棚、棚板および塵埃の捕捉方法
【課題】 クリーンルームで行われる半導体製造プロセス等において、棚に運搬容器を保管する際に塵埃が発生し、また他のエリアで運搬容器に付着した塵埃が落下して、同じ棚に保管されている他の運搬容器に付着する可能性があった。
【解決手段】 棚１０は、クリーンルームで用いられるものであり、少なくとも１段の棚板１１を有する。各棚板１１は、所定の間隔Ｇをあけて上下に対向配置された上板部１２と下板部１３とを有している。上板部１２は、空気を通過させる複数の開口部１４を有している。下板部１３は、少なくとも上板部１２の開口部１４に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部（粘着マット１５）を有している。
【解決手段】 棚１０は、クリーンルームで用いられるものであり、少なくとも１段の棚板１１を有する。各棚板１１は、所定の間隔Ｇをあけて上下に対向配置された上板部１２と下板部１３とを有している。上板部１２は、空気を通過させる複数の開口部１４を有している。下板部１３は、少なくとも上板部１２の開口部１４に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部（粘着マット１５）を有している。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体の製造プロセスなど、クリーンルームで行われる製造プロセスで使用される棚およびその棚板、並びに、棚に運搬容器を載置する際に発生する（または他のエリアから持ち込まれる）塵埃を捕捉する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、半導体製品（例えばウエハ）などの電子部品の製造は、空気清浄度が管理されたクリーンルーム内で行われる。
【０００３】
クリーンルーム内では、製品を収納する運搬容器（例えばウエハキャリア）を保管するため、棚（作業台も含む）が用いられる。棚は、例えば複数段の棚板を備えており、その棚板の上に運搬容器が載置される。
【０００４】
ここで、運搬容器の外側に塵埃が付着すると、運搬容器の蓋を開けた際に、製品に塵埃が付着する可能性がある。例えばウエハに塵埃が付着すると、塵埃がマスクとなって回路パターンの形成不良や配線間のショートを生じ、また、塵埃上に絶縁膜が形成されることにより絶縁膜の膜厚の不均一を生じ、また、真空下で塵埃からアウトガスが発生することにより配線膜の変色を生じるなど、さまざまな製品不良につながる可能性がある。
【０００５】
塵埃を除去するため、運搬容器を自動洗浄するコンテナ洗浄部を設けた保管棚が提案されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平５−２０１５０６号公報（段落００３５〜００３９、図１参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記の従来技術では、運搬容器の自動洗浄のための大掛かりなシステムが必要になるため、導入コストが高く、製造コストの上昇の原因となる。
【０００８】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、製品への塵埃の付着を抑制することが可能な棚、棚板、および塵埃の捕捉方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る棚は、クリーンルームで用いられる棚であって、少なくとも１段の棚板を備え、各棚板が、所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部と下板部とを有し、上板部は、空気を通過させる複数の開口部を有し、下板部は、少なくとも上板部の複数の開口部に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部を有することを特徴とする。
【００１０】
また、本発明に係る棚板は、クリーンルームで用いられる棚の少なくとも１段を構成する棚板であって、所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部と下板部とを有し、上板部は、空気を通過させる複数の開口部を有し、下板部は、少なくとも上板部の複数の開口部に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部を有することを特徴とする。
【００１１】
また、本発明に係る塵埃の捕捉方法は、クリーンルームにおいて、少なくとも１段の棚板を有する棚であって、各棚板が、所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部と下板部とを有し、上板部が、空気を通過させる複数の開口部を有し、下板部が、少なくとも上板部の複数の開口部に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部を有する棚を用い、棚板に、製品を収納した運搬容器を載置し、塵埃捕捉部により、運搬容器から落下した塵埃を捕捉することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、下板部の塵埃捕捉部によって塵埃を捕捉することができるため、運搬容器に塵埃が付着することを防止できる。そのため、運搬容器から更に製品に塵埃が付着することを防止し、製品不良の発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】第１の関連技術における棚の構成を示す斜視図である。
【図２】第２の関連技術における棚の構成を示す斜視図である。
【図３】第３の関連技術における棚の構成を示す斜視図である。
【図４】第４の関連技術における棚の構成を示す斜視図である。
【図５】図１に示した棚の使用状態を示す斜視図である。
【図６】運搬容器に付着した塵埃が製品に付着する様子を示す斜視図である。
【図７】運用容器と棚板との接触による発塵を抑制するための構成を示す斜視図である。
【図８】運用容器と棚板との接触による発塵を抑制するための構成を示す斜視図である。
【図９】本発明の第１の実施の形態における棚の構成を示す図である。
【図１０】本発明の第２の実施の形態における棚の構成を示す斜視図である。
【図１１】本発明の第２の実施の形態における上板部と下板部との組み合わせを説明するための模式図である。
【図１２】本発明の第２の実施の形態の変形例を示す斜視図である。
【図１３】本発明の第３の実施の形態における棚の構成を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の各実施の形態について説明する前に、本発明の前提となる関連技術について説明する。これらの関連技術は、半導体製造プロセスなど、クリーンルームで行われる製造プロセスで用いられる棚に関する。
【００１５】
図１は、第１の関連技術における棚４０の構成を示す斜視図である。図１に示す棚４０は、少なくとも１段（ここでは３段）のメッシュ棚板４１を備えている。各メッシュ棚板４１は、複数の棒状部材４２を柵状（または網状）に組み合わせたものであり、隣り合う棒状部材４２の間にスリット状の開口部４３が形成されている。メッシュ棚板４１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱４５により支持されている。
【００１６】
図２は、第２の関連技術における棚５０の構成を示す斜視図である。図２に示す棚５０は、少なくとも１段（ここでは３段）のスノコ棚板５１を備えている。各スノコ棚板５１は、板状部材５２の全面に亘って、互いに平行な複数のスリット状の開口部５３を形成したものである。スノコ棚板５１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱５５により支持されている。
【００１７】
図３は、第３の関連技術における棚６０の構成を示す斜視図である。図３に示す棚６０は、少なくとも１段（ここでは２段）のパンチング棚板６１を備えている。各パンチング棚板６１は、板状部材６２の全面に亘って、例えば円形の開口部６３を形成したものである。パンチング棚板６１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱６５により支持されている。
【００１８】
図４は、第４の関連技術における棚７０の構成を示す斜視図である。図４に示す棚７０は、少なくとも１段（ここでは３段）のベタ棚板７１を備えている。各ベタ棚板７１は、板状部材に開口部を形成していないものである。ベタ棚板７１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱７５により支持されている。図１〜図４に示した棚板４１，５１，６１，７１は、いずれもステンレスで形成されている。
【００１９】
