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Fターム[5F031GA57]の内容

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【課題】 搬送ワークの搬送中に生じるヨーイングを搬送しながら補正できるヨーイング補正機構を提供すること。
【解決手段】 搬送ワーク5の側部を保持する保持装置3と、レール6に沿って保持装置3をワーク送り方向Xに搬送する走行装置2と、保持装置3を走行装置2のワーク送り方向前部及び後部で支持する支持機構31,32とを備え、支持機構31,32は、走行装置2に設けた駆動軸の軸線O1 ,O2 に対して所定の偏心量eで前部又は後部の一方がワーク送り方向Xに偏心した位置で、他方がワーク送り方向Xと交差する方向に偏心した位置で保持装置3と係合する軸線O3 を具備した偏心軸38を有し、搬送ワーク5のヨーイングを、偏心軸38の軸線O3 を駆動軸36,37の軸線O1 ,O2 を中心に回動させることで保持装置3と走行装置2との位置を相対移動させて補正する。 (もっと読む)


【課題】成膜処理の生産性の向上を図ることができ、且つキャリアの洗浄回数を減らすことができる等のキャリアの管理コストの低減に寄与する真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空処理装置は、ロードロックチャンバLLとプロセスチャンバPCの間で移送されるキャリア7と、プロセスチャンバPC内に移送されたキャリア7から基板7を受け取るフック19を備えており、基板5への真空処理はキャリア7がロードロックチャンバLLに退避した後に行われる。 (もっと読む)


【課題】突発故障が発生しても、生産性の高い成膜を行うことのできる薄膜製造装置及び薄膜製造方法、並びに薄膜製造装置のメンテナンス方法を提供することである。
【解決手段】成膜室を有し当該成膜室内で基体に薄膜を成膜する成膜チャンバーの集合である成膜チャンバー群42と、基体を搬送可能な移動チャンバー6と、基体を仮置き可能な基体仮置き装置を3基以上有し、前記移動装置はいずれの成膜チャンバーに対しても基体の受け渡しが可能であり、且つ前記移動装置は前記3基以上の基体仮置き装置に対して基体の受け取りまたは払い出しの少なくともいずれかが可能である薄膜製造装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】真空容器内を移動する移動容器内部の放熱を、移動容器の移動を妨げることなく実現する。
【解決手段】真空排気可能な第2搬送室14内で被搬送物を搬送する搬送装置1であって、第2搬送室14内を移動可能に構成された移動容器20と、第2搬送室14内に固定配置され気体を供給する供給ノズル42と、を備え、移動容器20は、容器内の雰囲気と遮断された空間部20bと、空間部20bに連通する給気口が設けられ、移動容器20が所定位置へ移動した際に供給ノズル42から給気口に供給される気体の圧力に応じて、給気口から空間部20bへ気体を導入する給気ユニット22と、空間部20bに連通する排気口が設けられ、空間部20bの気圧に応じて空間部20bの気体を排気口から排出する排気ユニット23と、を有する。 (もっと読む)


【課題】発熱源を有し、真空槽内で移動する移動体を常時効率よく冷却することができ、メンテナンスに手間がかからない真空処理装置を提供することである。
【解決手段】真空槽1の床に敷設された軌道3に沿わせた凹溝9の底に設けた磁性体の受熱部1bと、これと対向するように移動体としてのロボット2側に設けた放熱部2bとの間に満たした磁性流体11を、放熱部2bに設けたリニアモータの2次磁極としての永久磁石4と受熱部1bの磁性体の間に発生する磁束に吸着して、受熱部1bと移動体側の放熱部2bとの間に保持することにより、放熱部2bの熱を磁性流体11を介して受熱部1bに伝達して、真空槽1内で移動する移動体を常時効率よく冷却でき、かつ、メンテナンスに手間がかからないようにした。 (もっと読む)


【課題】複数の支持片が配置された前面開閉一体型ポッド(FOUP)を提供する。
【解決手段】本FOUPの複数の支持片の位置は、該支持片がポッド内のウェハを水平に支持するよう対称になるように較正される。また、天井吊下式搬送パッド(OHTパッド)がFOUPとウェハとの重量を均一に分配するので、OHTヘッドによるFOUPとウェハの搬送を更に安定化でき、プロセスの要求を満たすようより多くの重量を装填できる。 (もっと読む)


