【課題】半導体製造装置において、被処理基板Ｗ１の処理のスループットを落とすことなく、異物が被処理基板Ｗ１に付着しない状態を長時間保ちたい。
【解決手段】被処理基板Ｗ１に処理を施す複数の処理室１ａ、１ｂと、複数の処理室の各室に該被処理基板Ｗ１を搬送するための搬送機構と、搬送機構をその内部に有する搬送室９からなる半導体製造装置において、搬送室９内の搬送機構は、接地された導電性ハンド１３と、絶縁性ハンド１０を備えており、異物付着専用基板Ｗ２、および異物付着専用基板Ｗ２の搬入搬出室７を設ける。異物付着専用基板Ｗ２に異物を付着させ、さらに異物が付着した異物付着専用基板Ｗ２を交換できるようにした。 （もっと読む）

【課題】基板保持用枠体は、大型ガラス基板を載置し、複数枚を積層して搬送あるいは保管に用いられ、搬送時の衝撃や振動に対しての強度が求められると同時に発塵による基板への異物付着や傷による製品の品質不良の発生を防止することが求められる。２メートル角程度の大サイズ基板を安全に保管・輸送できる基板保持用枠体等を提供する。
【解決手段】少なくとも対向する２辺の金属枠部１１のそれぞれの上面に、基板保持用枠体１０を懸垂するための複数の開口部１７を有する。 （もっと読む）

【課題】 クリーンルームで行われる半導体製造プロセス等において、棚に運搬容器を保管する際に塵埃が発生し、また他のエリアで運搬容器に付着した塵埃が落下して、同じ棚に保管されている他の運搬容器に付着する可能性があった。
【解決手段】 棚１０は、クリーンルームで用いられるものであり、少なくとも１段の棚板１１を有する。各棚板１１は、所定の間隔Ｇをあけて上下に対向配置された上板部１２と下板部１３とを有している。上板部１２は、空気を通過させる複数の開口部１４を有している。下板部１３は、少なくとも上板部１２の開口部１４に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部（粘着マット１５）を有している。 （もっと読む）

【課題】セラミックス等の脆性部材で構成された基板保持部材を備えた基板搬送装置において、破損した場合に破片の飛散を抑えること。
【解決手段】多関節アームの最上段の基板保持部材２の基体としてセラミックスからなるフォーク状の板状体を用いる。この板状体の周縁に沿って板状体の中に埋設した状態で延性部材である金属線５を配置する。また板状体の裏面側に延性部材である樹脂フィルムを貼着するようにしてもよい。このような構成では、基板保持部材が構造物に衝突し破損した場合にも、金属線によって破片を繋ぎ止めることで、破片の飛散防止あるいは抑制をすることができる。 （もっと読む）

【課題】パーティクルが本体から離れるのを防止することができる電動アクチュエータを提供する。
【解決手段】電動アクチュエータ１０は、細長状の筐体からなる本体１１と、該本体１１の長手方向に沿って往復自在に移動するスライダ１２と、該スライダ１２の移動路に対応して本体１１の側面に形成された開口部１３と、該開口部１３と覆うように設けられたダストシールバンド１４とを備え、開口部１３の両脇において当該開口部１３を挟むように本体１１から該本体１１の外側に向けて突出し、且つ本体１１の長手方向に沿って延設された一対の電極２１を備え、一対の電極２１の上部電極２１ｂには正の電位が生じ、一対の電極２１の下部電極２１ａには負の電位が生じる。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、試料の汚染低減の要求に応える搬送アームおよびそれを用いた吸着装置を提供するものである。
【解決手段】
本発明の一形態に係る搬送アーム１は、セラミックスからなるアーム本体２と、該アーム本体２の表面を被覆し、試料の載置領域６を有する被覆膜３とを備え、該被覆膜３は、導電性ポリエーテルエーテルケトン樹脂からなる。
また、本発明の一形態に係る吸着装置は、上記搬送アーム１を試料の吸着手段および搬送手段として用いる。 （もっと読む）

【課題】ウェハを外周で保持する機構では、ウェハが自重で撓む場合がある。そこで平面度を保持するためにウェハとウェハ下の保持台との間に空気を供給する方法がある。しかし、この方法では異物がウェハに付着する場合がある。
【解決手段】ウェハの平面度を保持するためにウェハ、及びウェハ下の保持台に負電圧をかける。この静電力によってウェハに上向きの力を与え、平面を保持する。また、この方法により負に帯電した異物の付着を防止する。 （もっと読む）