半導体製造が行われるクリーンルームでは、フィルタを通過させた清浄な空気（クリーンエア）を、必要なエリアにダウンフロー（Ｆ）として供給しているため、図４に示すようなベタ棚板７１を使用した棚７０では、ベタ棚板７１の上側に気流溜まり７２が生じ、ベタ棚板７１の下側には気流の巻き込み７３が生じる。これに対し、図１〜３に示した棚４０，５０，６０は、空気を通過させる開口部４３，５３，６３を有しているため、気流溜まりが生じにくいという利点がある。
【００２０】
図５は、図１に示した棚４０の使用状態を示す図である。ここでは、棚４０の棚板４１上に、製品（例えばウエハ）を収容した運搬容器１（例えばウエハキャリア）を載置して保管している。棚板４１には開口部４３が多数形成されているため、上段から下段にダウンフローＦの空気が流れる。
【００２１】
そのため、作業者が運搬容器１を棚板４１上に載置する際には、運搬容器１と棚板４１との接触により発生する塵埃、および作業者自身が発生する塵埃（以下、これらをまとめて、運搬容器１の取り扱い時に発生する塵埃と称する）、並びに他のエリアから運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃（いずれも符号３で示す）が、棚板４１の開口部４３を通過して、符号８１で示すように下段の棚板４１上の運搬容器１に降りかかる可能性がある。
【００２２】
また、取り扱い中の運搬容器１の真下に他の運搬容器１が無い場合でも、運搬容器１の取り扱い時に発生した塵埃３や、他のエリアから運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃３は、クリーンルームの床（グレーチング１０１）等に設置されているプレフィルタ１０２で捕捉されるまでの間は、クリーンルーム内で漂い、作業者や台車１０３などの移動に伴う気流の乱れ１０４によって巻き上がるため、符号８２で示すように、運搬容器１に付着する可能性がある。
【００２３】
ここでは、図１の棚４０について説明したが、図２および図３の棚５０，６０についても、同様のことが言える。
【００２４】
このようにして運搬容器１に付着した塵埃３は、図６に模式的に示すように、運搬容器１の蓋１Ａを開けた際に、運搬容器１内の製品２（ウエハ）に付着する可能性がある。製品２に塵埃３が付着すると、後工程において、塵埃３がマスクとなって回路パターンの形成不良や配線間のショートを生じ、また、塵埃３上に絶縁膜が形成されることにより絶縁膜の膜厚の不均一を生じ、また、真空下で塵埃３からアウトガスが発生することにより配線膜の変色を生じるなど、さまざま製品不良につながる可能性がある。
【００２５】
図７および図８は、運用容器１と棚板との接触による発塵を抑制するための構成を示す。図７に示す構成は、図４に示した棚７０の棚板７１上に、運搬容器１との接触により発塵を生じにくい材質で形成された板（またはシート）７６を敷いたものである。
【００２６】
図８に示す構成は、図１に示した棚４０のメッシュ棚板４１に、運搬容器１との接触面積を少なくして発塵量を減少させるためのコマ４６を置いたものである。コマ４６は、例えば、運搬容器１の下面の４隅に配置される。
【００２７】
また、棚板の上に溜まった塵埃３を、ワイパーやセントラルクリーナ方式（屋外排気）の真空掃除機などを使用して定期的に除去することも考えられる。
【００２８】
このような構成（図７，８）は、運搬容器１と棚板４１，７１との接触による発塵量を減少させることはできるが、塵埃３の発生自体を防止することはできない。また、棚板上に溜まった塵埃３を真空掃除機などで除去したとしても、塵埃３のない清浄な状態を維持することは難しい。そのため、塵埃３が製品２に付着することによる上述した各問題を解消するには至らない。
【００２９】
以上を踏まえ、本発明の各実施の形態について、以下に説明する。
【００３０】
第１の実施の形態．
図９は、本発明の第１の実施の形態における棚１０を示す斜視図である。図９に示す棚１０は、製品を収納した運搬容器１を載置するための棚板１１を備えている。ここでは、上下に３段の棚板１１を備えているが、段数は任意であり、１段であってもよい。各棚板１１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱１７によって支持されている。各棚板１１は、所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部１２と下板部１３とを有している。
【００３１】
上板部１２は、ここでは、複数の棒状部材１２ｂを組み合わせたメッシュ棚板とする。メッシュ棚板１２の隣り合う棒状部材１２ｂの間に、スリット状の開口部１２ａが形成される。但し、メッシュ棚板の代わりに、スリット状の開口部を有するスノコ棚板や（図２参照）、円形の開口部を有するパンチング棚板（図３参照）などを用いてもよい。
【００３２】
上板部１２は、その上に、所定の数（図９の例では３個）の運搬容器１を保持するものである。そのため、上板部１２は、運搬容器１を支持するのに十分な強度を有し、なお且つ、運搬容器１との接触による発塵ができるだけ少ない材質で構成される。
【００３３】
運搬容器１の材質がポリプロピレンである場合、上板部１２をポリテトラフルオロエチレン（テフロン：登録商標）で構成すると、運搬容器１と上板部１２との接触による発塵は殆ど発生しないが、静電対策を施す必要がある。一方、上板部１２を運搬容器１と同様の静電対策品のポリプロピレンで構成すると、テフロンで構成した場合より発塵はあるが、接触による帯電が生じにくい。また、発塵抑制の観点から、上板部１２は、運搬容器１との接触部の面粗さが滑らかで、角がない形状であることが好ましい。
【００３４】
一方、下板部１３は、支持板１４の表面に、塵埃３を捕捉するための粘着マット１５（塵埃捕捉部）を設けたものである。支持板１４は、粘着マット１５を支持する強度を有するものであれば、ベタ棚板であってもよく、また、メッシュ棚板、スノコ棚板、あるいはパンチング棚板であってもよい。なお、支持板を使用しない場合には、板部１２の裏側に直接粘着マットを貼り付けてもよい。
【００３５】
粘着マット１５は、塵埃３を効果的に捕捉できるよう、例えば１８０ｇｆ／２５ｍｍ±４０ｇ程度の粘着力を有することが好ましい。また、運搬容器１に静電気の影響を及ぼさないように、粘着マット１５の表面抵抗が例えば１０９〜１０１０Ω程度であることが好ましい。このような粘着マット１５としては、例えば、一般にクリーンルームの床などに敷いて用いられる静電対策用の粘着マットを利用することができる。
【００３６】
具体的には、粘着マット１５は、例えば、ポリエチレンフィルムに水系の接着剤（２エチルヘキシル・アクリル酸塩３０％、ブチル・アクリル酸塩９％、酢酸ビニル３％および水）を塗布したものを、複数層（例えば３０〜４０層）重ね合わせたものを用いることができる。各フィルム（すなわち１層分）の厚さは、例えば５０μｍである。
【００３７】
このような粘着マット１５はフィルムを一枚ずつ剥がすことができるため、塵埃３の堆積状況に応じて、最上層のフィルムを剥がし、新しいフィルムを露出させて使用することができる。
【００３８】
粘着マット１５は、最下層のフィルムが両面に粘着性を有しており、下面の保護フィルムを剥がすことで、支持板１４上に固定することができる。なお、粘着マット１５の３０〜４０層を数枚ずつに分けて使用する場合には、両面テープやセロファンテープを用いて支持板１４に固定してもよい。あるいは、エラストマー樹脂などの両面接着シートを用いれば、同じ両面接着シートを繰り返し利用することができる。
【００３９】
なお、粘着マット１５は、塵埃３を捕捉できるものであればよく、上記の静電対策用の粘着マットに限定されるものではない。また、接着剤として、例えばトルエンを使用しているものであってもよい。
【００４０】
上板部１２と下板部１３の間隔Ｇは、短い方が好ましい。塵埃３が浮遊してから粘着マット１５で捕捉するまでの時間が短くなり、気流の乱れの影響を受けにくくなるためである。
【００４１】
図９に示す例では、粘着マット１５を、下板部１３の支持板１４上に前方（矢印Ａで示す方向）から挿入するが、この場合には、上板部１２と下板部１３との間隔Ｇは、例えば３ｃｍ程度が好ましい。一方、下板部１３の支持板１４が棚１０から引き出し可能に構成されている場合には、支持板１４を引き出した状態で粘着マット１５を取り付けることができるため、間隔Ｇは３ｃｍよりも狭くてもよい。
【００４２】
棚１０が配置されるクリーンルームでは、例えば風速０．３ｍ／秒のダウンフロー（Ｆ）が形成されており、塵埃３を落下させて、クリーンルームの床に配設されたプレフィルタ１０２（図５）で捕捉するようになっている。
【００４３】
そのため、作業者が運搬容器１を棚板１１の上板部１２に載置する際に、運搬容器１と上板部１２との接触により発生する塵埃３、および作業者自身が発生する塵埃３（これらをまとめて、運搬容器１の取り扱い時に発生する塵埃と称する）、並びに他のエリアから運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃３が落下する。しかしながら、本実施の形態では、上板部１２の開口部１２ａから落下した塵埃３は、下板部１３の粘着マット１５の表面に捕捉される。そのため、下段の運搬容器１に塵埃３が降りかかることが防止される。
