基板搬送装置および基板処理システム
【課題】 基板搬送装置において、パーティクルによる基板の汚染を極力防止する。
【解決手段】 ピック本体１１５には、拡散防止部材としての拡散防止カバー１２１が装着されている。拡散防止カバー１２１は、摺動ブロック１２３とリニアガイド１１９とが擦れることによって発生し、落下してくるパーティクルを受け止める底壁部１２１ａと、この底壁部１２１ａから略垂直に立ち上がる側壁部１２１ｂとを有する。側壁部１２１ｂは、底壁部１２１ａと同様にパーティクルを受け止めるとともに、パーティクルが外部へ飛散しないように封じ込める。
【解決手段】 ピック本体１１５には、拡散防止部材としての拡散防止カバー１２１が装着されている。拡散防止カバー１２１は、摺動ブロック１２３とリニアガイド１１９とが擦れることによって発生し、落下してくるパーティクルを受け止める底壁部１２１ａと、この底壁部１２１ａから略垂直に立ち上がる側壁部１２１ｂとを有する。側壁部１２１ｂは、底壁部１２１ａと同様にパーティクルを受け止めるとともに、パーティクルが外部へ飛散しないように封じ込める。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板搬送装置および基板処理システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に代表されるＦＰＤの製造過程においては、真空下で被処理体であるガラス基板等の基板に、エッチング、成膜等の各種処理が施される。ＦＰＤの製造には、基板処理室であるプロセスチャンバを複数備えた、いわゆるマルチチャンバタイプの基板処理システムが使用されている。このような基板処理システムは、基板を搬送する基板搬送装置が配備された搬送チャンバと、この搬送チャンバの周囲に設けられた複数のプロセスチャンバとを有している。そして、搬送チャンバ内の基板搬送装置によって、基板が各プロセスチャンバ内に搬入され、あるいは、処理済みの基板が各プロセスチャンバから搬出される。基板の搬送には、通例、ピックと呼ばれる基板を支持する支持部材を複数有するフォーク状の基板保持具が使用される。
【０００３】
近年、生産効率を上げるため、ＦＰＤ用の基板の大型化が進んでおり、それを保持する基板保持具も大型化している。大型の基板を基板保持具に保持した状態で旋回等の動作を可能にするためには、搬送チャンバも大型化せざるを得ない。しかし、真空状態で基板を搬送する真空搬送チャンバの場合、大気圧に抗するだけの機械的強度を保つ必要があり、大型化は限界に近づきつつある。そこで、特許文献１では、搬送チャンバの大型化を回避するとともに、駆動機構への負担を軽減する目的で、ベース上をスライド可能に設けられた複数の第１の支持部材と、この第１の支持部材上にスライド可能に設けられた複数の第２の支持部材とを有する基板保持具が提案されている。この特許文献１の基板保持具は、２段階のスライド機構によって、基板の受け渡しに必要なストロークを確保しながら、搬送チャンバ内では第１及び第２の支持部材を退避させて基板保持具をコンパクトに収容できるため、搬送チャンバの大型化を回避できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−４６６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１のように基板保持具にスライド機構を採用する場合、真空容器の内部で部材と部材を摺動させる動作が行われるため、摺動部位でパーティクル等の汚染原因物質が発生しやすくなる懸念がある。従って、基板保持具の摺動部位でパーティクル等の汚染原因物質が発生しても、基板へ付着させないようにする予防措置を講じておく必要がある。
【０００６】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、基板搬送装置において、パーティクル等の汚染原因物質による基板の汚染を極力防止することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明の第１の視点の基板搬送装置は、基板を支持して搬送する基板搬送装置であって、第１の部材と、該第１の部材に対してスライド可能に設けられて基板を支持する第２の部材と、
前記第２の部材をスライドさせるスライド部位と外部の基板搬送空間との間に隘路を形成する形状をなし、前記スライド部位で発生した汚染原因物質が前記基板搬送空間へ拡散することを防止する拡散防止部材と、
を備えている。
【０００８】
また、本発明の第２の視点において、基板搬送装置は、複数の支持部材を有する基板保持具によって基板を支持して搬送する基板搬送装置であって、
前記支持部材は、本体と、
該本体に対してスライド可能に設けられて基板を支持する可動部材と、
前記可動部材をスライドさせるスライド部位と外部の基板搬送空間との間に隘路を形成する形状をなし、前記スライド部位で発生した汚染原因物質が前記基板搬送空間へ拡散することを防止する拡散防止部材と、
を備えている。
【０００９】
本発明の第２の視点の基板搬送装置において、拡散防止部材は、前記本体において、前記可動部材のスライド方向に直交する方向に張り出して設けられている。また前記拡散防止部材は、前記可動部材の側面の一部分または全部を覆うように設けられている。また、前記拡散防止部材は、底壁部と、該底壁部から立設され、前記可動部材の側面の一部分または全部を覆う側壁部を備えている。前記可動部材は、基板を支持する支持面を有する支持部と、該支持部から両側下方へ向けて垂れ下がる一対の折曲側板部とを備え、前記拡散防止部材は、前記折曲側板部の少なくとも下端を外側から覆うように近接して設けられている。また、前記本体は、前記可動部材をスライド可能に案内するガイド部材を備えており、前記本体の長手方向に、該ガイド部材の長さ以上の長さで前記拡散防止部材が設けられている。さらに、前記ガイド部材の端部を囲むように、一対の囲繞部材が前記本体上に設けられている。
【００１０】
また、本発明の第３の視点において、基板搬送装置は、
複数の支持部材を有する基板保持具によって基板を支持して搬送する基板搬送装置であって、
前記基板保持具を水平方向にスライド可能に支持するスライドベースと、
前記基板保持具をスライドさせるスライド部位と外部の基板搬送空間との間に隘路を形成する形状をなし、前記スライド部位で発生した汚染原因物質が前記基板搬送空間へ拡散することを防止する拡散防止部材と、
を備えている。
【００１１】
本発明の第３の視点の基板搬送装置において、前記拡散防止部材は、前記スライドベースにおいて、前記基板保持具のスライド方向に直交する方向に張り出して設けられている。また、前記基板保持具は、前記スライドベースとの間をスライド可能に連結する連結部材を有している。また、前記拡散防止部材は、前記連結部材の側面の一部分または全部を覆うように近接して設けられている。また、前記スライドベースは、前記連結部材をスライド可能に案内するガイド部材を備えており、前記スライドベースの長手方向に、該ガイド部材の長さ以上の長さで前記拡散防止部材が設けられている。
【００１２】
本発明の基板搬送装置において、前記拡散防止部材の内壁面に、吸着材層を備えている。この場合、前記吸着材層は、粘着性部材により構成されていてもよいし、吸液性部材により構成されていてもよい。
【００１３】
本発明の基板処理システムは、上記いずれかの基板搬送装置を備えている。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の基板搬送装置によれば、スライド部位と外部の基板搬送空間との間に隘路を形成する形状をなし、前記スライド部位で発生した汚染原因物質が前記基板搬送空間へ拡散することを防止する拡散防止部材を備えているので、スライド部位で発生するパーティクル等の汚染原因物質をこの拡散防止部材で受け止め、外部への拡散を防止できる。従って、基板の搬送に用いる基板搬送装置が発生源となる基板へのパーティクル等による汚染を予防し、信頼性の高い基板処理が実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】真空処理システムを概略的に示す斜視図である。
【図２】図１の真空処理システムの平面図である。
【図３】第１の実施の形態の搬送装置において基板保持具を退避させた状態を示す斜視図である。
【図４】第１の実施の形態の搬送装置において基板保持具を進出させた状態を示す斜視図である。