【課題】ロードポートの個数を見かけ上増加させることにより、装置コストを抑制しつつも収納器の搬送効率を向上させることができる。
【解決手段】仮想ロードポート管理部は、物理ロードポートR−LP1,2に対して2個の仮想ロードポートV−LP1,2を割り当てる。さらに、仮想ロードポート管理部は、基板処理装置5と、キャリア搬送システム7と、ホストコンピュータ9とに対して、2個の仮想ロードポートV−LP1,2を2個の物理ロードポートとして扱わせる。したがって、現実の物理ロードポートの個数以上にロードポートが存在するようにFOUP3の搬送を行うことができ、見かけ上、ロードポートの個数を増加させることができる。その結果、装置コストを抑制しつつも、FOUP3の搬送効率を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】CIS系太陽電池の光吸収層形成のためのセレン化又は硫化処理を行う基板処理装置において、ガラス基板の大型化に対応可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】銅−インジウム、銅−ガリウム、又は、銅−インジウム−ガリウムのいずれか一つからなる積層膜が形成された複数の基板を収納する処理室と、処理室を構成するように形成される反応管と、処理室にセレン元素含有ガス又は硫黄元素含有ガスを導入するガス供給管と、処理室内の雰囲気を排気する排気管と、反応管を囲うように設けられた加熱部と、複数のガラス基板の表面において、複数のガラス基板の短辺方向に前記処理室内の雰囲気を強制対流させるファンと、を具備する基板処理装置である。 (もっと読む)


【課題】ボートの傾きの矯正機構を低コストに提供する。
【解決手段】この発明のウエハ搬送装置1は、ボート2の中心から近い内側に第1接点31よりも周長が長い第2接点32を有し、両車輪3L,3Rの高さが等しくボート2が略水平なときは、両車輪3L,3Rとも第1接点31でボート受け4の走行面41に接して回転し、一方の車輪3Rが下方で、他方の車輪3Lが上方となるようにボート2が傾いたとき、一方の車輪3Rが第1接点31でボート受け4の走行面41に接して回転するとともに、他方の車輪3Lが第2接点32でボート受け4の走行面41に接して回転する。 (もっと読む)


【課題】基板をトレイに移載するトレイ搬送ユニットから搬送部へトレイを移送するときに、基板の移載および搬送部への搬送が、スムーズに行われることが可能な基板の搬送装置を提供することを目的とする。
【解決手段】トレイに基板を移載する基板移載部と、基板移載部からロードロック室へトレイを搬送する搬送部と、基板移載部に配設した第一のトレイ搬送ユニットと、搬送部に配設した第二のトレイ搬送ユニットおよび第三のトレイ搬送ユニットと、基板搬送を制御する制御手段と、を有し、第一のトレイ搬送ユニットは、予め前記制御手段に記憶された第一のポジションと、第二のポジションと、第三のポジションとのいずれかに、前記第一のトレイ搬送ユニットに設けた回動軸を中心に回動可能であり、制御手段により各ポジションに回動させる。 (もっと読む)


【課題】各種電子装置の製造で、基板に対して加熱処理や成膜処理等の表面処理を施す真空処理装置の基板の搬送方法であって、基板移載時におけるトレイへの基板移載機構の精度が低い場合においても、トレイに対して基板を常に安定して保持させることが可能な基板の搬送方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置の設置面に対して水平の位置にある第一のトレイに基板を搭載し保持するステップと、基板を保持した第一のトレイを設置面に対して鉛直方向に傾いた第二のトレイに装着するステップと、第一のトレイが装着された第二のトレイを、基板処理装置が有する減圧したチャンバー内に搬送機構により搬送するステップと、を有することを特徴とする基板の搬送方法である。 (もっと読む)


【課題】平板状の基板を複数本の基板支持ハンドにより固定載置して搬送可能とする基板搬送台車において、基板の破損や基板へのキズや汚れ無しに、基板支持ハンド上の基板の位置を容易に修正または回転させることができるようにする基板搬送台車を提供すること。
【解決手段】基板支持ハンドが、基板載置状態を維持しつつ、載置した基板と基板支持ハンドとの相対位置を移動可能とする可動接触部を有効/無効の切り換え可能に有し、特に、ボールベアリングを平面配置した複数点からなる。 (もっと読む)


【課題】クリーン度が低い環境で物品を搬送する際に、簡素な構成で物品を汚染することなく迅速に移載できるようにする。
【解決手段】物品搬送車4は、カセットCを搬送可能である。物品搬送車4は、カセットCを載置可能物品載置部15と、カバー部材17と、を備えている。カバー部材17は、物品載置部15を覆う。カバー部材17は、開口30と、取り込み口32と、第1吹き出し口34と、吸い込み口36と、を有している。開口30は、カセットCを出し入れ可能である。取り込み口32は、外の空気を取り込み可能である。第1吹き出し口34は、開口30の走行方向前側に設けられ、取り込み口32から取り込んだ空気を、開口30表面を覆うように吹き出し可能である。吸い込み口36は、開口30の走行方向後側に設けられ、第2FFU44により第1吹き出し口34から吹き出した空気を吸い込み可能である。 (もっと読む)