【００４４】
また、粘着マット１５に捕捉された塵埃３は、粘着マット１５の粘着力により移動しにくいため、作業者や台車１０３（図５）などの移動に伴う気流の乱れ１０４（図５）の影響を受ける塵埃３は、運搬容器１から落下してから粘着マット１５に捕捉されるまでの僅かな量の塵埃３（すなわち間隔Ｇの区間を落下している塵埃３）のみである。そのため、気流の乱れによって塵埃３が運搬容器１や製品２に付着する可能性が大幅に低減する。
【００４５】
このように運搬容器１への塵埃３の付着を防止することができるため、運搬容器１に付着した塵埃３が更に製品２に付着して生じる製品不良（回路パターンの形成不良、配線間のショート、絶縁膜厚の不均一等）を防止することができる。
【００４６】
なお、粘着マット１５上に塵埃３が堆積すると、その塵埃３の上に落下した塵埃３は粘着マット１５で捕捉されずに飛散する可能性があるため、定期的に粘着マット１５の最上層のフィルムを剥がし、次のフィルムを露出させる必要がある。このメンテナンス周期は、使用する環境（発塵量）や、粘着マット１５上の塵埃３の付着状況に応じて決定する。
【００４７】
また、粘着マット１５は空気を通過させないため、粘着マット１５の上下に気流溜まり１８が発生する可能性があるが、塵埃３は粘着マット１５に捕捉されるため、気流溜まりによって塵埃３が浮遊することが防止される。
【００４８】
また、作業時に発生する塵埃３は、通常は感知（例えば視認）できないが、粘着マット１５を設けることにより、付着した塵埃３が視認できるようになる。そのため、「塵埃の見える化」が可能になり、作業者の発塵に対する認識を向上させることができる。また、通常状態での塵埃の付着量を把握することで、これよりも多い量の塵埃の付着が見られた場合に、何らかの異常の可能性を検知することができる。また、粘着マット１５に捕捉された塵埃３は、発塵の対策や改善のための調査用サンプルとして活用することができる。
【００４９】
以上説明したように、本発明の第１の実施の形態によれば、棚板１１を、上板部１２と下板部１３とで構成すると共に、上板部１２に空気を通過させる開口部１２ａを設け、下板部１３に粘着マット１５（塵埃保持部）を設けたため、運搬容器１の取り扱い時に発生した塵埃３や、他のエリアから運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃３を、粘着マット１５で捕捉することができる。その結果、運搬容器１（および運搬容器１に収納された製品２）への塵埃３の付着を防止することができ、製品不良の低減に資することができる。
【００５０】
なお、ここでは、塵埃３を捕捉するために粘着マット１５を用いたが、粘着マット１５に限らず、塵埃３を吸着等により捕捉できるものであればよい。
【００５１】
また、ここでは、下板部１３の全面に粘着マット１５を設けたが、下板部１３のうち、上板部１２の開口部１２ａに対向する部分にのみ部分的に粘着マット１５を設けてもよい。このような構成であっても、上板部１２の開口部１２ａから落下した塵埃３を捕捉することができる。
【００５２】
また、粘着マット１５の代わりに、プレフィルタのように、空気を通過させて塵埃３を捕捉する構造を有するものを用いてもよい。風速０．３ｍ／秒のダウンフローにより落下する塵埃３を捕捉する場合、プレフィルタは、例えば孔径が数十μｍ〜数百μｍの細孔を有し、５ｍｍ程度の厚みを有していればよい。プレフィルタは、塵埃３を捕捉することができるだけでなく、空気を通過させるため、気流溜まり１８（図９）が生じにくいという利点がある。
【００５３】
第２の実施の形態．
図１０は、本発明の第２の実施形態における棚２０を示す斜視図である。棚２０は、製品を収納した運搬容器１を載置するための棚板２１を備えている。ここでは、上下に２段の棚板２１を備えているが、段数は任意であり、１段であってもよい。各棚板２１は、上板部２２と下板部２３とで構成されている。また、各棚板２１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱２７によって支持されている。
【００５４】
上板部２２は、板状部材の全面に亘って、例えば円形の開口部２４を形成したパンチング棚板で形成されており、運搬容器１を支持するのに十分な強度を有している。一方、下板部２３も、板状部材の全面に亘って、例えば円形の開口部２５を形成したパンチング棚板で形成されている。但し、下板部２３の開口部２５は、上板部２２の開口部２４に対してずれた位置に形成されている。そのため、上板部２２の開口部２４から落下した塵埃３は、下板部２３の開口部２５以外の部分２６に当接して、そこに留まる。この下板部２３の開口部２５以外の部分２６（上板部２２の開口部２３に対向する部分）が、第２の実施の形態における塵埃捕捉部を構成する。
【００５５】
図１１は、上板部２２と下板部２３との組み合わせを説明するための模式図である。上板部２２および下板部２３は、図１１（Ａ）に示すように、互いに同じ直径の開口部２４，２５を同じ配列パターンで形成したものである。例えば、上板部２２を、下板部２３に対して相対的に１８０度回転させることにより、図１１（Ｃ）に示すように、上板部２２の開口部２４の位置と下板部２３の開口部２５の位置とがずれた配置が得られる。
【００５６】
ここでは、上板部２２および下板部２３の開口部２４，２５の直径（内径）を５ｍｍとし、配列ピッチを１３ｍｍとする。なお、開口部２４，２５の直径や配列ピッチがこれらに限定されないことは言うまでもない。
【００５７】
上板部２２と下板部２３とを同じ構成にすることで、棚板２１を効率よく製造することができるため、棚２０の製造コストを低減することができる。他の構成は、第１の実施の形態で説明したとおりである。
【００５８】
本実施の形態では、図１０に示すように、運搬容器１の取り扱い時に発生する塵埃３や、他のエリアから運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃３が、上板部２２の開口部２４から落下すると、下板部２３の開口部２５以外の部分２６に当接して、そこに留まる。そのため、下段の棚板２１に置かれた運搬容器１に塵埃３が降りかかることが防止される。
【００５９】
また、上板部２２および下板部２３が、空気を通過させる開口部２４，２５を有しているため、気流溜まり１８（図９）が生じにくい。
【００６０】
なお、下板部２３（開口部２５以外の部分２６）の上には塵埃３が堆積するため、その堆積状況に応じて、真空掃除機等により除去することが好ましい。
【００６１】
以上説明したように、本発明の第２の実施の形態によれば、棚板２１を、何れも開口部を有する上板部２２と下板部２３とで構成し、上板部２２と下板部２３とを、互いの開口部２４，２５の位置がずれるように配置したため、運搬容器１の取り扱い時に発生した塵埃３、または他のエリアから運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃３を、下板部２３の開口部２５以外の部分２６で捕捉することができる。これにより、下段の運搬容器１への塵埃３の付着を防止し、製品不良の低減に資することができる。
【００６２】
なお、ここでは、上板部２２および下板部２３が、円形の開口部２４，２５を有する場合について説明したが、上板部２２および下板部２３の開口部の位置が互いにずれていれば、例えばスリット状の開口部であってもよい。
【００６３】
変形例．
図１２は、第２の実施の形態の変形例に係る棚２０Ａを示す斜視図である。この変形例の棚２０Ａでは、下板部２３の開口部２５の周囲に、塵埃飛散防止用の縁２８が形成されている。また、下板部２３の外周縁に沿って、縁２９が形成されている。縁２８，２９の高さは、例えば１ｍｍ程度である。このように縁２８，２９を形成することにより、下板部２３の開口部２５以外の部分２６上に留まった塵埃３が、気流の影響により飛散して開口部２５から落下し、下段に置かれた運搬容器１に付着することが防止される。
【００６４】
第３の実施の形態．
図１３は、第３の実施の形態における棚３０を示す斜視図である。第３の実施の形態における棚３０は、第１の実施の形態で説明した粘着マットと、第２の実施の形態で説明した構成とを組み合わせたものである。
【００６５】
棚３０は、製品を収納した運搬容器１を載置するための棚板３１を備えている。ここでは、上下に２段の棚板３１を備えているが、段数は任意であり、１段であってもよい。各棚板３１は、上板部３２と下板部３３とで構成されている。また、各棚板３１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱３７によって支持されている。
【００６６】
上板部３２は、板状部材の全面に亘って円形の開口部３４を形成したパンチング棚板で形成されており、運搬容器１を支持するのに十分な強度を有している。
【００６７】
一方、下板部３３は、板状部材の全面に亘って円形の開口部を形成したパンチング棚板（支持板３８）の表面に、粘着マット３５（塵埃捕捉部）を取り付けたものである。粘着マット３５は、第１の実施の形態で説明した粘着マット１５（図９）とほぼ同様であるが、粘着マット３５の全面に亘って開口部３６が形成されている点が異なる。粘着マット３５の開口部３６は、支持板３８の開口部と同じ形状、同じ大きさで、なお且つ互いに重なり合うように形成されている。