【図５】第１の実施の形態の拡散防止カバーを備えた支持ピックの断面図である。
【図６】変形例の拡散防止カバーを備えた支持ピックの断面図である。
【図７】支持ピックの長手方向における断面図である。
【図８】囲繞部材の配設例を説明する図面である。
【図９】吸着材層を設けた拡散防止部材の断面図である。
【図１０】吸着材層を設けた拡散防止部材の別の例の断面図である。
【図１１】第２の実施の形態の搬送装置において基板保持具を退避させた状態を示す斜視図である。
【図１２】第２の実施の形態の拡散防止カバーを備えた支持ピックの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
［第１の実施の形態］
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。ここでは、本発明の一実施の形態の基板搬送装置および該基板搬送装置を備えた基板処理システムを例に挙げて説明を行なう。図１は、基板処理システムとしての真空処理システム１００を概略的に示す斜視図であり、図２は、各チャンバの内部を概略的に示す平面図である。この真空処理システム１００は、複数のプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃを有するマルチチャンバ構造をなしている。真空処理システム１００は、例えばＦＰＤ用のガラス基板（以下、単に「基板」と記す）Ｓに対してプラズマ処理を行なうための処理システムとして構成されている。なお、ＦＰＤとしては、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、エレクトロルミネセンス（Electro Luminescence；ＥＬ）ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等が例示される。
【００１７】
真空処理システム１００では、複数の大型チャンバが平面視十字形に連結されている。中央部には搬送チャンバ３が配置され、その三方の側面に隣接して基板Ｓに対してプラズマ処理を行なう３つのプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃが配設されている。また、搬送チャンバ３の残りの一方の側面に隣接してロードロックチャンバ５が配設されている。これら３つのプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃ、搬送チャンバ３およびロードロックチャンバ５は、いずれも真空チャンバとして構成されている。搬送チャンバ３と各プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃとの間には図示しない開口部が設けられており、該開口部には、開閉機能を有するゲートバルブ７ａがそれぞれ配設されている。また、搬送チャンバ３とロードロックチャンバ５との間には、ゲートバルブ７ｂが配設されている。ゲートバルブ７ａ，７ｂは、閉状態で各チャンバの間を気密にシールするとともに、開状態でチャンバ間を連通させて基板Ｓの移送を可能にしている。また、ロードロックチャンバ５と外部の大気雰囲気との間にもゲートバルブ７ｃが配備されており、閉状態でロードロックチャンバ５の気密性を維持するとともに開状態でロードロックチャンバ５内と外部との間で基板Ｓの移送を可能にしている。
【００１８】
ロードロックチャンバ５の外側には、２つのカセットインデクサ９ａ，９ｂが設けられている。各カセットインデクサ９ａ，９ｂの上には、それぞれ基板Ｓを収容するカセット１１ａ，１１ｂが載置されている。各カセット１１ａ，１１ｂ内には、基板Ｓが、上下に間隔を空けて多段に配置されている。また、各カセット１１ａ，１１ｂは、昇降機構部１３ａ，１３ｂによりそれぞれ昇降自在に構成されている。本実施の形態では、例えばカセット１１ａには未処理基板を収容し、他方のカセット１１ｂには処理済み基板を収容できるように構成されている。
【００１９】
これら２つのカセット１１ａ，１１ｂの間には、基板Ｓを搬送するための搬送装置１５が設けられている。この搬送装置１５は、上下２段に設けられた基板保持具１７ａおよび１７ｂと、これら基板保持具１７ａ，１７ｂを進出、退避および旋回可能に支持する駆動部１９と、この駆動部１９を支持する支持台２１とを備えている。
【００２０】
プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃは、その内部空間を所定の減圧雰囲気（真空状態）に維持できるように構成されている。各プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃ内には、図２に示したように、基板Ｓを載置する載置台としてのサセプタ２が配備されている。そして、各プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃでは、基板Ｓをサセプタ２に載置した状態で、基板Ｓに対して、例えば真空条件でのエッチング処理、アッシング処理、成膜処理などのプラズマ処理が行なわれる。
【００２１】
本実施形態では、３つのプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃで同種の処理を行ってもよいし、プロセスチャンバ毎に異なる種類の処理を行ってもよい。なお、プロセスチャンバの数は３つに限らず、４つ以上であってもよい。
【００２２】
搬送チャンバ３は、真空処理室であるプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃと同様に所定の減圧雰囲気に保持できるように構成されている。搬送チャンバ３の中には、図２に示したように、搬送装置２３が配設されている。そして、搬送装置２３により、３つのプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃおよびロードロックチャンバ５の間で基板Ｓの搬送が行われる。
【００２３】
搬送装置２３は、上下２段に設けられた搬送装置を備え、それぞれ独立して基板Ｓの出し入れを行うことが出来るように構成されている。図３及び図４に、フォーク状の基板保持具１０１を有する上段の搬送装置２３ａの概略構成を示した。図３は基板保持具１０１を退避させた状態を示し、図４は基板保持具１０１を進出させた状態を示している。搬送装置２３ａは、主要な構成として、スライドベース１１１と、スライドベース１１１に対してスライド可能に設けられた基板保持具１０１とを有している。基板保持具１０１は、スライドベース１１１上を図示しない主駆動機構によってスライド可能に設けられたピックベース１１３と、このピックベース１１３に設けられた「第１の部材」としての複数（図３，４では３本）のピック本体１１５と、このピック本体１１５上を図示しない副駆動機構によってスライド可能に設けられた「第２の部材」としての複数（図３，４では３本）の可動ピック１１７と、を有している。ピック本体１１５と可動ピック１１７は、支持部材としての支持ピック１１８を構成している。各可動ピック１１７は、それぞれのピック本体１１５を基準にして前方へ延伸した進出状態と該進出状態から退避した退避状態との間でスライド動作が可能に設けられている。また、可動ピック１１７は、図示しない連結部により同期して前後へ進退動作を行うように構成されている。
【００２４】
ピックベース１１３は、櫛歯状に設けられた複数のピック本体１１５を確実に固定し、スライドベース１１１と可動式に連結できるものであればその構成は問わない。また、ピックベース１１３とピック本体１１５との連結構造も任意である。
【００２５】
基板Ｓは可動ピック１１７上に支持されて搬送動作が行われる。上記図示しない主駆動機構と副駆動機構は連動しており、スライドベース１１１上でピックベース１１３（つまり、基板保持具１０１全体）を第１のストロークで前方へ進出させる動作と連動して、ピック本体１１５上で可動ピック１１７が第２のストロークで前方へ進出するようになっている。従って、可動ピック１１７上の基板Ｓは、進出時には、図３中の矢印で示す方向に、第１のストロークと第２のストロークの合計量で移動し、例えばプロセスチャンバ１ａ、１ｂ、１ｃのいずれかとの間で基板Ｓの受け渡しが行われる。基板保持具１０１及び可動ピック１１７を退避させる場合、基板Ｓは進出時とは逆方向（図４中の矢印で示す方向）に、第１のストロークと第２のストロークの合計量で移動する。