【課題】真空処理装置内で使用される基板搬送ロボットであって、ロボットアームの関節部は、一方のアーム部材に形成した上下方向に貫通する軸支孔と、軸支孔に装着したベアリングと、他方のアーム部材に固定した、ベアリングに挿入される支軸とを備えるものにおいて、ベアリングでの発塵で生ずるパーティクルによる真空処理装置内の汚損を防止できるようにする。
【解決手段】一方のアーム部材３１_１の下面に、軸支孔５１を下方から覆うカバー７が着脱自在に取り付けられる。また、支軸５３が他方のアーム部材３２_１上方に突出する上部軸部５３ａを有し、一方のアーム部材３１_１に、上部軸部５３ａが挿入される上部ベアリング５５を装着した筒部５４を設ける場合には、上部ベアリング５５の内輪と他方のアーム部材３２_１との間に介設するカラー５７の下端に、外周に立上り部５７ｂを有するフランジ部５７ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】ガラス板の一方の主面に部材を接触させることなくガラス板を搬送することができる搬送装置及び搬送方法を提供する。
【解決手段】搬送装置１は、移動可能な台座部１０に対して上下方向に変位可能に設けられており、上方に向かって開口する第１の凹条部２４ａを有する第１の保持部２４と、第１の保持部２４の上方において、第１の保持部２４に対して上下方向に変位可能に設けられており、下方に向かって開口する第２の凹条部３２ａを有する第２の保持部３２とを備えている。第２の保持部３２は、下方に向かって台座部１０側に傾斜する第１の壁部３２ａ１と、第１の壁部３２ａ１に対して台座部１０とは反対側に位置し、第１の壁部３２ａ１と共に第２の凹条部３２ａを構成している第２の壁部３２ａ２とを有する。第１の壁部３２ａ１は、第２の壁部３２ａ２よりも下方に位置している。 （もっと読む）

【課題】グリースやダスト等による真空装置等の汚染の問題がなく、設置面積が小さく、既存技術で容易に耐腐食処理が可能な搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送装置は、第１の平行四辺形リンク機構Ｒ１と、第２の平行四辺形リンク機構Ｒ２を備える。ガイド機構８０は、ベース部材８１上において直線状に延びる第１〜第３ガイドアーム９１〜９３を有し、第１ガイドアーム９１の一端部がベース部材８１上に鉛直面方向に回転可能に軸支されるとともに、第１ガイドアーム９１の他端部に第２ガイドアーム９２の一端部が鉛直面方向に回転可能に軸支され、第２ガイドアーム９２の他端部に第３ガイドアーム９３の一端部が鉛直面方向に回転可能に軸支される。ベース部材８１が第２下アーム６２に水平面方向に回転可能に軸支され、第３ガイドアーム９３の他端部が第１上アーム７１の延長部７１ａに水平面方向に回転可能に軸支されている。 （もっと読む）

【課題】 印刷エリアに触れずに基板のロードとアンロードを行う。
【解決手段】 真空吸着ステージ２の真空吸着チャック部３を、真空引きと空気供給を切換可能とする。真空吸着ステージ２の側部のハンドフック部２４に先端部を係止させるロボットハンド７の各爪の上面側に、真空引きと空気供給を切換可能とした真空吸着チャック部１９を備える。真空吸着ステージ２とロボットハンド７の上方位置で往復動可能なスライダ１０に、基板１の平面形状を囲む位置に配した係止用爪部材１１を昇降可能に備えてなるワーク移動手段９を設ける。ロボットハンド７上と真空吸着ステージ２上で基板１を移すときは、各々の真空吸着チャック部３と１９に空気供給して基板１を浮上させ、この状態で、ワーク移動手段９の係止用爪部材１１により基板１の外周端を押して移動させる。 （もっと読む）

【解決手段】絶縁体層とこの絶縁体層内に設けられた電極とを有する静電チャックの被吸着体と接触する表面に、
(A)オルガノポリシロキサン、
(B)Ｒ₃ＳｉＯ_1/2単位（Ｒは一価炭化水素基）とＳｉＯ₂単位を主成分とし、Ｒ₃ＳｉＯ_1/2単位とＳｉＯ₂単位とのモル比［Ｒ₃ＳｉＯ_1/2／ＳｉＯ₂］が０．５〜１．５で、かつ１×１０^-4〜５×１０^-3ｍｏｌ／ｇのビニル基を含有するシリコーン樹脂質共重合体、
(C)オルガノハイドロジェンポリシロキサン、
(D)有機過酸化物
を含有してなるシリコーンゴム組成物の硬化物からなるシリコーンゴム層を形成してなる静電チャック。
【効果】本発明はウエハとの密着性がよく、冷却性能に優れるため、半導体集積回路の製造においてウエハの保持が必要となる工程、特に、プラズマエッチング工程やイオン注入工程、スパッタリング工程において、ウエハの温度を精度よく均一かつ一定に保つことができるため、高精度の加工を行うのに有用である。 （もっと読む）

【課題】人手による搬送作業をなるべく抑えて露光装置とマスク検査装置との間でフォトマスクを搬送することができるマスク搬送システムを提供する。
【解決手段】実施形態によれば、マスク搬送システムは、ストッカ１１〜７１と、搬送路３と、収納容器と、搬送装置２００と、制御装置８０と、を備える。収納容器はウェハ搬送用とマスク搬送用とで同一の構造を有する。制御装置８０は、露光エリア３０のストッカ３１、またはマスク検査エリア７０のストッカ７１に収納容器が入庫されると、収納容器がマスク搬送用であるかを判別し、マスク搬送用の収納容器である場合には入庫されたストッカではないストッカ７１，３１に収納容器が搬送されるように搬送装置２００を制御する搬送装置制御部を備える。 （もっと読む）