【００６８】
粘着マット３５の開口部３６は、上板部３２の開口部３４に対してずれた位置に形成されている。上板部３３と下板部３４の開口部３４，３６の関係は、第２の実施の形態における上板部２２と下板部２３の開口部２４，２５の関係と同様である。他の構成は、第２の実施の形態において説明したとおりである。
【００６９】
本実施の形態では、運搬容器１の取り扱い時に発生した塵埃３や、運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃３が、上板部３２の開口部３４から落下すると、下板部３３の粘着マット３５によって捕捉されるため、下段の運搬容器１に塵埃３が降りかかることが防止される。加えて、粘着マット３５の粘着力により塵埃３を捕捉することで、塵埃３の飛散防止効果をさらに向上することができる。
【００７０】
また、上板部３２および下板部３３が、開口部３４，３６を有するため、気流溜まり１８（図９）が生じにくい。さらに、仮に気流溜まり１８（図９）が生じても、粘着マット３５により塵埃３を捕捉できるため、運搬容器１や製品２への付着を防止することができる。
【００７１】
なお、ここでは、上板部３２および下板部３３が、円形の開口部３４，３６を有する場合について説明したが、上板部３２および下板部３３の開口部の位置が互いにずれていれば、例えばスリット状の開口部であってもよい。
【００７２】
上述した実施の形態１〜３では、製品２を収納した運搬容器１を保管するための棚１０，２０，２０Ａ，３０について説明したが、本発明は、製品の組み立て等を行う作業台に適用することもできる。この場合には、作業台の作業面（上面）をなす部分を、各実施の形態で説明した上板部と下板部で構成すればよい。なお、本明細書では、作業台も含む概念として「棚」という語を使用している。
【００７３】
また、上述した実施の形態１〜３は、半導体の製造プロセスに限らず、例えば、液晶やプラズマディスプレイなどの電子部品の製造プロセスにも適用することができる。
【符号の説明】
【００７４】
１ 運搬容器、 １Ａ 蓋、 ２ 製品、 ３ 塵埃、 １０ 棚、 １１ 棚板、 １２ 上板部、 １２ａ 開口部、 １３ 下板部、 １４ 支持板、 １５ 粘着マット（塵埃捕捉部）、 １７ 支柱、 １８ 気流溜まり、 ２０，２０Ａ 棚、 ２１ 棚板、 ２２ 上板部、 ２３ 下板部、 ２４，２５ 開口部、 ２６ 開口部以外の部分（塵埃捕捉部）、 ２７ 支柱、 ２８，２９ 縁、 ３０ 棚、 ３１ 棚板、 ３２ 上板部、 ３３ 下板部、 ３４，３６ 開口部、 ３５ 粘着マット（塵埃捕捉部）、 ３７ 支柱、 ３８ 支持板、 １０１ グレーチング、 １０２ プレフィルタ、 １０３ 台車、 １０４ 気流。
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体の製造プロセスなど、クリーンルームで行われる製造プロセスで使用される棚およびその棚板、並びに、棚に運搬容器を載置する際に発生する（または他のエリアから持ち込まれる）塵埃を捕捉する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、半導体製品（例えばウエハ）などの電子部品の製造は、空気清浄度が管理されたクリーンルーム内で行われる。
【０００３】
クリーンルーム内では、製品を収納する運搬容器（例えばウエハキャリア）を保管するため、棚（作業台も含む）が用いられる。棚は、例えば複数段の棚板を備えており、その棚板の上に運搬容器が載置される。
【０００４】
ここで、運搬容器の外側に塵埃が付着すると、運搬容器の蓋を開けた際に、製品に塵埃が付着する可能性がある。例えばウエハに塵埃が付着すると、塵埃がマスクとなって回路パターンの形成不良や配線間のショートを生じ、また、塵埃上に絶縁膜が形成されることにより絶縁膜の膜厚の不均一を生じ、また、真空下で塵埃からアウトガスが発生することにより配線膜の変色を生じるなど、さまざまな製品不良につながる可能性がある。
【０００５】
塵埃を除去するため、運搬容器を自動洗浄するコンテナ洗浄部を設けた保管棚が提案されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平５−２０１５０６号公報（段落００３５〜００３９、図１参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記の従来技術では、運搬容器の自動洗浄のための大掛かりなシステムが必要になるため、導入コストが高く、製造コストの上昇の原因となる。
【０００８】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、製品への塵埃の付着を抑制することが可能な棚、棚板、および塵埃の捕捉方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る棚は、クリーンルームで用いられる棚であって、少なくとも１段の棚板を備え、各棚板が、所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部と下板部とを有し、上板部は、空気を通過させる複数の開口部を有し、下板部は、少なくとも上板部の複数の開口部に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部を有することを特徴とする。
【００１０】
また、本発明に係る棚板は、クリーンルームで用いられる棚の少なくとも１段を構成する棚板であって、所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部と下板部とを有し、上板部は、空気を通過させる複数の開口部を有し、下板部は、少なくとも上板部の複数の開口部に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部を有することを特徴とする。
【００１１】
また、本発明に係る塵埃の捕捉方法は、クリーンルームにおいて、少なくとも１段の棚板を有する棚であって、各棚板が、所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部と下板部とを有し、上板部が、空気を通過させる複数の開口部を有し、下板部が、少なくとも上板部の複数の開口部に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部を有する棚を用い、棚板に、製品を収納した運搬容器を載置し、塵埃捕捉部により、運搬容器から落下した塵埃を捕捉することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、下板部の塵埃捕捉部によって塵埃を捕捉することができるため、運搬容器に塵埃が付着することを防止できる。そのため、運搬容器から更に製品に塵埃が付着することを防止し、製品不良の発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】第１の関連技術における棚の構成を示す斜視図である。
【図２】第２の関連技術における棚の構成を示す斜視図である。
【図３】第３の関連技術における棚の構成を示す斜視図である。
【図４】第４の関連技術における棚の構成を示す斜視図である。
【図５】図１に示した棚の使用状態を示す斜視図である。
【図６】運搬容器に付着した塵埃が製品に付着する様子を示す斜視図である。
【図７】運用容器と棚板との接触による発塵を抑制するための構成を示す斜視図である。
【図８】運用容器と棚板との接触による発塵を抑制するための構成を示す斜視図である。
【図９】本発明の第１の実施の形態における棚の構成を示す図である。
【図１０】本発明の第２の実施の形態における棚の構成を示す斜視図である。
【図１１】本発明の第２の実施の形態における上板部と下板部との組み合わせを説明するための模式図である。
【図１２】本発明の第２の実施の形態の変形例を示す斜視図である。
【図１３】本発明の第３の実施の形態における棚の構成を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の各実施の形態について説明する前に、本発明の前提となる関連技術について説明する。これらの関連技術は、半導体製造プロセスなど、クリーンルームで行われる製造プロセスで用いられる棚に関する。
【００１５】
図１は、第１の関連技術における棚４０の構成を示す斜視図である。図１に示す棚４０は、少なくとも１段（ここでは３段）のメッシュ棚板４１を備えている。各メッシュ棚板４１は、複数の棒状部材４２を柵状（または網状）に組み合わせたものであり、隣り合う棒状部材４２の間にスリット状の開口部４３が形成されている。メッシュ棚板４１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱４５により支持されている。
【００１６】