【００２６】
ピック本体１１５の上面１１５ａには、ガイド部材としてのリニアガイド１１９が設けられている。可動ピック１１７は、このリニアガイド１１９と係合する係合部材（ここでは図示を省略）を有しているため、リニアガイド１１９によって直線方向に案内されつつ進退可能になっている。ピック本体１１５には、上記リニアガイド１１９と係合部材との摺動により発生する可能性があるパーティクル等の汚染原因物質（以下、単に「パーティクル」と記すことがある）を受け止め、拡散を防止するための拡散防止カバー１２１が設けられている。
拡散防止カバー１２１の詳細な構成については後述する。
【００２７】
図３及び図４では上段の搬送装置２３ａについて説明したが、下段の搬送装置（図示省略）も上段の搬送装置２３ａと同様の構成を有している。そして、上下の搬送装置２３は、図示しない連結機構によって連結され、一体となって水平方向に回転できるように構成されている。また、上下二段に構成された搬送装置２３には、ピックベース１１３およびスライドピック本体１１５のスライド動作や、スライドベース１１１の回転動作および昇降動作を行なう図示しない駆動ユニットに連結されている。なお、スライドベース１１１上でピックベース１１３をスライドさせる主駆動機構と、ピック本体１１５上で可動ピック１１７をスライドさせる副駆動機構とは、互いに独立して駆動する構成でもよい。
【００２８】
ロードロックチャンバ５は、プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃおよび搬送チャンバ３と同様に所定の減圧雰囲気に保持できるように構成されている。ロードロックチャンバ５は、大気雰囲気にあるカセット１１ａ，１１ｂと減圧雰囲気の搬送チャンバ３との間で基板Ｓの授受を行うためのものである。ロードロックチャンバ５は、大気雰囲気と減圧雰囲気とを繰り返す関係上、極力その内容積が小さく構成されている。ロードロックチャンバ５には基板収容部２７が上下２段に設けられており（図２では上段のみ図示）、各基板収容部２７には、基板Ｓを支持する複数のバッファ２８が設けられている。また、ロードロックチャンバ５内には、矩形状の基板Ｓの互いに対向する角部付近に当接して位置合わせを行なうポジショナー２９が設けられている。
【００２９】
図２に示したように、真空処理システム１００の各構成部は、コンピューターとしての機能を有する制御部３０に接続されて制御される構成となっている（図１では図示を省略）。制御部３０は、ＣＰＵを備えたコントローラ３１と、ユーザーインターフェース３２と記憶部３３とを備えている。コントローラ３１は、真空処理システム１００において、例えばプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃ、搬送装置１５、搬送装置２３などの各構成部を統括して制御する。ユーザーインターフェース３２は、工程管理者が真空処理システム１００を管理するためにコマンドの入力操作等を行うキーボードや、真空処理システム１００の稼働状況を可視化して表示するディスプレイ等から構成される。記憶部３３には、真空処理システム１００で実行される各種処理をコントローラ３１の制御にて実現するための制御プログラム（ソフトウエア）や処理条件データ等が記録されたレシピが保存されている。ユーザーインターフェース３２および記憶部３３は、コントローラ３１に接続されている。
【００３０】
そして、必要に応じて、ユーザーインターフェース３２からの指示等にて任意のレシピを記憶部３３から呼び出してコントローラ３１に実行させることで、コントローラ３１の制御下で、真空処理システム１００での所望の処理が行われる。
【００３１】
前記制御プログラムや処理条件データ等のレシピは、コンピューター読み取り可能な記憶媒体、例えばＣＤ−ＲＯＭ、ハードディスク、フレキシブルディスク、フラッシュメモリなどに格納された状態のものを利用できる。あるいは、他の装置から、例えば専用回線を介して随時伝送させてオンラインで利用したりすることも可能である。
【００３２】
次に、以上のように構成された真空処理システム１００の動作について説明する。
まず、搬送装置１５の２つの基板保持具１７ａ，１７ｂを駆動させて、未処理基板を収容したカセット１１ａから基板Ｓを受け取り、ロードロックチャンバ５の上下２段の基板収容部２７のバッファ２８にそれぞれ載置する。
【００３３】
基板保持具１７ａ，１７ｂを退避させた後、ロードロックチャンバ５の大気側のゲートバルブ７ｃを閉じる。その後、ロードロックチャンバ５内を排気して、内部を所定の真空度まで減圧する。次に、搬送チャンバ３とロードロックチャンバ５との間のゲートバルブ７ｂを開いて、搬送装置２３の基板保持具１０１により、ロードロックチャンバ５の基板収容部２７に収容された基板Ｓを受け取る。この際、スライドベース１１１に対してピックベース１１３（基板保持具１０１の全体）がスライドするとともに、各ピック本体１１５に対して各可動ピック１１７がスライドすることにより、可動ピック１１７が進出又は退避し、基板Ｓの受け渡しが行われる。
【００３４】
次に、搬送装置２３の基板保持具１０１により基板Ｓを保持した状態で、ピックベース１１３及び可動ピック１１７のスライド動作と、スライドベース１１１の回転動作および昇降動作の組み合わせにより、プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃのいずれかに基板Ｓを搬入し、サセプタ２に受け渡す。プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃ内では、基板Ｓに対してエッチング等の所定の処理が施される。次に、処理済みの基板Ｓは、上記と同様のスライド動作によって、サセプタ２から搬送装置２３の基板保持具１０１に受け渡され、プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃから搬出される。
【００３５】
そして、基板Ｓは、前記とは逆の経路でロードロックチャンバ５を経て、搬送装置１５によりカセット１１ｂに収容される。なお、処理済みの基板Ｓを元のカセット１１ａに戻してもよい。
【００３６】
次に、図５〜図１０を参照しながら、本発明における拡散防止部材の詳細な構成について、基板保持具１０１に装着される拡散防止カバー１２１を例に挙げて説明する。まず、拡散防止カバー１２１が装着される基板保持具１０１の構成について説明する。図５は、図３に示す退避状態でピック本体１１５と可動ピック１１７とが重なり合った部分の支持ピック１１８の横断面を示している。基板保持具１０１のピック本体１１５は長尺な中空の角筒状をなしている。ピック本体１１５の材質としては、軽量で、かつ大型の基板Ｓを載置した状態で荷重による撓みがなるべく生じないように、高い剛性を有する材質として、例えばＣＦＲＰ（炭素繊維強化プラスチック）などが用いられている。なお、ピック本体１１５は、例えば中実な板状でもよい。
【００３７】
可動ピック１１７は、その横断面が逆Ｕ字形をなす長尺な板材である。可動ピック１１７は、基板Ｓを支持する支持面１１７ａを有する支持部１１７ｂと、支持部１１７ｂから折曲してその両側下方へ袴状に垂れ下がる一対の折曲側板部１１７ｃとを備えている。折曲側板部１１７ｃは、可動ピック１１７を軽量化しながら機械的強度を維持する目的で設けられているが、本実施の形態では、拡散防止カバー１２１とともにパーティクルを封じ込める作用も有している。可動ピック１１７の支持部１１７ｂと、一対の互いに対向する折曲側板部１１７ｃとによって形成される空間に、ピック本体１１５が挿入されている。可動ピック１１７は、ピック本体１１５と同様の材質で構成されている。
【００３８】
上記のとおり、ピック本体１１５の上面１１５ａには、その長手方向にリニアガイド１１９が設けられている。また、可動ピック１１７の支持部１１７ｂの下面１１７ｄには、係合部材としての摺動ブロック１２３が設けられている。摺動ブロック１２３は、リニアガイド１１９と係合しながら摺動し、ピック本体１１５に対する可動ピック１１７の進退方向及び進退ストロークを規定している。このように、リニアガイド１１９と摺動ブロック１２３と図示しない副駆動部とは、可動ピック１１７をスライドさせるスライド手段を構成している。
【００３９】
