付ファンを通過することで清浄化(クリーン化)される。フィルタ付ファン１０を通過して排気されたダウンフローのクリーンエアは載置台５の上面を通り、吸気口６に流れ込むことで、チャンバー内の塵埃をダウンフローの流れに逆らわず回収することが可能となる。
【００２１】
なお、ステージに吸引口と排気口とを設ける構成は、近接露光装置に限らず、大きな基板(一辺が１ｍ以上)を載置する可動式の載置台が搭載されるステージを備えた露光装置にも適用することができる。
【００２２】
また、本実施例では排気口毎にダクトを取り付けたが、ステージに設けられた複数の排気口を辺毎に覆い、辺毎に一箇所又は数箇所からダクトで排気する構成としてもよい。これにより、ダクトの数を低減することが出来、構成が簡略化される。
【００２３】
本実施例によれば、基板載置部の摺動部で発生した塵埃がマスクや基板へ付着するのを低減、或いは防止することのできる露光装置を提供することができる。また、吸気口の行、列に対応して排気口を設けているため塵埃を効果的に排気することができる。
【実施例２】
【００２４】
第２の実施例について、図５を用いて説明する。なお、実施例１に記載され、本実施例に未記載の事項は実施例１と同様である。
【００２５】
図５は、本実施例に係る露光装置の基板載置台を含むステージの概略上面図である。本実施例においては、ステージの上面に設けた吸気口の行列の位置と排気口の位置とをずらして、均等に配置されている。本構成においても塵埃を吸引、排気することができる。さらに、排気口がステージの側面に均等な距離を隔てて配置されているので、ステージ内部における空気の停滞部を低減でき、ステージの内部を均一に排気することができる。
【００２６】
本実施例によれば、基板載置部の摺動部で発生した塵埃がマスクや基板へ付着するのを低減、或いは防止することのできる露光装置を提供することができる。また、本実施例によれば、排気口がステージの側面に均等な距離を隔てて配置されているので、ステージの内部を均一に排気することができる。
【符号の説明】
【００２７】
１…ステージ、２…Ｘ軸レール、３…Ｘ軸可動ステージ、４…Ｙ軸可動ステージ、５…載置台、６…吸気口、７…排気口、８…ダクト、９…チャンバー壁、１０…フィルタ付ファン、３１…Ｙ軸レール。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、大型の表示パネル基板へのパターン形成に用いる露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルなどの表示パネル用基板へのパターン形成は、形成したいパターンを有するマスクと、フォトレジストが塗布された表示パネル用ガラス基板とのギャップを１ｍｍ以下に近づけ、マスク上のパターンをガラス基板へ転写するプロキシミティ方式が用いられる。プロキシミティ方式を有する露光装置については、例えば特許文献１に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−１８９０７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
表示用パネルの大型化に伴い、また一巡の露光で生産できる液晶パネルの数を多くして生産性を向上するために露光装置は大型化している。そのサイズは１０ｍ(長さ)×５ｍ(幅)×８ｍ(高さ)、重さは１００トンにも及ぶ。
【０００５】
表示パネル用ガラス基板用の載置台が搭載されるステージの設計の際には、軽量化を図りつつ剛性を持たせるために、ステージ内部の構造はリブで格子状に設計する。これにより、輸送や材料費の削減も図ることができる。
【０００６】
このような露光装置において、露光の際にガラス基板やマスクへ塵埃が付着する場合があること、また、塵埃の発生源はステージ上に設けられた基板載置部の摺動部であることが分かった。ガラス基板に塵埃が付着すると、当該付着部分が露光光照射部分の場合、塵埃により露光光が遮られパターン欠陥となる。また、マスクに塵埃が付着すると、当該付着部分が露光光透過部分の場合、塵埃により露光光が遮られ、そのマスクを用いて形成したパターンは全て欠陥となる。そのため、露光装置内は常にクリーンな環境に保つ必要がある。
【０００７】
特許文献１には、マスク上部に存在する塵埃発生源からの塵埃付着を防止するために、偏向板を設置して気流が当該塵埃発生源へ直接当たるのを防ぐ技術が開示されている。しかしながら、基板載置部の摺動部で発生した塵埃への対応に関しては何ら記載されていない。
【０００８】
本願発明の目的は、基板載置部の摺動部で発生した塵埃がマスクや基板へ付着するのを低減、或いは防止することのできる露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するための一形態として、基板を載置する載置台と、前記載置台を搭載するステージと、前記ステージ上で前記載置台を移動するための移動機構とを有する露光装置において、前記ステージは、内部がリブで格子状の構造を有し、更に、その上面に複数の吸気口と、その側面に複数の排気口とを有することを特徴とする露光装置とする。
【発明の効果】
【００１０】
ステージ上面に吸気口を設けることにより、ステージ上面の摺動部などで発生した塵埃の堆積防止及び塵埃を除去することができるため、塵埃がマスクや基板へ付着するのを低減、或いは防止することのできる露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】第１の実施例に係る露光装置の基板載置台を含むステージの概略斜視図である。
【図２】第１の実施例に係る露光装置のステージの概略斜視図である。
【図３】第１の実施例に係る露光装置のダクトを備えたステージの概略斜視図である。
【図４】第１の実施例に係る露光装置の概略側面図である。