図２は、第２の関連技術における棚５０の構成を示す斜視図である。図２に示す棚５０は、少なくとも１段（ここでは３段）のスノコ棚板５１を備えている。各スノコ棚板５１は、板状部材５２の全面に亘って、互いに平行な複数のスリット状の開口部５３を形成したものである。スノコ棚板５１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱５５により支持されている。
【００１７】
図３は、第３の関連技術における棚６０の構成を示す斜視図である。図３に示す棚６０は、少なくとも１段（ここでは２段）のパンチング棚板６１を備えている。各パンチング棚板６１は、板状部材６２の全面に亘って、例えば円形の開口部６３を形成したものである。パンチング棚板６１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱６５により支持されている。
【００１８】
図４は、第４の関連技術における棚７０の構成を示す斜視図である。図４に示す棚７０は、少なくとも１段（ここでは３段）のベタ棚板７１を備えている。各ベタ棚板７１は、板状部材に開口部を形成していないものである。ベタ棚板７１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱７５により支持されている。図１〜図４に示した棚板４１，５１，６１，７１は、いずれもステンレスで形成されている。
【００１９】
半導体製造が行われるクリーンルームでは、フィルタを通過させた清浄な空気（クリーンエア）を、必要なエリアにダウンフロー（Ｆ）として供給しているため、図４に示すようなベタ棚板７１を使用した棚７０では、ベタ棚板７１の上側に気流溜まり７２が生じ、ベタ棚板７１の下側には気流の巻き込み７３が生じる。これに対し、図１〜３に示した棚４０，５０，６０は、空気を通過させる開口部４３，５３，６３を有しているため、気流溜まりが生じにくいという利点がある。
【００２０】
図５は、図１に示した棚４０の使用状態を示す図である。ここでは、棚４０の棚板４１上に、製品（例えばウエハ）を収容した運搬容器１（例えばウエハキャリア）を載置して保管している。棚板４１には開口部４３が多数形成されているため、上段から下段にダウンフローＦの空気が流れる。
【００２１】
そのため、作業者が運搬容器１を棚板４１上に載置する際には、運搬容器１と棚板４１との接触により発生する塵埃、および作業者自身が発生する塵埃（以下、これらをまとめて、運搬容器１の取り扱い時に発生する塵埃と称する）、並びに他のエリアから運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃（いずれも符号３で示す）が、棚板４１の開口部４３を通過して、符号８１で示すように下段の棚板４１上の運搬容器１に降りかかる可能性がある。
【００２２】
また、取り扱い中の運搬容器１の真下に他の運搬容器１が無い場合でも、運搬容器１の取り扱い時に発生した塵埃３や、他のエリアから運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃３は、クリーンルームの床（グレーチング１０１）等に設置されているプレフィルタ１０２で捕捉されるまでの間は、クリーンルーム内で漂い、作業者や台車１０３などの移動に伴う気流の乱れ１０４によって巻き上がるため、符号８２で示すように、運搬容器１に付着する可能性がある。
【００２３】
ここでは、図１の棚４０について説明したが、図２および図３の棚５０，６０についても、同様のことが言える。
【００２４】
このようにして運搬容器１に付着した塵埃３は、図６に模式的に示すように、運搬容器１の蓋１Ａを開けた際に、運搬容器１内の製品２（ウエハ）に付着する可能性がある。製品２に塵埃３が付着すると、後工程において、塵埃３がマスクとなって回路パターンの形成不良や配線間のショートを生じ、また、塵埃３上に絶縁膜が形成されることにより絶縁膜の膜厚の不均一を生じ、また、真空下で塵埃３からアウトガスが発生することにより配線膜の変色を生じるなど、さまざま製品不良につながる可能性がある。
【００２５】
図７および図８は、運用容器１と棚板との接触による発塵を抑制するための構成を示す。図７に示す構成は、図４に示した棚７０の棚板７１上に、運搬容器１との接触により発塵を生じにくい材質で形成された板（またはシート）７６を敷いたものである。
【００２６】
図８に示す構成は、図１に示した棚４０のメッシュ棚板４１に、運搬容器１との接触面積を少なくして発塵量を減少させるためのコマ４６を置いたものである。コマ４６は、例えば、運搬容器１の下面の４隅に配置される。
【００２７】
また、棚板の上に溜まった塵埃３を、ワイパーやセントラルクリーナ方式（屋外排気）の真空掃除機などを使用して定期的に除去することも考えられる。
【００２８】
このような構成（図７，８）は、運搬容器１と棚板４１，７１との接触による発塵量を減少させることはできるが、塵埃３の発生自体を防止することはできない。また、棚板上に溜まった塵埃３を真空掃除機などで除去したとしても、塵埃３のない清浄な状態を維持することは難しい。そのため、塵埃３が製品２に付着することによる上述した各問題を解消するには至らない。
【００２９】
以上を踏まえ、本発明の各実施の形態について、以下に説明する。
【００３０】
第１の実施の形態．
図９は、本発明の第１の実施の形態における棚１０を示す斜視図である。図９に示す棚１０は、製品を収納した運搬容器１を載置するための棚板１１を備えている。ここでは、上下に３段の棚板１１を備えているが、段数は任意であり、１段であってもよい。各棚板１１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱１７によって支持されている。各棚板１１は、所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部１２と下板部１３とを有している。
【００３１】
上板部１２は、ここでは、複数の棒状部材１２ｂを組み合わせたメッシュ棚板とする。メッシュ棚板１２の隣り合う棒状部材１２ｂの間に、スリット状の開口部１２ａが形成される。但し、メッシュ棚板の代わりに、スリット状の開口部を有するスノコ棚板や（図２参照）、円形の開口部を有するパンチング棚板（図３参照）などを用いてもよい。
【００３２】
上板部１２は、その上に、所定の数（図９の例では３個）の運搬容器１を保持するものである。そのため、上板部１２は、運搬容器１を支持するのに十分な強度を有し、なお且つ、運搬容器１との接触による発塵ができるだけ少ない材質で構成される。
【００３３】
運搬容器１の材質がポリプロピレンである場合、上板部１２をポリテトラフルオロエチレン（テフロン：登録商標）で構成すると、運搬容器１と上板部１２との接触による発塵は殆ど発生しないが、静電対策を施す必要がある。一方、上板部１２を運搬容器１と同様の静電対策品のポリプロピレンで構成すると、テフロンで構成した場合より発塵はあるが、接触による帯電が生じにくい。また、発塵抑制の観点から、上板部１２は、運搬容器１との接触部の面粗さが滑らかで、角がない形状であることが好ましい。
【００３４】
一方、下板部１３は、支持板１４の表面に、塵埃３を捕捉するための粘着マット１５（塵埃捕捉部）を設けたものである。支持板１４は、粘着マット１５を支持する強度を有するものであれば、ベタ棚板であってもよく、また、メッシュ棚板、スノコ棚板、あるいはパンチング棚板であってもよい。なお、支持板を使用しない場合には、板部１２の裏側に直接粘着マットを貼り付けてもよい。
【００３５】
粘着マット１５は、塵埃３を効果的に捕捉できるよう、例えば１８０ｇｆ／２５ｍｍ±４０ｇ程度の粘着力を有することが好ましい。また、運搬容器１に静電気の影響を及ぼさないように、粘着マット１５の表面抵抗が例えば１０９〜１０１０Ω程度であることが好ましい。このような粘着マット１５としては、例えば、一般にクリーンルームの床などに敷いて用いられる静電対策用の粘着マットを利用することができる。
【００３６】
具体的には、粘着マット１５は、例えば、ポリエチレンフィルムに水系の接着剤（２エチルヘキシル・アクリル酸塩３０％、ブチル・アクリル酸塩９％、酢酸ビニル３％および水）を塗布したものを、複数層（例えば３０〜４０層）重ね合わせたものを用いることができる。各フィルム（すなわち１層分）の厚さは、例えば５０μｍである。
【００３７】
このような粘着マット１５はフィルムを一枚ずつ剥がすことができるため、塵埃３の堆積状況に応じて、最上層のフィルムを剥がし、新しいフィルムを露出させて使用することができる。
【００３８】
粘着マット１５は、最下層のフィルムが両面に粘着性を有しており、下面の保護フィルムを剥がすことで、支持板１４上に固定することができる。なお、粘着マット１５の３０〜４０層を数枚ずつに分けて使用する場合には、両面テープやセロファンテープを用いて支持板１４に固定してもよい。あるいは、エラストマー樹脂などの両面接着シートを用いれば、同じ両面接着シートを繰り返し利用することができる。
【００３９】
なお、粘着マット１５は、塵埃３を捕捉できるものであればよく、上記の静電対策用の粘着マットに限定されるものではない。また、接着剤として、例えばトルエンを使用しているものであってもよい。