ピック本体１１５には、拡散防止部材としての拡散防止カバー１２１が装着されている。拡散防止カバー１２１は、底壁部１２１ａと、この底壁部１２１ａから略垂直に立ち上がる側壁部１２１ｂとを有する。また、拡散防止カバー１２１は、底壁部１２１ａから略直角に折曲して形成された固定部１２１ｃを有している。底壁部１２１ａと側壁部１２１ｂとは断面Ｌ字形をなしている。拡散防止カバー１２１の材質は、ピック本体１１５に装着できるものであれば特に限定されるものではなく、例えばアルミニウム等の金属や合成樹脂等を用いることができる。拡散防止カバー１２１は、例えば螺子や接着剤等の固定手段（図示せず）により、固定部１２１ｃにおいてピック本体１１５に固定されている。なお、拡散防止カバー１２１の固定方法は特に限定されることはなく、例えば、着脱自在に設けてもよいし、溶接などによりピック本体１１５と一体に設けてもよい。
【００４０】
拡散防止カバー１２１の底壁部１２１ａは、支持ピック１１８の長手方向と直交する方向（ピック本体１１５及び可動ピック１１７の横断方向）に略水平に張り出している。底壁部１２１ａは、摺動ブロック１２３とリニアガイド１１９とが擦れることによって発生し、落下してくるパーティクルを受け止める作用を有する。図５では、摺動ブロック１２３とリニアガイド１１９との摺動部位（スライド部位）で発生したパーティクルが、拡散防止カバー１２１の底壁部１２１ａに落下して受け止められるまでの軌跡を模式的に破線の矢印で示している。
【００４１】
拡散防止カバー１２１の側壁部１２１ｂは、ピック本体１１５の側面１１５ｂ及び可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃと略平行に、かつ、折曲側板部１１７ｃの少なくとも下端を覆うように該折曲側板部１１７ｃに近接して設けられている。拡散防止カバー１２１の側壁部１２１ｂは、底壁部１２１ａと同様にパーティクルを受け止めるとともに、パーティクルが外部へ飛散しないように封じ込める作用を有する。この目的のため、図示のように、ピック本体１１５の底面１１５ｃからの可動ピック１１７の支持面１１７ａの高さをＨ１、拡散防止カバー１２１の側壁部１２１ｂの上端の高さをＨ２、可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃの下端の高さをＨ３とした場合、Ｈ１＞Ｈ２＞Ｈ３となっている。つまり、ピック本体１１５の側面１１５ｂと拡散防止カバー１２１の側壁部１２１ｂとの間に、可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃの下端が挿入されている。そして、可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃと、拡散防止カバー１２１の側壁部１２１ｂとの間隔は狭く形成されており、パーティクルが外部へ拡散できないような隘路を形成している。このような構造にすることによって、拡散防止カバー１２１で受け止められたパーティクルが舞い上がって拡散防止カバー１２１の外側へ飛散することを防止できる。すなわち、摺動ブロック１２３とリニアガイド１１９との摺動部位と、外部の基板搬送空間との間に隘路を形成して、可動ピック１１７をスライドさせることによって発生したパーティクルが基板搬送空間へ拡散することを防止することができる。
【００４２】
なお、拡散防止カバー１２１は、底壁部１２１ａと側壁部１２１ｂとを有する形状でなく、例えば図６に示したように、断面が円弧状をなす湾曲した形状を有する拡散防止カバー１２１Ａとしてもよい。この場合も、拡散防止カバー１２１Ａの上端部は、可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃに近接して設けられ、拡散防止カバー１２１Ａで受け止めたパーティクルを内側に封じ込める構造になっている。
【００４３】
図７は、可動ピック１１７を退避させた状態の１本の支持ピック１１８の長手方向における断面図である。図示のように、拡散防止カバー１２１は、ピック本体１１５の長手方向において、リニアガイド１１９が延在している範囲をカバーできるように、リニアガイド１１９よりも長く配設されている。先に述べたように、可動ピック１１７は、摺動ブロック１２３がリニアガイド１１９と係合しながら摺動することによって進出・退避する。従って、最もパーティクルが発生しやすい摺動ブロック１２３の移動範囲をカバーできるように拡散防止カバー１２１を配設することによって、摺動部位から落下するパーティクルを受け止めることができる。なお、図７では２個の摺動ブロック１２３を有する構成を図示したが、摺動ブロック１２３は１個でも３個以上でもよい。
【００４４】
本実施の形態の基板保持具１０１では、摺動ブロック１２３とリニアガイド１１９との摺動部位で発生したパーティクルを外部へ拡散させずに封じこめるために、図８に示すように、さらに、一対の囲繞部材１２５ａ，１２５ｂを設けてもよい。一対の囲繞部材１２５ａ，１２５ｂは、ピック本体１１５の上面１１５ａに立設された平面視Ｕ字型をなす壁であり、リニアガイド１１９の基端部１１９ａと先端部１１９ｂを前後から囲むように互いに対向して配設されている。上記のとおり、可動ピック１１７は、摺動ブロック１２３がリニアガイド１１９と係合しながら摺動することによって進出・退避するため、進出動作ではリニアガイド１１９の先端部１１９ｂ側へ向けて、また、退避動作ではリニアガイド１１９の基端部１１９ａ側へ向けて、それぞれパーティクルの飛散が生じやすい。一対の囲繞部材１２５ａ，１２５ｂは、摺動部位で発生したパーティクルを受け止め、ピック本体１１５の先端部側もしくは基端部側へ落下することを防ぐ作用を有する。囲繞部材１２５ａ，１２５ｂで受け止めたパーティクルは、側方から落下しても拡散防止カバー１２１で受け止めることができる。従って、拡散防止カバー１２１は、一対の囲繞部材１２５ａ，１２５ｂの両方をカバーできる範囲でその下方に設けることがより好ましい。このように、本実施の形態の基板保持具１０１では、拡散防止カバー１２１、及び必要に応じてさらに一対の囲繞部材１２５ａ，１２５ｂを備えることによって、スライド機構の摺動部位で生じたパーティクルを効果的に封じ込め、外部への拡散を防止している。なお、囲繞部材１２５ａ，１２５ｂはどちらか片方のみを配設してもよい。
【００４５】
パーティクルの封じ込め効果をさらに増強させるための構成について、図９及び図１０を参照しながら説明する。図９は、拡散防止カバー１２１の底壁部１２１ａの内面と、側壁部１２１ｂの内面に、吸着材層としてパーティクルを吸着する粘着性シート１３１を設けている。粘着性シート１３１は、例えば粘着性を有する合成樹脂等の材質で構成することができる。粘着性シート１３１によって、拡散防止カバー１２１内に飛翔もしくは落下して来たパーティクルを吸着して捕捉することができるので、外部へのパーティクルの拡散をより確実に防ぐことができる。
【００４６】
また、図９では、拡散防止カバー１２１の内面だけでなく、ピック本体１１５の側面１１５ｂ及び退避状態でこの側面１１５ｂと対向する可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃの内面にも、粘着性シート１３１を設けている。上述のとおり、可動ピック１１７はピック本体１１５に対してスライド可能に設けられているため、可動ピック１１７を最大限進出させた状態では、ピック本体１１５の側面１１５ｂ及び可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃの内面の大部分は、互いに対向せずに、外部に対して露出した状態になる。また、進出状態では、可動ピック１１７の下方には拡散防止カバー１２１が存在しない。そのため、仮に、スライド機構の摺動部位で発生したパーティクルが、可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃの内面に付着していると、それが落下もしくは飛散してパーティクル汚染を引き起こす可能性がある。また、可動ピック１１７を進出させた状態ではピック本体１１５の側面１１５ｂが露出するため、該側面１１５ｂに付着したパーティクルがあると周囲に飛散しやすくなる。図９に示すように、ピック本体１１５の側面１１５ｂ及び可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃの内面に粘着性シート１３１を配備することによって、これらの表面に付着したパーティクルを吸着してしっかりと捕捉し、落下や飛散することを防止できる。なお、粘着性シート１３１は、配設対象となる壁面の全体を覆うように設けてもよいし、一部分にのみ設けてもよい。
