【課題】原版へのパーティクルの付着の防止に有利な技術を提供する。
【解決手段】パターンが形成されたパターン領域を有する原版を用いて、前記パターンを基板に転写するリソグラフィ装置であって、前記原版を保管するストッカと、前記パターンを前記基板に転写する転写処理を行う処理部と、前記ストッカと前記処理部との間で前記原版を搬送する搬送機構と、を有し、前記搬送機構は、前記パターン領域を覆うように配置されることにより、前記パターン領域を保護する保護プレートと、前記保護プレートに配置され、前記原版の前記パターン領域以外の部分を介して前記原版を保持する保持部と、を含むことを特徴とするリソグラフィ装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】不純物導入層形成装置の静電チャックの性能劣化を抑制する。
【解決手段】静電チャック保護方法は、真空環境で揮発性を有する物質を含む異物の付着を妨げるための保護表面２３を、露出されたチャック面１３に提供することと、チャック面１３に静電吸着された基板Ｗに、真空環境で揮発性を有する物質を含む表層を形成するプロセスを実行するために、保護表面２３を解除することと、を含む。保護表面２３は、チャック面を取りまく真空環境に低真空排気運転を実施しているときに提供されてもよい。 （もっと読む）

【課題】待機中の基板収容器内の基板に対し、基板表面へのパーティクルの付着等の問題を抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を複数収容した基板収容器を複数載置する載置台と、前記載置台に載置された基板収容器の蓋を開閉する蓋開閉部と、蓋を開けられた基板収容器内の基板の有無又は位置を確認する基板確認を行う基板確認部と、基板収容器内の基板を処理室へ搬送する基板搬送機構と、前記基板搬送機構により搬送された前記処理室内の基板に対して処理を行う基板処理部とを備えた基板処理装置において、前記載置台に載置された第１の基板収容器内の基板を対象として基板処理中に、第２の基板収容器が前記載置台に載置された場合、前記第２の基板収容器の蓋を開けて、前記第２の基板収容器内の基板に対して前記基板確認部による基板確認を行った後に、前記第２の基板収容器の蓋を閉じる。 （もっと読む）

【課題】ワーク搬送時の振動を抑制するのに適したワーク搬送システムを提供する。
【解決手段】ワーク搬送システムＡは、ワーク搬送装置４が配置される搬送室１と、搬送室１に隣接して設けられ、ワーク収納用の容器２１が載置されるロードポート２と、を備える。搬送室１は、鋼材により構成されるフレーム構造体１Ａを含む。フレーム構造体１Ａは、床面６に設置され、ワーク搬送装置４が載置される第１フレーム部材１１と、この第１フレーム部材１１に対して起立状に設けられ、ロードポート２を支持する第２フレーム部材１２と、を備える。ワーク搬送装置４が載置されるフレーム構造体１Ａは、鋼材によって構成されているため、比較的に比重が大きく、かつ剛性が高い。これにより、ワーク搬送装置４によるワーク搬送の際に当該ワーク搬送装置４において振動が生じても、フレーム構造体１Ａにおける振動を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】可動部材の移動によって発生する反力をベースに伝達する反力伝達部材を備えることで、移送システムに発生する振動を低減し得る、移送システム及びそれを備えたアレイテスト装置を提供しようとする。
【解決手段】本発明は、目的物を所定位置に移送させる移送システムに関するもので、目的物を移動させる可動部材の移動から発生する反力をベースに伝達する反力伝達部材を備えることで、移送システムの振動を低減し得る構成を提供する。 （もっと読む）

【課題】 位置決め精度を向上するとともに、外部の物体との干渉を防ぐことができる基板搬送ロボットを提供する。
【解決手段】 第１および第２アーム部３６，３７は、互いに相対的に旋回可能に設けられる。第１および第２アーム部３６，３７間の関節には、第２旋回駆動手段４２が設けられる。第２旋回駆動手段４２は、第２モータ７６と、第２動力伝達部７７とを有する。第２モータ７６は、第１アーム部３６に固定される固定部７８と、固定部７８に対して、第１アーム部３６の延在方向に略平行な回転軸線Ｌ２２まわりに回転する回転部７９とを有する。第２動力伝達部７７は、第２モータ７６と第２アーム部３７との間に介在し、第２モータ７６の動力を、第２モータ７６の回転部７９から第２アーム部３７に伝達する。このような第２旋回駆動手段４２によって、第１および第２アーム部３６，３７が互いに相対的に旋回駆動される。 （もっと読む）