【００４０】
上板部１２と下板部１３の間隔Ｇは、短い方が好ましい。塵埃３が浮遊してから粘着マット１５で捕捉するまでの時間が短くなり、気流の乱れの影響を受けにくくなるためである。
【００４１】
図９に示す例では、粘着マット１５を、下板部１３の支持板１４上に前方（矢印Ａで示す方向）から挿入するが、この場合には、上板部１２と下板部１３との間隔Ｇは、例えば３ｃｍ程度が好ましい。一方、下板部１３の支持板１４が棚１０から引き出し可能に構成されている場合には、支持板１４を引き出した状態で粘着マット１５を取り付けることができるため、間隔Ｇは３ｃｍよりも狭くてもよい。
【００４２】
棚１０が配置されるクリーンルームでは、例えば風速０．３ｍ／秒のダウンフロー（Ｆ）が形成されており、塵埃３を落下させて、クリーンルームの床に配設されたプレフィルタ１０２（図５）で捕捉するようになっている。
【００４３】
そのため、作業者が運搬容器１を棚板１１の上板部１２に載置する際に、運搬容器１と上板部１２との接触により発生する塵埃３、および作業者自身が発生する塵埃３（これらをまとめて、運搬容器１の取り扱い時に発生する塵埃と称する）、並びに他のエリアから運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃３が落下する。しかしながら、本実施の形態では、上板部１２の開口部１２ａから落下した塵埃３は、下板部１３の粘着マット１５の表面に捕捉される。そのため、下段の運搬容器１に塵埃３が降りかかることが防止される。
【００４４】
また、粘着マット１５に捕捉された塵埃３は、粘着マット１５の粘着力により移動しにくいため、作業者や台車１０３（図５）などの移動に伴う気流の乱れ１０４（図５）の影響を受ける塵埃３は、運搬容器１から落下してから粘着マット１５に捕捉されるまでの僅かな量の塵埃３（すなわち間隔Ｇの区間を落下している塵埃３）のみである。そのため、気流の乱れによって塵埃３が運搬容器１や製品２に付着する可能性が大幅に低減する。
【００４５】
このように運搬容器１への塵埃３の付着を防止することができるため、運搬容器１に付着した塵埃３が更に製品２に付着して生じる製品不良（回路パターンの形成不良、配線間のショート、絶縁膜厚の不均一等）を防止することができる。
【００４６】
なお、粘着マット１５上に塵埃３が堆積すると、その塵埃３の上に落下した塵埃３は粘着マット１５で捕捉されずに飛散する可能性があるため、定期的に粘着マット１５の最上層のフィルムを剥がし、次のフィルムを露出させる必要がある。このメンテナンス周期は、使用する環境（発塵量）や、粘着マット１５上の塵埃３の付着状況に応じて決定する。
【００４７】
また、粘着マット１５は空気を通過させないため、粘着マット１５の上下に気流溜まり１８が発生する可能性があるが、塵埃３は粘着マット１５に捕捉されるため、気流溜まりによって塵埃３が浮遊することが防止される。
【００４８】
また、作業時に発生する塵埃３は、通常は感知（例えば視認）できないが、粘着マット１５を設けることにより、付着した塵埃３が視認できるようになる。そのため、「塵埃の見える化」が可能になり、作業者の発塵に対する認識を向上させることができる。また、通常状態での塵埃の付着量を把握することで、これよりも多い量の塵埃の付着が見られた場合に、何らかの異常の可能性を検知することができる。また、粘着マット１５に捕捉された塵埃３は、発塵の対策や改善のための調査用サンプルとして活用することができる。
【００４９】
以上説明したように、本発明の第１の実施の形態によれば、棚板１１を、上板部１２と下板部１３とで構成すると共に、上板部１２に空気を通過させる開口部１２ａを設け、下板部１３に粘着マット１５（塵埃保持部）を設けたため、運搬容器１の取り扱い時に発生した塵埃３や、他のエリアから運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃３を、粘着マット１５で捕捉することができる。その結果、運搬容器１（および運搬容器１に収納された製品２）への塵埃３の付着を防止することができ、製品不良の低減に資することができる。
【００５０】
なお、ここでは、塵埃３を捕捉するために粘着マット１５を用いたが、粘着マット１５に限らず、塵埃３を吸着等により捕捉できるものであればよい。
【００５１】
また、ここでは、下板部１３の全面に粘着マット１５を設けたが、下板部１３のうち、上板部１２の開口部１２ａに対向する部分にのみ部分的に粘着マット１５を設けてもよい。このような構成であっても、上板部１２の開口部１２ａから落下した塵埃３を捕捉することができる。
【００５２】
また、粘着マット１５の代わりに、プレフィルタのように、空気を通過させて塵埃３を捕捉する構造を有するものを用いてもよい。風速０．３ｍ／秒のダウンフローにより落下する塵埃３を捕捉する場合、プレフィルタは、例えば孔径が数十μｍ〜数百μｍの細孔を有し、５ｍｍ程度の厚みを有していればよい。プレフィルタは、塵埃３を捕捉することができるだけでなく、空気を通過させるため、気流溜まり１８（図９）が生じにくいという利点がある。
【００５３】
第２の実施の形態．
図１０は、本発明の第２の実施形態における棚２０を示す斜視図である。棚２０は、製品を収納した運搬容器１を載置するための棚板２１を備えている。ここでは、上下に２段の棚板２１を備えているが、段数は任意であり、１段であってもよい。各棚板２１は、上板部２２と下板部２３とで構成されている。また、各棚板２１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱２７によって支持されている。
【００５４】
上板部２２は、板状部材の全面に亘って、例えば円形の開口部２４を形成したパンチング棚板で形成されており、運搬容器１を支持するのに十分な強度を有している。一方、下板部２３も、板状部材の全面に亘って、例えば円形の開口部２５を形成したパンチング棚板で形成されている。但し、下板部２３の開口部２５は、上板部２２の開口部２４に対してずれた位置に形成されている。そのため、上板部２２の開口部２４から落下した塵埃３は、下板部２３の開口部２５以外の部分２６に当接して、そこに留まる。この下板部２３の開口部２５以外の部分２６（上板部２２の開口部２３に対向する部分）が、第２の実施の形態における塵埃捕捉部を構成する。
【００５５】
図１１は、上板部２２と下板部２３との組み合わせを説明するための模式図である。上板部２２および下板部２３は、図１１（Ａ）に示すように、互いに同じ直径の開口部２４，２５を同じ配列パターンで形成したものである。例えば、上板部２２を、下板部２３に対して相対的に１８０度回転させることにより、図１１（Ｃ）に示すように、上板部２２の開口部２４の位置と下板部２３の開口部２５の位置とがずれた配置が得られる。
【００５６】
ここでは、上板部２２および下板部２３の開口部２４，２５の直径（内径）を５ｍｍとし、配列ピッチを１３ｍｍとする。なお、開口部２４，２５の直径や配列ピッチがこれらに限定されないことは言うまでもない。
【００５７】
上板部２２と下板部２３とを同じ構成にすることで、棚板２１を効率よく製造することができるため、棚２０の製造コストを低減することができる。他の構成は、第１の実施の形態で説明したとおりである。
【００５８】
本実施の形態では、図１０に示すように、運搬容器１の取り扱い時に発生する塵埃３や、他のエリアから運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃３が、上板部２２の開口部２４から落下すると、下板部２３の開口部２５以外の部分２６に当接して、そこに留まる。そのため、下段の棚板２１に置かれた運搬容器１に塵埃３が降りかかることが防止される。
【００５９】
また、上板部２２および下板部２３が、空気を通過させる開口部２４，２５を有しているため、気流溜まり１８（図９）が生じにくい。
【００６０】
なお、下板部２３（開口部２５以外の部分２６）の上には塵埃３が堆積するため、その堆積状況に応じて、真空掃除機等により除去することが好ましい。
【００６１】
以上説明したように、本発明の第２の実施の形態によれば、棚板２１を、何れも開口部を有する上板部２２と下板部２３とで構成し、上板部２２と下板部２３とを、互いの開口部２４，２５の位置がずれるように配置したため、運搬容器１の取り扱い時に発生した塵埃３、または他のエリアから運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃３を、下板部２３の開口部２５以外の部分２６で捕捉することができる。これにより、下段の運搬容器１への塵埃３の付着を防止し、製品不良の低減に資することができる。
【００６２】
なお、ここでは、上板部２２および下板部２３が、円形の開口部２４，２５を有する場合について説明したが、上板部２２および下板部２３の開口部の位置が互いにずれていれば、例えばスリット状の開口部であってもよい。
【００６３】
変形例．