【００４７】
図１０は、拡散防止カバー１２１の底壁部１２１ａの内面に、吸着材層として吸液性シート１３３を設けている。吸液性シート１３３は、例えばスポンジなどの多孔質素材や繊維素材などの液体吸収能力・液体保持能力に優れたに材質より構成することができる。摺動ブロック１２３とリニアガイド１１９との摺動部位には、円滑なスライドを可能にするため潤滑油（グリース）などを注入することがある。その潤滑油がスライド動作に伴って微小な油滴となって周囲に飛散し、基板Ｓの汚染を引き起こすことがある。吸液性シート１３３は、拡散防止カバー１２１内へ落下してきた潤滑油の微小な油滴を吸収し捕捉する。また、吸液性シート１３３は、可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃの内壁面、あるいはピック本体１１５の側面１１５ｂを伝って流下してきた油を吸収し捕捉する。
【００４８】
吸液性シート１３３は、液体を吸収し、保持する能力に優れるため、一旦捕捉した油を封じ込め、外部への拡散を防止する。その結果、油による基板Ｓの汚染を効果的に防止できる。図１０では、拡散防止カバー１２１の底壁部１２１ａ以外の側壁部１２１ｂの内面や、ピック本体１１５の側面１１５ｂ及び可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃの内面には、図９と同様にパーティクルを吸着する粘着性シート１３１を設けている。このように、吸着材層として性質の異なる粘着性シート１３１と吸液性シート１３３を組み合わせて配備することによって、パーティクル等の汚染原因物質による基板Ｓの汚染をさらに確実に予防できる。もちろん、拡散防止カバー１２１の側壁部１２１ｂの内面や、ピック本体１１５の側面１１５ｂ及び可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃの内面にも、吸液性シート１３３を配設してもよい。なお、吸液性シート１３３は配設対象となる壁面の全体を覆うようにもうけてもよいし、一部分にのみ設けてもよい。
【００４９】
上記粘着性シート１３１や吸液性シート１３３は、例えば両面粘着テープ等によって固定し、定期的に交換することによって、それ自体が汚染原因物質の発生源となることを防止できる。
【００５０】
［第２の実施の形態］
次に、図１１及び図１２を参照しながら、本発明の第２の実施の形態にかかる基板搬送装置について説明する。まず、本実施の形態の拡散防止カバーを適用可能な搬送装置２００の概略構成について、外観斜視図である図１１を参照しながら説明する。図１１では、搬送装置２００の構成を明らかにするため、拡散防止カバーを装着していない状態を示している。図１１に示すように、搬送装置２００は、基板保持具２０５がスライドベース２０１から吊り下がっている構造となっている。搬送装置２００は、主要な構成としてスライドベース２０１と、連結スライダ２０３を有してスライドベース２０１に対してスライド可能に設けられた基板保持具２０５と、スライドベース２０１を支持する複数のフレーム（図１１では２つ）２０７を備えている。なお、図１１は基板保持具２０５を退避させた状態を示している。この搬送装置２００は、図１及び図２の真空処理システム１００において、第１の実施の形態の搬送装置２３の代わりに使用できるものである。なお、搬送装置２００は、スライドベース２０１及び基板保持具２０５を多段例えば上下２段に有するものであってもよい。
【００５１】
スライドベース２０１は長尺な板状をなし、その長手方向に沿って両端にスライド部２０１ａを有している。なお、各スライド部２０１ａにはガイド（図１１では図示省略、図１２を参照）が形成されている。スライドベース２０１は、上方を横断するように配設された２つのフレーム２０７に固定され、これらによって支持されている。搬送装置２００は、図示しない駆動機構によって、２つのフレーム２０７と一体になって昇降及び旋回できるように構成されている。
【００５２】
基板保持具２０５は、上記一対の連結スライダ２０３，２０３（図１１では片側のみ図示）と、これらの連結スライダ２０３に固定されてスライドベース２０１に対してスライド可能に設けられたピックベース２０９と、このピックベース２０９に設けられた複数（例えば３本）のピック本体２１１と、各ピック本体２１１上を図示しない副駆動機構によってスライド可能に設けられた可動ピック２１３と、を有している。連結スライダ２０３は、ピックベース２０９に固定されているとともに、スライドベース２０１のスライド部２０１ａと係合することにより、基板保持具２０５全体を吊り下げている。そして、連結スライダ２０３は、スライド部２０１ａと係合しながら、図示しない主駆動機構によってピックベース２０９（つまり、基板保持具２０５）をスライドさせる。
【００５３】
ピック本体２１１と可動ピック２１３は、支持部材としての支持ピック２１５を構成している。各可動ピック２１３は、それぞれのピック本体２１１を基準にして前方（図１１の矢印Ｆの方向）へ延伸した進出状態と該進出状態から後方（図１１の矢印Ｂの方向）へ退避した退避状態との間でスライド動作が可能に設けられている。また、可動ピック２１３は、図示しない連結部により同期して前後へ進退動作を行うように構成されている。
【００５４】
ピックベース２０９は、櫛歯状に設けられた複数のピック本体２１１を確実に固定し、スライドベース２０１と可動式に連結できるものであればその構成は問わない。また、ピックベース２０９とピック本体２１１との連結構造も任意である。
【００５５】
基板Ｓは可動ピック２１３上に支持されて搬送動作が行われる。上記図示しない主駆動機構と副駆動機構によって、スライドベース２０１に対してピックベース２０９（つまり、基板保持具２０５全体）を第１のストロークで前方（図１１の矢印Ｆの方向）へ進出させるとともに、ピック本体２１１上で可動ピック２１３を第２のストロークで前方へ進出できるように構成されている。従って、可動ピック２１３上の基板Ｓは、進出時には、前方に、第１のストロークと第２のストロークの合計量で移動し、例えばプロセスチャンバ１ａ、１ｂ、１ｃのいずれかとの間で基板Ｓの受け渡しが行われる。基板保持具２０５及び可動ピック２１３を退避させる場合、基板Ｓは進出時とは逆方向（図１１の矢印Ｂの方向）に、第１のストロークと第２のストロークの合計量で移動する。
【００５６】
図１２は、拡散防止部材としての拡散防止カバー２２１を装着した状態の搬送装置２００におけるスライドベース２０１及び支持ピック２１５の長手方向に直交する方向の断面を、図１１の矢印Ｂの方向から見た拡大図である。拡散防止カバー２２１はスライドベース２０１に装着されている。つまり、本実施の形態では、スライドベース２０１が「第１の部材」であり、連結スライダ２０３を含む基板保持具２０５が「第２の部材」である。拡散防止カバー２２１は、上壁部２２１ａと、この上壁部２２１ａから略垂直に垂下する側壁部２２１ｂとを有する。上壁部２２１ａと側壁部２２１ｂとは断面Ｌ字形をなしている。拡散防止カバー２２１の材質は、第１の実施の形態と同様である。拡散防止カバー２２１は、例えば螺子や接着剤等の固定手段（図示せず）により、スライドベース２０１に固定されている。なお、拡散防止カバー２２１の固定方法は特に限定されることはなく、例えば、着脱自在に設けてもよいし、溶接などによりスライドベース２０１と一体に設けてもよい。
【００５７】
拡散防止カバー２２１の上壁部２２１ａは、スライドベース２０１の長手方向と直交する方向に略水平に張り出している。図１２に示すように、ピックベース２０９に固定された一対の連結スライダ２０３，２０３は、それぞれがスライドベース２０１の左右のスライド部２０１ａに凸設されたガイド２０１ｂと係合している。そして連結スライダ２０３は、ガイド２０１ｂに沿ってスライド移動することによって基板保持具２０５全体を水平にスライドさせる。拡散防止カバー２２１は、連結スライダ２０３とガイド２０１ｂとの摺動部位（スライド部位）で発生するパーティクルが、外部の搬送空間に拡散しないように作用する。すなわち、拡散防止カバー２２１の上壁部２２１ａ及び側壁部２２１ｂは、連結スライダ２０３の外側の上面２０３ａ及び側面２０３ｂとそれぞれ略平行に、かつ、連結スライダ２０３の少なくとも上部を覆うように近接して設けられている。拡散防止カバー２２１の上壁部２２１ａと連結スライダ２０３の上面２０３ａ、及び拡散防止カバー２２１の側壁部２２１ｂと連結スライダ２０３の側面２０３ｂとの間隔は、ともに狭く形成されており、パーティクルが外部の基板搬送空間へ拡散できないような隘路を形成している。