【課題】有軌道台車システムにおいて、ダウンフローを吹き出すクリーンルーム内で搬送される物品の汚染を可及的に防止する
【解決手段】有軌道台車システム１は、清浄な空気のダウンフローＤＦが天井の吹き出し口７から吹き出すクリーンルーム内に配置されるシステムである。有軌道台車システム１は、軌道２と、搬送台車４と、底カバー５と、側方カバー６と、排出口８と、を備えている。軌道２は、クリーンルーム内で天井１３から吊り下げられている。搬送台車４は、軌道２に沿って走行して物品Ｓを搬送可能である。底カバー５は、軌道２の底部を覆う。側方カバー６は、軌道２および搬送台車４の側方を覆う。排出口８は、底カバー５および側方カバー６の少なくともいずれかに設けられ、吹き出し口７から導入したダウンフローＤＦを排出する。 （もっと読む）

【課題】コロナ放電を用いたイオナイザの電極針先端部に堆積した不純物がウェーハの表面に落下することを防ぐ。
【解決手段】プリアライナ１の上方を覆うカバー１３と、カバー１３の外周部又は外周部の下方に設置されたイオン供給部１４とを含み、イオン供給部１４のイオン供給口１５がカバー１３とプリアライナ１との間の空間部に向けられているウェーハ除電装置を用いる。 （もっと読む）

【課題】 FIMSシステムにおいてポッドの蓋に付随する極微小な塵等のミニエンバイロンメント内への拡散を抑制するポッド及び該ポッドに応じたFIMSシステムを提供する。
【解決手段】 ポッドの蓋外側面内に被係合部を配置し、ポッド開口周囲に配される該蓋が嵌合可能なフランジ部に対して外部空間より該被係合部にアクセス可能となる挿通孔を配する。ラッチ機構はフランジ部におけるポッド本体側の面においてフランジ側壁に平行な方向に摺動可能に支持され、該ラッチ機構における係合部は該挿通孔を介して被係合部に至り、該ラッチ機構の移動に応じて係合及び非係合の状態変化を為す。 （もっと読む）

【目的】パーティクルの発生を抑制しながらウェハ基板に基板ホルダを取り付けて搬送可能な描画装置を提供することを目的とする。
【構成】描画装置１００は、複数のプレート部材を有し、複数のプレート部材を用いて固定せずにウェハ基板を間に挟む基板ホルダ２０と、ウェハ基板を固定せずに挟んだままの状態の基板ホルダが搬入される描画室１０３と、描画室内に搬入された基板ホルダの下面を保持する、昇降可能な支持ピン１０６と、支持ピン１０６の上昇により基板ホルダの上面と接触して保持部の上昇を静止させ、下部からの保持部の押圧力と押圧力に対する反発力とによりウェハ基板を基板ホルダ内に固定する静止ブロック部材１０８と、支持ピン１０６と静止ブロック部材１０８とによって基板ホルダ内に固定されたウェハ基板に、電子ビームを用いてパターンを描画する描画部１５０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 基板搬送装置において、パーティクルによる基板の汚染を極力防止する。
【解決手段】 ピック本体１１５には、拡散防止部材としての拡散防止カバー１２１が装着されている。拡散防止カバー１２１は、摺動ブロック１２３とリニアガイド１１９とが擦れることによって発生し、落下してくるパーティクルを受け止める底壁部１２１ａと、この底壁部１２１ａから略垂直に立ち上がる側壁部１２１ｂとを有する。側壁部１２１ｂは、底壁部１２１ａと同様にパーティクルを受け止めるとともに、パーティクルが外部へ飛散しないように封じ込める。 （もっと読む）

【課題】基板が使用されている時に、保護カバーの内面が汚染されることを容易、かつ確実に防止する。
【解決手段】露光装置は、チャンバ１３内に配置されるレチクル３７を保持するレチクルステージ１１を備え、レチクル３７に形成されたパターンの像をウエハに露光する。第1搬送部は、レチクル３７が収納される第１カバー部材を保護する第２カバー部材を開いて第１カバー部材を取り出すとともに、第１カバー部材をチャンバ１３内に搬送する。第２搬送部は、チャンバ１３内で、第１カバー部材を開いてレチクル３７を取り出し、レチクル３７をレチクルステージ１１に搬送するとともに、レチクル３７が取り出された第１カバー部材を閉じた状態で保持する。 （もっと読む）

【課題】シール材および窒素ガスの使用の増加を防止しつつ、外気の侵入を防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】ウエハ１が待機する待機室１２を形成した筐体１１と、待機室１２内に形成されて窒素ガス３０が循環する循環路３１と、循環路３１の途中に設けられて窒素ガス３０を循環させる送風機４３を有するクリーンユニット４１とを備えた熱処理装置１０において、筐体１１内の送風機４３の吸込側空間５５に隔離室５１を形成する仕切板５０を設け、隔離室５１を排気する排気ダクト５２を設ける。窒素ガスが循環路を循環する際に、筐体の隙間から酸素を含む外気が送風機の吸込側空間に侵入する現象を防止する。 （もっと読む）