図１２は、第２の実施の形態の変形例に係る棚２０Ａを示す斜視図である。この変形例の棚２０Ａでは、下板部２３の開口部２５の周囲に、塵埃飛散防止用の縁２８が形成されている。また、下板部２３の外周縁に沿って、縁２９が形成されている。縁２８，２９の高さは、例えば１ｍｍ程度である。このように縁２８，２９を形成することにより、下板部２３の開口部２５以外の部分２６上に留まった塵埃３が、気流の影響により飛散して開口部２５から落下し、下段に置かれた運搬容器１に付着することが防止される。
【００６４】
第３の実施の形態．
図１３は、第３の実施の形態における棚３０を示す斜視図である。第３の実施の形態における棚３０は、第１の実施の形態で説明した粘着マットと、第２の実施の形態で説明した構成とを組み合わせたものである。
【００６５】
棚３０は、製品を収納した運搬容器１を載置するための棚板３１を備えている。ここでは、上下に２段の棚板３１を備えているが、段数は任意であり、１段であってもよい。各棚板３１は、上板部３２と下板部３３とで構成されている。また、各棚板３１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱３７によって支持されている。
【００６６】
上板部３２は、板状部材の全面に亘って円形の開口部３４を形成したパンチング棚板で形成されており、運搬容器１を支持するのに十分な強度を有している。
【００６７】
一方、下板部３３は、板状部材の全面に亘って円形の開口部を形成したパンチング棚板（支持板３８）の表面に、粘着マット３５（塵埃捕捉部）を取り付けたものである。粘着マット３５は、第１の実施の形態で説明した粘着マット１５（図９）とほぼ同様であるが、粘着マット３５の全面に亘って開口部３６が形成されている点が異なる。粘着マット３５の開口部３６は、支持板３８の開口部と同じ形状、同じ大きさで、なお且つ互いに重なり合うように形成されている。
【００６８】
粘着マット３５の開口部３６は、上板部３２の開口部３４に対してずれた位置に形成されている。上板部３３と下板部３４の開口部３４，３６の関係は、第２の実施の形態における上板部２２と下板部２３の開口部２４，２５の関係と同様である。他の構成は、第２の実施の形態において説明したとおりである。
【００６９】
本実施の形態では、運搬容器１の取り扱い時に発生した塵埃３や、運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃３が、上板部３２の開口部３４から落下すると、下板部３３の粘着マット３５によって捕捉されるため、下段の運搬容器１に塵埃３が降りかかることが防止される。加えて、粘着マット３５の粘着力により塵埃３を捕捉することで、塵埃３の飛散防止効果をさらに向上することができる。
【００７０】
また、上板部３２および下板部３３が、開口部３４，３６を有するため、気流溜まり１８（図９）が生じにくい。さらに、仮に気流溜まり１８（図９）が生じても、粘着マット３５により塵埃３を捕捉できるため、運搬容器１や製品２への付着を防止することができる。
【００７１】
なお、ここでは、上板部３２および下板部３３が、円形の開口部３４，３６を有する場合について説明したが、上板部３２および下板部３３の開口部の位置が互いにずれていれば、例えばスリット状の開口部であってもよい。
【００７２】
上述した実施の形態１〜３では、製品２を収納した運搬容器１を保管するための棚１０，２０，２０Ａ，３０について説明したが、本発明は、製品の組み立て等を行う作業台に適用することもできる。この場合には、作業台の作業面（上面）をなす部分を、各実施の形態で説明した上板部と下板部で構成すればよい。なお、本明細書では、作業台も含む概念として「棚」という語を使用している。
【００７３】
また、上述した実施の形態１〜３は、半導体の製造プロセスに限らず、例えば、液晶やプラズマディスプレイなどの電子部品の製造プロセスにも適用することができる。
【符号の説明】
【００７４】
１ 運搬容器、 １Ａ 蓋、 ２ 製品、 ３ 塵埃、 １０ 棚、 １１ 棚板、 １２ 上板部、 １２ａ 開口部、 １３ 下板部、 １４ 支持板、 １５ 粘着マット（塵埃捕捉部）、 １７ 支柱、 １８ 気流溜まり、 ２０，２０Ａ 棚、 ２１ 棚板、 ２２ 上板部、 ２３ 下板部、 ２４，２５ 開口部、 ２６ 開口部以外の部分（塵埃捕捉部）、 ２７ 支柱、 ２８，２９ 縁、 ３０ 棚、 ３１ 棚板、 ３２ 上板部、 ３３ 下板部、 ３４，３６ 開口部、 ３５ 粘着マット（塵埃捕捉部）、 ３７ 支柱、 ３８ 支持板、 １０１ グレーチング、 １０２ プレフィルタ、 １０３ 台車、 １０４ 気流。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クリーンルームで用いられる棚であって、
少なくとも１段の棚板を備え、
各棚板が、所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部と下板部とを有し、
前記上板部は、空気を通過させる複数の開口部を有し、
前記下板部は、少なくとも前記上板部の前記複数の開口部に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部を有すること
を特徴とする棚。
【請求項２】
前記棚は、半導体製造プロセスにおいて、製品を収容した運搬容器の保管に用いられることを特徴とする請求項１に記載の棚。
【請求項３】
前記塵埃捕捉部は、粘着性を有する部材であることを特徴とする請求項１または２に記載の棚。
【請求項４】
前記粘着性を有する部材は、粘着マットであることを特徴とする請求項３に記載の棚。
【請求項５】
前記粘着マットは、剥離可能な複数層のフィルムを重ね合わせて構成されていることを特徴とする請求項４に記載の棚。
【請求項６】
前記塵埃捕捉部は、空気は通過させるが、塵埃を捕捉する構造を有する部材であることを特徴とする請求項１または２に記載の棚。
【請求項７】
前記塵埃捕捉部は、プレフィルタであることを特徴とする請求項６に記載の棚。
【請求項８】
前記下板部は、前記上板部の複数の開口部と重なり合わない位置に形成された複数の開口部を有し、
前記下板部の前記複数の開口部以外の部分が、前記塵埃捕捉部を構成することを特徴とする請求項１から７までのいずれか１項に記載の棚。
【請求項９】
前記上板部および前記下板部は、互いに同一のパターンで配列された複数の開口部を有する２つの板状部材を、相対的に１８０度回転させて配置したものであることを特徴とする請求項８に記載の棚。
【請求項１０】
前記下板部の前記複数の開口部のそれぞれの周囲に、所定の高さの縁部を設けたことを特徴とする請求項８または９に記載の棚。
【請求項１１】
クリーンルームで用いられる棚の少なくとも１段を構成する棚板であって、
所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部と下板部とを有し、
前記上板部は、空気を通過させる複数の開口部を有し、
前記下板部は、少なくとも前記上板部の前記複数の開口部に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部を有すること
を特徴とする棚板。
【請求項１２】
前記棚板は、半導体製造プロセスにおいて、製品を収容した運搬容器の保管に用いられることを特徴とする請求項１１に記載の棚板。
【請求項１３】
前記塵埃捕捉部は、粘着性を有する部材であることを特徴とする請求項１１または１２に記載の棚板。
【請求項１４】
前記粘着性を有する部材は、粘着マットであることを特徴とする請求項１３に記載の棚板。
【請求項１５】
前記粘着マットは、剥離可能な複数層のフィルムを重ね合わせて構成されていることを特徴とする請求項１４に記載の棚板。
【請求項１６】
前記塵埃捕捉部は、空気は通過させるが、塵埃を捕捉する構造を有する部材であることを特徴とする請求項１１または１２に記載の棚板。
【請求項１７】
前記塵埃捕捉部は、プレフィルタであることを特徴とする請求項１６に記載の棚板。
【請求項１８】
前記下板部は、前記上板部の複数の開口部と重なり合わない位置に形成された複数の開口部を有し、
前記下板部の前記複数の開口部以外の部分が、前記塵埃捕捉部を構成することを特徴とする請求項１１から１７までのいずれか１項に記載の棚板。
【請求項１９】
前記上板部および前記下板部は、互いに同一のパターンで配列された複数の開口部を有する２つの板状部材を、相対的に１８０度回転させて配置したものであることを特徴とする請求項１８に記載の棚板。
【請求項２０】
前記下板部の前記複数の開口部のそれぞれの周囲に、所定の高さの縁部を設けたことを特徴とする請求項１８または１９に記載の棚板。
【請求項２１】
クリーンルームにおいて、
少なくとも１段の棚板を有する棚であって、各棚板が、所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部と下板部とを有し、前記上板部が、空気を通過させる複数の開口部を有し、前記下板部が、少なくとも前記上板部の前記複数の開口部に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部を有する棚を用い、