【００５８】
なお、拡散防止カバー２２１は、連結スライダ２０３との間で隘路を形成できる形状であればよく、例えば連結スライダの形状が湾曲している場合には、拡散防止カバーも断面が円弧状をなす湾曲した形状とすることができる。
【００５９】
本実施の形態では、さらにスライドベース２０１の左右に形成されたスライド部２０１ａを遮蔽するように、補助カバー２２３が配設されている。補助カバー２２３は、連結スライダ２０３の内側の側壁面２０３ｃと平行に、かつ近接して設けられている。補助カバー２２３は、連結スライダ２０３の移動によってガイド２０１ｂとの間で発生したパーティクルを受け止め、スライドベース２０１の下方の基板Ｓ上に落下することを防止する。
【００６０】
また、拡散防止カバー２２１及び補助カバー２２３は、図示は省略するが第１の実施の形態と同様に、スライドベース２０１のガイド２０１ｂの形成範囲をカバーできるような長さで設けられている。また、第１の実施の形態と同様に、拡散防止カバー２２１は、その内壁面に、粘着性シートや吸液性シートにより構成される吸着材層を設けてもよい。
【００６１】
また、搬送装置２００の各支持ピック２１５のピック本体２１１には、第１の実施の形態と同様の構成の拡散防止カバー１２１が設けられている。この拡散防止カバー１２１の構成と作用は第１の実施の形態で説明したとおりである。なお、本実施の形態では、支持ピック２１５の拡散防止カバー１２１の装着は任意であり、設けなくてもよい。
【００６２】
本実施の形態における他の構成及び作用は、第１の実施の形態と同様である。
【００６３】
以上、本発明の実施の形態を例示の目的で詳細に説明したが、本発明は上記実施の形態に制約されることはない。当業者は本発明の思想及び範囲を逸脱することなく多くの改変を成し得、それらも本発明の範囲内に含まれる。例えば、第２の実施の形態において、スライドベース２０１のスライド部２０１ａに拡散防止カバー２２１を設けたように、第１の実施の形態のスライドベース１１１のスライド部にも拡散防止カバーを設けても良い。また、上記実施の形態では、真空状態で基板Ｓの搬送を行う搬送装置２３を例に挙げて説明したが、拡散防止カバー１２１，２２１は、大気圧状態で基板の搬送を行う搬送装置１５にも適用可能である。
【００６４】
また、拡散防止カバー１２１，２２１を備えた本発明の基板搬送装置は、ＦＰＤ製造用のガラス基板を搬送対象とする搬送装置に限らず、例えば太陽電池用の基板など各種用途の基板を搬送対象とする搬送装置にも適用できる。
【００６５】
また、本発明の基板搬送装置の構成は、上下２段に配備されたスライド方式に限らず、１段構成でも３段構成でもよい。また、上下２段に配備された第１の実施の形態のスライド式の搬送装置２３において、上段の搬送装置２３ａのみについて拡散防止カバー１２１を設けることもできる。
【符号の説明】
【００６６】
１ａ，１ｂ，１ｃ…プロセスチャンバ、３…搬送チャンバ、５…ロードロックチャンバ、１００…真空処理システム、１０１…基板保持具、１１１…スライドベース、１１３…ピックベース、１１５…ピック本体、１１５ａ…上面、１１５ｂ…側面、１１７…可動ピック、１１７ａ…支持面、１１７ｂ…支持部、１１７ｃ…折曲側板部、１１７ｄ…下面、１１８…支持ピック、１１９…リニアガイド、１２１…拡散防止カバー、１２１ａ…底壁部、１２１ｂ…側壁部、１２１ｃ…固定部、１２３…摺動ブロック、Ｓ…基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板搬送装置および基板処理システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に代表されるＦＰＤの製造過程においては、真空下で被処理体であるガラス基板等の基板に、エッチング、成膜等の各種処理が施される。ＦＰＤの製造には、基板処理室であるプロセスチャンバを複数備えた、いわゆるマルチチャンバタイプの基板処理システムが使用されている。このような基板処理システムは、基板を搬送する基板搬送装置が配備された搬送チャンバと、この搬送チャンバの周囲に設けられた複数のプロセスチャンバとを有している。そして、搬送チャンバ内の基板搬送装置によって、基板が各プロセスチャンバ内に搬入され、あるいは、処理済みの基板が各プロセスチャンバから搬出される。基板の搬送には、通例、ピックと呼ばれる基板を支持する支持部材を複数有するフォーク状の基板保持具が使用される。
【０００３】
近年、生産効率を上げるため、ＦＰＤ用の基板の大型化が進んでおり、それを保持する基板保持具も大型化している。大型の基板を基板保持具に保持した状態で旋回等の動作を可能にするためには、搬送チャンバも大型化せざるを得ない。しかし、真空状態で基板を搬送する真空搬送チャンバの場合、大気圧に抗するだけの機械的強度を保つ必要があり、大型化は限界に近づきつつある。そこで、特許文献１では、搬送チャンバの大型化を回避するとともに、駆動機構への負担を軽減する目的で、ベース上をスライド可能に設けられた複数の第１の支持部材と、この第１の支持部材上にスライド可能に設けられた複数の第２の支持部材とを有する基板保持具が提案されている。この特許文献１の基板保持具は、２段階のスライド機構によって、基板の受け渡しに必要なストロークを確保しながら、搬送チャンバ内では第１及び第２の支持部材を退避させて基板保持具をコンパクトに収容できるため、搬送チャンバの大型化を回避できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−４６６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１のように基板保持具にスライド機構を採用する場合、真空容器の内部で部材と部材を摺動させる動作が行われるため、摺動部位でパーティクル等の汚染原因物質が発生しやすくなる懸念がある。従って、基板保持具の摺動部位でパーティクル等の汚染原因物質が発生しても、基板へ付着させないようにする予防措置を講じておく必要がある。
【０００６】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、基板搬送装置において、パーティクル等の汚染原因物質による基板の汚染を極力防止することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明の第１の視点の基板搬送装置は、基板を支持して搬送する基板搬送装置であって、第１の部材と、該第１の部材に対してスライド可能に設けられて基板を支持する第２の部材と、
前記第２の部材をスライドさせるスライド部位と外部の基板搬送空間との間に隘路を形成する形状をなし、前記スライド部位で発生した汚染原因物質が前記基板搬送空間へ拡散することを防止する拡散防止部材と、
を備えている。
【０００８】
また、本発明の第２の視点において、基板搬送装置は、複数の支持部材を有する基板保持具によって基板を支持して搬送する基板搬送装置であって、
前記支持部材は、本体と、
該本体に対してスライド可能に設けられて基板を支持する可動部材と、
前記可動部材をスライドさせるスライド部位と外部の基板搬送空間との間に隘路を形成する形状をなし、前記スライド部位で発生した汚染原因物質が前記基板搬送空間へ拡散することを防止する拡散防止部材と、
を備えている。
【０００９】
本発明の第２の視点の基板搬送装置において、拡散防止部材は、前記本体において、前記可動部材のスライド方向に直交する方向に張り出して設けられている。また前記拡散防止部材は、前記可動部材の側面の一部分または全部を覆うように設けられている。また、前記拡散防止部材は、底壁部と、該底壁部から立設され、前記可動部材の側面の一部分または全部を覆う側壁部を備えている。前記可動部材は、基板を支持する支持面を有する支持部と、該支持部から両側下方へ向けて垂れ下がる一対の折曲側板部とを備え、前記拡散防止部材は、前記折曲側板部の少なくとも下端を外側から覆うように近接して設けられている。また、前記本体は、前記可動部材をスライド可能に案内するガイド部材を備えており、前記本体の長手方向に、該ガイド部材の長さ以上の長さで前記拡散防止部材が設けられている。さらに、前記ガイド部材の端部を囲むように、一対の囲繞部材が前記本体上に設けられている。