【課題】クリーン度が低い環境で物品を搬送する際に、簡素な構成で物品を汚染することなく迅速に移載できるようにする。
【解決手段】物品搬送車４は、カセットＣを搬送可能である。物品搬送車４は、カセットＣを載置可能物品載置部１５と、カバー部材１７と、を備えている。カバー部材１７は、物品載置部１５を覆う。カバー部材１７は、開口３０と、取り込み口３２と、第１吹き出し口３４と、吸い込み口３６と、を有している。開口３０は、カセットＣを出し入れ可能である。取り込み口３２は、外の空気を取り込み可能である。第１吹き出し口３４は、開口３０の走行方向前側に設けられ、取り込み口３２から取り込んだ空気を、開口３０表面を覆うように吹き出し可能である。吸い込み口３６は、開口３０の走行方向後側に設けられ、第２ＦＦＵ４４により第１吹き出し口３４から吹き出した空気を吸い込み可能である。 （もっと読む）

【課題】搬送中の物品に対して、塵埃が付着するのを防止するだけでなく、アンモニアや二酸化硫黄等の物質が付着することも防止できる物品搬送装置の提供。
【解決手段】移動体７には、上昇位置に位置する物品保持部９にて保持された物品５の周囲を覆う収納空間Ｋが形成され、その収納空間Ｋの下端部には、上昇位置と下降位置との間での物品保持部９の昇降を可能とする開口部２５が形成され、収納空間Ｋ内に空気浄化用フィルタを通して浄化空気を通風する浄化空気通風手段２６が備えられ、横軸心周りでの揺動により開口部２５を開口する開位置と開口部を閉塞する閉位置とに位置変更自在な開閉体２７と、物品保持部９を上昇位置と下降位置との間で昇降させる場合には、開閉体２７を開位置に位置させ、物品保持部９の上昇位置と下降位置との間での昇降が終了すると、開閉体２７を開位置から閉位置に位置変更させる開閉制御手段が備えられている。 （もっと読む）

【課題】加熱板に基板を載置して熱処理するにあたり、加熱板の温度を速やかに降温すること。
【解決手段】加熱板８４の下方側に加熱板８４と略同じ大きさの２枚の冷却プレート８１、８２を水平に設け、下側の冷却プレート８１は断熱部材を介して加熱板８４に固定し、上側の冷却プレート８２は下側の冷却プレート８１に対して昇降できるように構成する。下側の冷却プレート８１には冷媒流路８８を設け、上側の冷却プレート８２を下側の冷却プレート８１に接触させて予め冷却しておき、加熱板８４の温度を降温させるときには、上側の冷却プレート８２を上昇させて加熱板８４に接触あるいは近接させる。また、２枚の冷却プレート８１、８２を用いずに、冷媒流路８８を備えた１枚の冷却プレートを加熱板８４に接触あるいは近接させるようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】どのような付着物であっても完全に基板の周縁部から取り除くことができるようにする。
【解決手段】基板の表面上に処理ガスのプラズマを生成してプロセス処理を行うプラズマ処理装置１４０Ａ〜１４０Ｆと，プロセス処理前に紫外線を照射することによって粘着力が低下する材料で構成した粘着剤Ｑを片側に付けた周縁テープＰを，その粘着剤が基板の周縁部に貼り付くように繰り出して，基板の周縁部に周縁テープを貼り付ける周縁テープ貼付装置２００と，プロセス処理後に周縁テープに紫外線を照射して粘着剤の粘着力を低下させることによって，周縁テープを基板から剥離する周縁テープ剥離装置３００とを設けた。 （もっと読む）

【課題】本発明は基板処理装置を提供する。
【解決手段】本発明による基板処理装置は、基板が引入される側のアラインメント領域と基板処理工程が行われる工程領域とに区画されたチャンバと、引入された基板をアラインメントして工程領域に移送し、工程終了後に基板をアラインメント領域に移送するキャリアと、チャンバ内でのアラインメント領域と工程領域との間に形成され、工程領域で発生した汚染物質がアラインメント領域に流入されることを遮断し、キャリアの移送に応じて開いたり、閉じたりするシールドと、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁性流体シールを使用する必要がない磁気浮上型を採用し、しかも装置としてのアキシャル方向の長さを極力短くすることができるようにする。
【解決手段】回転動力を出力する回転子１２を備え、回転子１２は、回転子１２のラジアル方向に配置されて該回転子１２のラジアル方向変位を非接触で制御する２組以上のラジアル磁気軸受４０と、回転子１２の周囲に３組以上に分割配置されて該回転子１２のアキシャル方向変位を非接触で制御するアキシャル磁気軸受５０によって、所定の位置に非接触で回転支承され、ラジアル磁気軸受４０のラジアル電磁石４４とアキシャル磁気軸受５０のアキシャル電磁石５４は、略同一平面上に配置されてケーシング部１４に固定されている。 （もっと読む）