前記棚板に、製品を収納した運搬容器を載置し、
前記塵埃捕捉部により、前記運搬容器から落下した塵埃を捕捉すること
を特徴とする塵埃の捕捉方法。
【請求項２２】
前記塵埃の捕捉方法は、半導体製造プロセスにおいて行われることを特徴とする塵埃の請求項２１に記載の塵埃の捕捉方法。
【請求項２３】
前記塵埃捕捉部として、粘着性を有する部材を用いることを特徴とする請求項２１または２２に記載の塵埃の捕捉方法。
【請求項２４】
前記粘着性を有する部材として、粘着マットを用いることを特徴とする請求項２３に記載の塵埃の捕捉方法。
【請求項２５】
前記粘着マットとして、剥離可能な複数層のフィルムを重ね合わせたものを用いることを特徴とする請求項２４に記載の塵埃の捕捉方法。
【請求項２６】
前記塵埃捕捉部として、空気は通過させるが、塵埃を捕捉する構造を有する部材を用いることを特徴とする請求項２１または２２に記載の塵埃の捕捉方法。
【請求項２７】
前記塵埃捕捉部として、プレフィルタを用いることを特徴とする請求項２６に記載の塵埃の捕捉方法。
【請求項２８】
前記下板部は、前記上板部の複数の開口部と重なり合わない位置に形成された複数の開口部を有し、
前記下板部の前記複数の開口部以外の部分が、前記塵埃捕捉部を構成することを特徴とする請求項２１から２７までのいずれか１項に記載の塵埃の捕捉方法。
【請求項２９】
前記上板部および前記下板部は、互いに同一のパターンで配列された複数の開口部を有する２つの板状部材を、相対的に１８０度回転させて配置したものであることを特徴とする請求項２８に記載の塵埃の捕捉方法。
【請求項３０】
前記下板部の前記複数の開口部のそれぞれの周囲に、所定の高さの縁部を設けたことを特徴とする請求項２８または２９に記載の塵埃の捕捉方法。
【請求項１】
クリーンルームで用いられる棚であって、
少なくとも１段の棚板を備え、
各棚板が、所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部と下板部とを有し、
前記上板部は、空気を通過させる複数の開口部を有し、
前記下板部は、少なくとも前記上板部の前記複数の開口部に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部を有すること
を特徴とする棚。
【請求項２】
前記棚は、半導体製造プロセスにおいて、製品を収容した運搬容器の保管に用いられることを特徴とする請求項１に記載の棚。
【請求項３】
前記塵埃捕捉部は、粘着性を有する部材であることを特徴とする請求項１または２に記載の棚。
【請求項４】
前記粘着性を有する部材は、粘着マットであることを特徴とする請求項３に記載の棚。
【請求項５】
前記粘着マットは、剥離可能な複数層のフィルムを重ね合わせて構成されていることを特徴とする請求項４に記載の棚。
【請求項６】
前記塵埃捕捉部は、空気は通過させるが、塵埃を捕捉する構造を有する部材であることを特徴とする請求項１または２に記載の棚。
【請求項７】
前記塵埃捕捉部は、プレフィルタであることを特徴とする請求項６に記載の棚。
【請求項８】
前記下板部は、前記上板部の複数の開口部と重なり合わない位置に形成された複数の開口部を有し、
前記下板部の前記複数の開口部以外の部分が、前記塵埃捕捉部を構成することを特徴とする請求項１から７までのいずれか１項に記載の棚。
【請求項９】
前記上板部および前記下板部は、互いに同一のパターンで配列された複数の開口部を有する２つの板状部材を、相対的に１８０度回転させて配置したものであることを特徴とする請求項８に記載の棚。
【請求項１０】
前記下板部の前記複数の開口部のそれぞれの周囲に、所定の高さの縁部を設けたことを特徴とする請求項８または９に記載の棚。
【請求項１１】
クリーンルームで用いられる棚の少なくとも１段を構成する棚板であって、
所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部と下板部とを有し、
前記上板部は、空気を通過させる複数の開口部を有し、
前記下板部は、少なくとも前記上板部の前記複数の開口部に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部を有すること
を特徴とする棚板。
【請求項１２】
前記棚板は、半導体製造プロセスにおいて、製品を収容した運搬容器の保管に用いられることを特徴とする請求項１１に記載の棚板。
【請求項１３】
前記塵埃捕捉部は、粘着性を有する部材であることを特徴とする請求項１１または１２に記載の棚板。
【請求項１４】
前記粘着性を有する部材は、粘着マットであることを特徴とする請求項１３に記載の棚板。
【請求項１５】
前記粘着マットは、剥離可能な複数層のフィルムを重ね合わせて構成されていることを特徴とする請求項１４に記載の棚板。
【請求項１６】
前記塵埃捕捉部は、空気は通過させるが、塵埃を捕捉する構造を有する部材であることを特徴とする請求項１１または１２に記載の棚板。
【請求項１７】
前記塵埃捕捉部は、プレフィルタであることを特徴とする請求項１６に記載の棚板。
【請求項１８】
前記下板部は、前記上板部の複数の開口部と重なり合わない位置に形成された複数の開口部を有し、
前記下板部の前記複数の開口部以外の部分が、前記塵埃捕捉部を構成することを特徴とする請求項１１から１７までのいずれか１項に記載の棚板。
【請求項１９】
前記上板部および前記下板部は、互いに同一のパターンで配列された複数の開口部を有する２つの板状部材を、相対的に１８０度回転させて配置したものであることを特徴とする請求項１８に記載の棚板。
【請求項２０】
前記下板部の前記複数の開口部のそれぞれの周囲に、所定の高さの縁部を設けたことを特徴とする請求項１８または１９に記載の棚板。
【請求項２１】
クリーンルームにおいて、
少なくとも１段の棚板を有する棚であって、各棚板が、所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部と下板部とを有し、前記上板部が、空気を通過させる複数の開口部を有し、前記下板部が、少なくとも前記上板部の前記複数の開口部に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部を有する棚を用い、
前記棚板に、製品を収納した運搬容器を載置し、
前記塵埃捕捉部により、前記運搬容器から落下した塵埃を捕捉すること
を特徴とする塵埃の捕捉方法。
【請求項２２】
前記塵埃の捕捉方法は、半導体製造プロセスにおいて行われることを特徴とする塵埃の請求項２１に記載の塵埃の捕捉方法。
【請求項２３】
前記塵埃捕捉部として、粘着性を有する部材を用いることを特徴とする請求項２１または２２に記載の塵埃の捕捉方法。
【請求項２４】
前記粘着性を有する部材として、粘着マットを用いることを特徴とする請求項２３に記載の塵埃の捕捉方法。
【請求項２５】
前記粘着マットとして、剥離可能な複数層のフィルムを重ね合わせたものを用いることを特徴とする請求項２４に記載の塵埃の捕捉方法。
【請求項２６】
前記塵埃捕捉部として、空気は通過させるが、塵埃を捕捉する構造を有する部材を用いることを特徴とする請求項２１または２２に記載の塵埃の捕捉方法。
【請求項２７】
前記塵埃捕捉部として、プレフィルタを用いることを特徴とする請求項２６に記載の塵埃の捕捉方法。
【請求項２８】
前記下板部は、前記上板部の複数の開口部と重なり合わない位置に形成された複数の開口部を有し、
前記下板部の前記複数の開口部以外の部分が、前記塵埃捕捉部を構成することを特徴とする請求項２１から２７までのいずれか１項に記載の塵埃の捕捉方法。
【請求項２９】
前記上板部および前記下板部は、互いに同一のパターンで配列された複数の開口部を有する２つの板状部材を、相対的に１８０度回転させて配置したものであることを特徴とする請求項２８に記載の塵埃の捕捉方法。
【請求項３０】
前記下板部の前記複数の開口部のそれぞれの周囲に、所定の高さの縁部を設けたことを特徴とする請求項２８または２９に記載の塵埃の捕捉方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【公開番号】特開２０１３−７１８１６（Ｐ２０１３−７１８１６Ａ）
【公開日】平成２５年４月２２日（２０１３．４．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２１２４１０（Ｐ２０１１−２１２４１０）
【出願日】平成２３年９月２８日（２０１１．９．２８）
【出願人】（３０８０３３７１１）ラピスセミコンダクタ株式会社 (898)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年４月２２日（２０１３．４．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月２８日（２０１１．９．２８）
【出願人】（３０８０３３７１１）ラピスセミコンダクタ株式会社 (898)
【Ｆターム（参考）】
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