【００１０】
また、本発明の第３の視点において、基板搬送装置は、
複数の支持部材を有する基板保持具によって基板を支持して搬送する基板搬送装置であって、
前記基板保持具を水平方向にスライド可能に支持するスライドベースと、
前記基板保持具をスライドさせるスライド部位と外部の基板搬送空間との間に隘路を形成する形状をなし、前記スライド部位で発生した汚染原因物質が前記基板搬送空間へ拡散することを防止する拡散防止部材と、
を備えている。
【００１１】
本発明の第３の視点の基板搬送装置において、前記拡散防止部材は、前記スライドベースにおいて、前記基板保持具のスライド方向に直交する方向に張り出して設けられている。また、前記基板保持具は、前記スライドベースとの間をスライド可能に連結する連結部材を有している。また、前記拡散防止部材は、前記連結部材の側面の一部分または全部を覆うように近接して設けられている。また、前記スライドベースは、前記連結部材をスライド可能に案内するガイド部材を備えており、前記スライドベースの長手方向に、該ガイド部材の長さ以上の長さで前記拡散防止部材が設けられている。
【００１２】
本発明の基板搬送装置において、前記拡散防止部材の内壁面に、吸着材層を備えている。この場合、前記吸着材層は、粘着性部材により構成されていてもよいし、吸液性部材により構成されていてもよい。
【００１３】
本発明の基板処理システムは、上記いずれかの基板搬送装置を備えている。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の基板搬送装置によれば、スライド部位と外部の基板搬送空間との間に隘路を形成する形状をなし、前記スライド部位で発生した汚染原因物質が前記基板搬送空間へ拡散することを防止する拡散防止部材を備えているので、スライド部位で発生するパーティクル等の汚染原因物質をこの拡散防止部材で受け止め、外部への拡散を防止できる。従って、基板の搬送に用いる基板搬送装置が発生源となる基板へのパーティクル等による汚染を予防し、信頼性の高い基板処理が実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】真空処理システムを概略的に示す斜視図である。
【図２】図１の真空処理システムの平面図である。
【図３】第１の実施の形態の搬送装置において基板保持具を退避させた状態を示す斜視図である。
【図４】第１の実施の形態の搬送装置において基板保持具を進出させた状態を示す斜視図である。
【図５】第１の実施の形態の拡散防止カバーを備えた支持ピックの断面図である。
【図６】変形例の拡散防止カバーを備えた支持ピックの断面図である。
【図７】支持ピックの長手方向における断面図である。
【図８】囲繞部材の配設例を説明する図面である。
【図９】吸着材層を設けた拡散防止部材の断面図である。
【図１０】吸着材層を設けた拡散防止部材の別の例の断面図である。
【図１１】第２の実施の形態の搬送装置において基板保持具を退避させた状態を示す斜視図である。
【図１２】第２の実施の形態の拡散防止カバーを備えた支持ピックの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
［第１の実施の形態］
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。ここでは、本発明の一実施の形態の基板搬送装置および該基板搬送装置を備えた基板処理システムを例に挙げて説明を行なう。図１は、基板処理システムとしての真空処理システム１００を概略的に示す斜視図であり、図２は、各チャンバの内部を概略的に示す平面図である。この真空処理システム１００は、複数のプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃを有するマルチチャンバ構造をなしている。真空処理システム１００は、例えばＦＰＤ用のガラス基板（以下、単に「基板」と記す）Ｓに対してプラズマ処理を行なうための処理システムとして構成されている。なお、ＦＰＤとしては、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、エレクトロルミネセンス（Electro Luminescence；ＥＬ）ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等が例示される。
【００１７】
真空処理システム１００では、複数の大型チャンバが平面視十字形に連結されている。中央部には搬送チャンバ３が配置され、その三方の側面に隣接して基板Ｓに対してプラズマ処理を行なう３つのプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃが配設されている。また、搬送チャンバ３の残りの一方の側面に隣接してロードロックチャンバ５が配設されている。これら３つのプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃ、搬送チャンバ３およびロードロックチャンバ５は、いずれも真空チャンバとして構成されている。搬送チャンバ３と各プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃとの間には図示しない開口部が設けられており、該開口部には、開閉機能を有するゲートバルブ７ａがそれぞれ配設されている。また、搬送チャンバ３とロードロックチャンバ５との間には、ゲートバルブ７ｂが配設されている。ゲートバルブ７ａ，７ｂは、閉状態で各チャンバの間を気密にシールするとともに、開状態でチャンバ間を連通させて基板Ｓの移送を可能にしている。また、ロードロックチャンバ５と外部の大気雰囲気との間にもゲートバルブ７ｃが配備されており、閉状態でロードロックチャンバ５の気密性を維持するとともに開状態でロードロックチャンバ５内と外部との間で基板Ｓの移送を可能にしている。
【００１８】
ロードロックチャンバ５の外側には、２つのカセットインデクサ９ａ，９ｂが設けられている。各カセットインデクサ９ａ，９ｂの上には、それぞれ基板Ｓを収容するカセット１１ａ，１１ｂが載置されている。各カセット１１ａ，１１ｂ内には、基板Ｓが、上下に間隔を空けて多段に配置されている。また、各カセット１１ａ，１１ｂは、昇降機構部１３ａ，１３ｂによりそれぞれ昇降自在に構成されている。本実施の形態では、例えばカセット１１ａには未処理基板を収容し、他方のカセット１１ｂには処理済み基板を収容できるように構成されている。
【００１９】
これら２つのカセット１１ａ，１１ｂの間には、基板Ｓを搬送するための搬送装置１５が設けられている。この搬送装置１５は、上下２段に設けられた基板保持具１７ａおよび１７ｂと、これら基板保持具１７ａ，１７ｂを進出、退避および旋回可能に支持する駆動部１９と、この駆動部１９を支持する支持台２１とを備えている。
【００２０】
プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃは、その内部空間を所定の減圧雰囲気（真空状態）に維持できるように構成されている。各プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃ内には、図２に示したように、基板Ｓを載置する載置台としてのサセプタ２が配備されている。そして、各プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃでは、基板Ｓをサセプタ２に載置した状態で、基板Ｓに対して、例えば真空条件でのエッチング処理、アッシング処理、成膜処理などのプラズマ処理が行なわれる。
【００２１】
本実施形態では、３つのプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃで同種の処理を行ってもよいし、プロセスチャンバ毎に異なる種類の処理を行ってもよい。なお、プロセスチャンバの数は３つに限らず、４つ以上であってもよい。
【００２２】