【図５】第２の実施例に係る露光装置の基板載置台を含むステージの概略上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
発明者等は、基板載置部の摺動部で発生した塵埃がマスクや基板へ付着するのを低減、或いは防止する方法について検討を行なった。その結果、ステージ内部の空洞を塵埃の排気に利用することができることに気づいた。
【００１３】
本願発明は上記知見に基づいて生まれたものである。以下、実施例で詳細に説明する。
【実施例１】
【００１４】
第１の実施例について、図１〜図４を用いて説明する。図１は、本実施例に係る露光装置の基板載置台を含むステージの概略斜視図である。
【００１５】
ステージ１の上面にはＸ軸レール２が設置され、前記ステージ１上面にある凹面の側部にリニアモータの固定子が対向して設置されている。Ｘ軸レール２の上には、Ｘ方向に移動するＸ軸可動ステージ３が取り付けられており、図示しないリニアモータ可動子によってＸ軸レール上を移動する。Ｘ軸可動ステージ３の上面にはＹ軸レール３１が設置され、Ｙ軸レール３１の上にはＹ方向に移動するＹ軸可動ステージ４が取り付けられており、図示しないリニアモータまたはボールネジとモータによってＹ軸レール３１上を移動する。Ｙ軸可動ステージ４上には、載置台５が取り付けられており、ガラス基板をこの上に載置し、Ｘ軸レールとＹ軸レールに沿って移動し、露光位置に位置決めされる。
【００１６】
図２は図１のステージ１を単体で表したものである。ステージ上面には、上面の空気を吸気する吸気口６があり、側面にはそれを排気するための排気口７が設けてある。吸気口６と排気口７は、ステージ内部の格子形状のリブに抜き穴が四方八方にあいている為各々がつながっている。
【００１７】
排気口７にダクトを接続した構成を図３に示す。図３は本実施例に係る露光装置のダクトを備えたステージの概略斜視図である。符号８が排気口に接続されたダクトを示す。これにより、ステージ１上面に浮遊あるいは堆積した塵埃を吸引、排気することが出来る。更に、吸気口の行、列に対応して排気口を設けており、吸気口から入った塵埃は速やかに排気口へ導かれるため塵埃をより効果的に排気することができる。
【００１８】
次に、本実施例に係る露光装置について説明する。図４は本実施例に係る露光装置の概略側面図である。ダクト８は露光装置を覆うチャンバーの天井に設置してあるフィルタ付ファン１０に接続されている。露光装置はチャンバー壁９で覆われている。
【００１９】
本露光装置を用いて露光する手順を説明する。先ず、基板の受渡し場所に移動していた載置台５上に基板搬送ユニット(図示せず)により基板(図示せず)を載置する。次に、露光装置に取り付けられていたマスク(図示せず)の下まで基板を移動し、マスクと基板との間隔を１ｍｍ以下の所定の距離に調整する。次に、露光を行なう。マスクよりも基板が大きく、露光領域が複数ある基板には、次の露光領域がマスクの下となるように載置台５を移動する。所定の領域の露光が終わるまで載置台を移動する。当該基板の露光が終了すると基板の受渡し場所まで載置台は移動する。基板は基板搬送ユニットにより載置台から取りはずされる。
【００２０】
上記露光処理の間、ステージ１内部はダクト８にてフィルタ付ファン１０と接続されているため、陰圧になっている。したがって、載置台５が移動することにより基板載置部の摺動部で塵埃が発生しても、塵埃は吸気口から吸引されて排気口から排気される。排気されたエアはフィルタ付ファンを通過することで清浄化(クリーン化)される。フィルタ付ファン１０を通過して排気されたダウンフローのクリーンエアは載置台５の上面を通り、吸気口６に流れ込むことで、チャンバー内の塵埃をダウンフローの流れに逆らわず回収することが可能となる。
【００２１】
なお、ステージに吸引口と排気口とを設ける構成は、近接露光装置に限らず、大きな基板(一辺が１ｍ以上)を載置する可動式の載置台が搭載されるステージを備えた露光装置にも適用することができる。
【００２２】
また、本実施例では排気口毎にダクトを取り付けたが、ステージに設けられた複数の排気口を辺毎に覆い、辺毎に一箇所又は数箇所からダクトで排気する構成としてもよい。これにより、ダクトの数を低減することが出来、構成が簡略化される。
【００２３】
本実施例によれば、基板載置部の摺動部で発生した塵埃がマスクや基板へ付着するのを低減、或いは防止することのできる露光装置を提供することができる。また、吸気口の行、列に対応して排気口を設けているため塵埃を効果的に排気することができる。
【実施例２】
【００２４】
第２の実施例について、図５を用いて説明する。なお、実施例１に記載され、本実施例に未記載の事項は実施例１と同様である。
【００２５】
図５は、本実施例に係る露光装置の基板載置台を含むステージの概略上面図である。本実施例においては、ステージの上面に設けた吸気口の行列の位置と排気口の位置とをずらして、均等に配置されている。本構成においても塵埃を吸引、排気することができる。さらに、排気口がステージの側面に均等な距離を隔てて配置されているので、ステージ内部における空気の停滞部を低減でき、ステージの内部を均一に排気することができる。
【００２６】
本実施例によれば、基板載置部の摺動部で発生した塵埃がマスクや基板へ付着するのを低減、或いは防止することのできる露光装置を提供することができる。また、本実施例によれば、排気口がステージの側面に均等な距離を隔てて配置されているので、ステージの内部を均一に排気することができる。
【符号の説明】
【００２７】
１…ステージ、２…Ｘ軸レール、３…Ｘ軸可動ステージ、４…Ｙ軸可動ステージ、５…載置台、６…吸気口、７…排気口、８…ダクト、９…チャンバー壁、１０…フィルタ付ファン、３１…Ｙ軸レール。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を載置する載置台と、前記載置台を搭載するステージと、前記ステージ上で前記載置台を移動するための移動機構とを有する露光装置において、