【課題】 サイズの大きな被加工物のハンドリングを容易にする加工装置を提供することである。
【解決手段】 被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物に加工を施す加工手段と、該チャックテーブルに搬送する被加工物を収容する被加工物収容ユニットと、該チャックテーブルと該被加工物収容ユニットとの間で被加工物を搬送する搬送手段と、を備えた加工装置であって、該被加工物収容ユニットは、移動手段と載置面と連結面を有し、加工装置に取り外し可能に連結されるワゴン本体と、該ワゴン本体の該載置面上に載置され、被加工物を収容する収容部を内部に有する被加工物収容ボックスとを具備し、該移動手段で該ワゴン本体を移動して該連結面で加工装置に連結し、該被加工物収容ボックス内に収容された被加工物を該搬送手段で該チャックテーブルに搬送することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】センサにより計測されたアライメントのズレ量を、各装置を制御するためのレシピを用いて補正することにより、アライメント処理時間を短縮し、露光ラインを止めずにアライメント補正することを可能として、スループットを向上させることができる露光システム及びその制御方法を提供する。
【解決手段】制御装置21は、前回のプリアライメント時に検出された基板ステージ16と基板Wとのズレ量E1、E2に基づいて算出した補正値をプリアライメント制御レシピR1に書き込むと共に、露光装置13における前回の基板WとマスクMとのアライメント調整時に検出された基板WとマスクMとのズレ量e1、e2に基づいて算出した補正値を露光制御レシピR2に書き込む。そして、次回のプリアライメント及び露光の際、プリアライメント制御レシピR1及び露光制御レシピR2に基づいてプリアライメント装置12及び露光装置13を制御する。 (もっと読む)


【課題】露光ラインが停止した際に、ガラス基板の熱変形の影響を排除して、精度よく露光転写することができる露光システム及びその制御方法を提供する。
【解決手段】露光システム10は、温度調整機構11、プリアライメント装置12、及び露光装置13を有して構成される露光ライン20と、第1ワークローダ14と、第2ワークローダ15と、露光ライン20の各部を制御する制御装置21と、を備える。制御装置21は、露光ライン20が停止したとき、第1及び第2ワークローダ14、15によって基板Wを温度調整機構11へ返送する。 (もっと読む)


【課題】省スペース性、チップ搭載性に優れたウェハ供給装置、および当該ウェハ供給装置を備えたチップボンディング装置を提供することを課題とする。
【解決手段】ウェハ供給装置5は、ウェハ搬送パレット50を備えている。ウェハ搬送パレット50には、ウェハシート61が搭載されている。ウェハシート61には、分割された複数のチップ620からなるウェハ62が貼り付けられている。ウェハ搬送パレット50における、ウェハシート61の搭載位置以外の部分には、廃棄されるチップ620を置く廃棄部品置場500が区画されている。 (もっと読む)


【課題】
トラバーサ台車の移動時間を短縮し、物品の供給搬出回数を増す。
【構成】
カセット内に収納された複数の物品を、1物品ずつ処理装置へ供給搬出する。一列に配置された複数のカセット載置台にカセットを載置し、カセット載置台と処理装置のステーションとの間に渡って、直線経路上をトラバーサ台車を移動させる。さらにトラバーサ台車上を移動自在なスライドコンベヤを設け、コントローラによりトラバーサ台車とスライドコンベヤとを同時に移動させる。 (もっと読む)


【課題】周辺露光処理後の基板の検査を適切に行いつつ、当該検査を含む基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】ウェハ処理装置42は、ウェハWを保持する保持部120と、保持部120を回転させると共に、受渡位置P1と周辺露光位置P2との間で保持部120を移動させる駆動部121と、周辺露光位置P2においてウェハWの周縁部を露光する露光部140と、露光部140の上方に設けられ、ウェハWを撮像する撮像部150と、保持部120に保持されたウェハWと撮像部150との間で形成される光路の方向を変更させる方向変換部153とを有している。方向変換部153は、第1の反射鏡154、第2の反射鏡155及び第3の反射鏡156を有し、第2の反射鏡155及び第3の反射鏡156によってウェハWと撮像部150との間で形成される光路が折り返される。 (もっと読む)


【課題】生産効率の向上と処理品質の向上とを両立させることが可能となる連続拡散処理装置を提供する。
【解決手段】複数枚の板状の被処理物を載せる搬送台50と、直線状に延びる筒状の加熱炉1と、加熱炉1内に搬送台50を順次搬入し、加熱炉1内を搬送した搬送台50を順次搬出する搬送装置2と、加熱炉1内を通過する搬送台50に載せた被処理物を加熱する加熱装置3と、加熱炉1内の搬入部11から搬出部12までの間を、搬送方向に複数のゾーンに区画している複数の隔壁部材7と、ゾーン毎に個別にガスを供給すると共に、当該ゾーン毎に個別にガスを排出するガス給排装置4とを備えている。 (もっと読む)


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