【課題】発塵を抑制したステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置２は、平らな上面を有するベースプレート５０と、非接触軸受によってベースプレート上面の上に浮上する可動フレーム４０と、アクチュエータ２０を備えている。アクチュエータ２０は、その先端が可動フレーム４０の側面に当接しており、可動フレーム４０を水平面内で位置決めする。アクチュエータ２０の先端と可動フレーム４０の側面が、回転自在な球部材２３を介して当接している。球部材２３の回転が可動フレーム４０を移動させる際の摺動を抑制するので摺動に起因する発塵が抑制される。 （もっと読む）

【課題】
ストロークの大きな真空搬送装置であっても、適時にその駆動系を覆う容器の内部を真空排気出来る基板搬送装置を提供することを本発明の課題とする。
【解決手段】
本発明の係わる真空搬送装置は、内部を排気し得る第一の容器、前記第一の容器内に位置する内部を排気し得る第二の容器、前記第二の容器を一の方向に並進移動をさせる運動手段、排気手段と連通／遮断をするバルブ及び第一の容器に設けられた中空部分を有する第一の接合部、前記第二の容器に設けられた前記第一の接続部に対向する中空柱状体の突出部並びに前記中空柱状体の突出部の内側を移動可能で、前記第一の接合部に前記運動手段により接合可能な中空柱状体の部分を有する第二の接続部を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】ウエハカセットのドアの開閉に要する時間を短縮してスループットを向上したウエハローディング・アンローディング方法および装置の実現。
【解決手段】取り出し口に設けられた開閉されるドア13を有し、複数のウエハWを収容するウエハカセット10を載置するウエハカセット載置部26と、ドア13を移動するドア移動機構22-25と、ウエハカセット10との間でウエハを搬出・搬入するウエハ搬送アーム30と、を備え、通常時はドア13を閉め、ウエハを搬出・搬入する直前にドアを開き、ウエハを搬出・搬入した後ドアを閉じるウエハローディング・アンローディング装置であって、ドア移動機構は、搬出・搬入するウエハのウエハカセット内の収容位置に応じて、ドアの開き位置を変化させる。 （もっと読む）

【課題】基板を収納する基板収納容器を梱包して輸送するときに、外気温が変化しても基板収納容器に収納した基板が結露したり、汚染されてしまうことを防止できる基板収納容器及びその梱包体を提供する。
【解決手段】開口を有し基板を収納する容器本体と、開口を閉鎖する蓋体とを有する基板収納容器１であって、この基板収納容器１を、梱包袋１１と、緩衝材１３と、梱包箱１４とからなる梱包資材を使用して梱包するときに、基板収納容器１または梱包資材の少なくとも１つに保温層１２を設けて、基板収納容器１を取り囲むことを特徴とする。前記保温層１２は、空気層を有しているようにすること、また、調湿剤を有しているようにすること、また、前記基板収納容器１が、外周部に保護部材８を備えてるようにし、これを梱包する基板収納容器１の梱包体とすること、が好ましい。 （もっと読む）

【課題】クリーンルームのコンパクト化、かつ、高清浄度化を達成可能な自動倉庫システム及びその容器移載方法を提供するものである。
【解決手段】本発明に係る自動倉庫システムは、クリーンルーム１１内に配置されるものであり、容器１４を格納する棚１３を垂直方向に複数段設け、容器１４をその棚１３と搬入出ポート１２との間で移載する移載手段１６を棚１３と平行に設けると共に、その移載手段１６に棚１６の側に向かって伸長自在なベース部材２４を設けてなり、そのベース部材２４は、固定系のベース本体７１と、ベース本体７１の長手方向に伸長自在なスライド部材７２と、スライド部材７２の上面に設けられ、スライド部材７２の長手方向にスライド自在で、かつ、昇降自在な爪部材７３とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 メンテナンス時においても装置全体の稼働を停止する必要のないインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、少なくとも一の成膜処理室を含む複数の処理室を直列に接続してなり、成膜処理室は、基板が設置される基板設置部１４１と、設置された前記基板に対して所定の成膜処理を行う成膜手段が設置された成膜手段設置部１４２とからなり、これらの基板設置部と成膜手段設置部とは分離可能に構成されている成膜装置であって、基板設置部と成膜処理室とを隔絶し基板設置部内の真空を保持するシャッター３を備えている。 （もっと読む）