前記ステージは、
内部がリブで格子状の構造を有し、更に、
その上面に複数の吸気口と、その側面に複数の排気口とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
請求項１記載の露光装置において、
前記吸気口は、前記ステージの行方向及び列方向に配置され、
前記排気口は、前記ステージの行方向及び列方向に配置された前記吸気口の位置にそれぞれ対応するように配置されていることを特徴とする露光装置。
【請求項３】
請求項１記載の露光装置において、
前記吸気口は、前記ステージの行方向及び列方向に配置され、
前記排気口は、前記ステージの各辺で均等な距離を隔てて配置されていることを特徴とする露光装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置において、
前記載置台を移動するための移動機構は、前記載置台を水平方向に移動する移動機構であることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置において、
複数の前記排気口はそれぞれダクトに接続されていることを特徴とする露光装置。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置において、
前記排気口は辺毎に覆われ、辺毎に１つ又は複数のダクトに接続されていることを特徴とする露光装置。
【請求項７】
チャンバーと、前記チャンバーの上部に配置されたフィルタと、前記フィルタ下部の前記チャンバー内に配置され、基板を載置するための載置台と、基板を載置する載置台と、前記載置台を搭載するステージと、前記ステージ上で前記載置台を移動するための移動機構とを有する露光装置において、
前記ステージは、内部がリブで格子状の構造を有すると共に、その上面に複数の吸気口と、その側面に複数の排気口とを備え、
前記排気口は、ダクトを介して前記フィルタに接続されていることを特徴とする露光装置。
【請求項８】
請求項７記載の露光装置において、
前記排気口から排気されたエアは前記フィルタで清浄化された後、前記チャンバー内へ送り込まれることを特徴とする露光装置。
【請求項１】
基板を載置する載置台と、前記載置台を搭載するステージと、前記ステージ上で前記載置台を移動するための移動機構とを有する露光装置において、
前記ステージは、
内部がリブで格子状の構造を有し、更に、
その上面に複数の吸気口と、その側面に複数の排気口とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
請求項１記載の露光装置において、
前記吸気口は、前記ステージの行方向及び列方向に配置され、
前記排気口は、前記ステージの行方向及び列方向に配置された前記吸気口の位置にそれぞれ対応するように配置されていることを特徴とする露光装置。
【請求項３】
請求項１記載の露光装置において、
前記吸気口は、前記ステージの行方向及び列方向に配置され、
前記排気口は、前記ステージの各辺で均等な距離を隔てて配置されていることを特徴とする露光装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置において、
前記載置台を移動するための移動機構は、前記載置台を水平方向に移動する移動機構であることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置において、
複数の前記排気口はそれぞれダクトに接続されていることを特徴とする露光装置。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置において、
前記排気口は辺毎に覆われ、辺毎に１つ又は複数のダクトに接続されていることを特徴とする露光装置。
【請求項７】
チャンバーと、前記チャンバーの上部に配置されたフィルタと、前記フィルタ下部の前記チャンバー内に配置され、基板を載置するための載置台と、基板を載置する載置台と、前記載置台を搭載するステージと、前記ステージ上で前記載置台を移動するための移動機構とを有する露光装置において、
前記ステージは、内部がリブで格子状の構造を有すると共に、その上面に複数の吸気口と、その側面に複数の排気口とを備え、
前記排気口は、ダクトを介して前記フィルタに接続されていることを特徴とする露光装置。
【請求項８】
請求項７記載の露光装置において、
前記排気口から排気されたエアは前記フィルタで清浄化された後、前記チャンバー内へ送り込まれることを特徴とする露光装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１１−８１０４９（Ｐ２０１１−８１０４９Ａ）
【公開日】平成２３年４月２１日（２０１１．４．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２３１１５４（Ｐ２００９−２３１１５４）
【出願日】平成２１年１０月５日（２００９．１０．５）
【出願人】（５０１３８７８３９）株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年４月２１日（２０１１．４．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１０月５日（２００９．１０．５）
【出願人】（５０１３８７８３９）株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)
【Ｆターム（参考）】
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