搬送チャンバ３は、真空処理室であるプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃと同様に所定の減圧雰囲気に保持できるように構成されている。搬送チャンバ３の中には、図２に示したように、搬送装置２３が配設されている。そして、搬送装置２３により、３つのプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃおよびロードロックチャンバ５の間で基板Ｓの搬送が行われる。
【００２３】
搬送装置２３は、上下２段に設けられた搬送装置を備え、それぞれ独立して基板Ｓの出し入れを行うことが出来るように構成されている。図３及び図４に、フォーク状の基板保持具１０１を有する上段の搬送装置２３ａの概略構成を示した。図３は基板保持具１０１を退避させた状態を示し、図４は基板保持具１０１を進出させた状態を示している。搬送装置２３ａは、主要な構成として、スライドベース１１１と、スライドベース１１１に対してスライド可能に設けられた基板保持具１０１とを有している。基板保持具１０１は、スライドベース１１１上を図示しない主駆動機構によってスライド可能に設けられたピックベース１１３と、このピックベース１１３に設けられた「第１の部材」としての複数（図３，４では３本）のピック本体１１５と、このピック本体１１５上を図示しない副駆動機構によってスライド可能に設けられた「第２の部材」としての複数（図３，４では３本）の可動ピック１１７と、を有している。ピック本体１１５と可動ピック１１７は、支持部材としての支持ピック１１８を構成している。各可動ピック１１７は、それぞれのピック本体１１５を基準にして前方へ延伸した進出状態と該進出状態から退避した退避状態との間でスライド動作が可能に設けられている。また、可動ピック１１７は、図示しない連結部により同期して前後へ進退動作を行うように構成されている。
【００２４】
ピックベース１１３は、櫛歯状に設けられた複数のピック本体１１５を確実に固定し、スライドベース１１１と可動式に連結できるものであればその構成は問わない。また、ピックベース１１３とピック本体１１５との連結構造も任意である。
【００２５】
基板Ｓは可動ピック１１７上に支持されて搬送動作が行われる。上記図示しない主駆動機構と副駆動機構は連動しており、スライドベース１１１上でピックベース１１３（つまり、基板保持具１０１全体）を第１のストロークで前方へ進出させる動作と連動して、ピック本体１１５上で可動ピック１１７が第２のストロークで前方へ進出するようになっている。従って、可動ピック１１７上の基板Ｓは、進出時には、図３中の矢印で示す方向に、第１のストロークと第２のストロークの合計量で移動し、例えばプロセスチャンバ１ａ、１ｂ、１ｃのいずれかとの間で基板Ｓの受け渡しが行われる。基板保持具１０１及び可動ピック１１７を退避させる場合、基板Ｓは進出時とは逆方向（図４中の矢印で示す方向）に、第１のストロークと第２のストロークの合計量で移動する。
【００２６】
ピック本体１１５の上面１１５ａには、ガイド部材としてのリニアガイド１１９が設けられている。可動ピック１１７は、このリニアガイド１１９と係合する係合部材（ここでは図示を省略）を有しているため、リニアガイド１１９によって直線方向に案内されつつ進退可能になっている。ピック本体１１５には、上記リニアガイド１１９と係合部材との摺動により発生する可能性があるパーティクル等の汚染原因物質（以下、単に「パーティクル」と記すことがある）を受け止め、拡散を防止するための拡散防止カバー１２１が設けられている。
拡散防止カバー１２１の詳細な構成については後述する。
【００２７】
図３及び図４では上段の搬送装置２３ａについて説明したが、下段の搬送装置（図示省略）も上段の搬送装置２３ａと同様の構成を有している。そして、上下の搬送装置２３は、図示しない連結機構によって連結され、一体となって水平方向に回転できるように構成されている。また、上下二段に構成された搬送装置２３には、ピックベース１１３およびスライドピック本体１１５のスライド動作や、スライドベース１１１の回転動作および昇降動作を行なう図示しない駆動ユニットに連結されている。なお、スライドベース１１１上でピックベース１１３をスライドさせる主駆動機構と、ピック本体１１５上で可動ピック１１７をスライドさせる副駆動機構とは、互いに独立して駆動する構成でもよい。
【００２８】
ロードロックチャンバ５は、プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃおよび搬送チャンバ３と同様に所定の減圧雰囲気に保持できるように構成されている。ロードロックチャンバ５は、大気雰囲気にあるカセット１１ａ，１１ｂと減圧雰囲気の搬送チャンバ３との間で基板Ｓの授受を行うためのものである。ロードロックチャンバ５は、大気雰囲気と減圧雰囲気とを繰り返す関係上、極力その内容積が小さく構成されている。ロードロックチャンバ５には基板収容部２７が上下２段に設けられており（図２では上段のみ図示）、各基板収容部２７には、基板Ｓを支持する複数のバッファ２８が設けられている。また、ロードロックチャンバ５内には、矩形状の基板Ｓの互いに対向する角部付近に当接して位置合わせを行なうポジショナー２９が設けられている。
【００２９】
図２に示したように、真空処理システム１００の各構成部は、コンピューターとしての機能を有する制御部３０に接続されて制御される構成となっている（図１では図示を省略）。制御部３０は、ＣＰＵを備えたコントローラ３１と、ユーザーインターフェース３２と記憶部３３とを備えている。コントローラ３１は、真空処理システム１００において、例えばプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃ、搬送装置１５、搬送装置２３などの各構成部を統括して制御する。ユーザーインターフェース３２は、工程管理者が真空処理システム１００を管理するためにコマンドの入力操作等を行うキーボードや、真空処理システム１００の稼働状況を可視化して表示するディスプレイ等から構成される。記憶部３３には、真空処理システム１００で実行される各種処理をコントローラ３１の制御にて実現するための制御プログラム（ソフトウエア）や処理条件データ等が記録されたレシピが保存されている。ユーザーインターフェース３２および記憶部３３は、コントローラ３１に接続されている。
【００３０】
そして、必要に応じて、ユーザーインターフェース３２からの指示等にて任意のレシピを記憶部３３から呼び出してコントローラ３１に実行させることで、コントローラ３１の制御下で、真空処理システム１００での所望の処理が行われる。
【００３１】
前記制御プログラムや処理条件データ等のレシピは、コンピューター読み取り可能な記憶媒体、例えばＣＤ−ＲＯＭ、ハードディスク、フレキシブルディスク、フラッシュメモリなどに格納された状態のものを利用できる。あるいは、他の装置から、例えば専用回線を介して随時伝送させてオンラインで利用したりすることも可能である。
【００３２】
次に、以上のように構成された真空処理システム１００の動作について説明する。
まず、搬送装置１５の２つの基板保持具１７ａ，１７ｂを駆動させて、未処理基板を収容したカセット１１ａから基板Ｓを受け取り、ロードロックチャンバ５の上下２段の基板収容部２７のバッファ２８にそれぞれ載置する。
【００３３】
基板保持具１７ａ，１７ｂを退避させた後、ロードロックチャンバ５の大気側のゲートバルブ７ｃを閉じる。その後、ロードロックチャンバ５内を排気して、内部を所定の真空度まで減圧する。次に、搬送チャンバ３とロードロックチャンバ５との間のゲートバルブ７ｂを開いて、搬送装置２３の基板保持具１０１により、ロードロックチャンバ５の基板収容部２７に収容された基板Ｓを受け取る。この際、スライドベース１１１に対してピックベース１１３（基板保持具１０１の全体）がスライドするとともに、各ピック本体１１５に対して各可動ピック１１７がスライドすることにより、可動ピック１１７が進出又は退避し、基板Ｓの受け渡しが行われる。
【００３４】
次に、搬送装置２３の基板保持具１０１により基板Ｓを保持した状態で、ピックベース１１３及び可動ピック１１７のスライド動作と、スライドベース１１１の回転動作および昇降動作の組み合わせにより、プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃのいずれかに基板Ｓを搬入し、サセプタ２に受け渡す。プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃ内では、基板Ｓに対してエッチング等の所定の処理が施される。次に、処理済みの基板Ｓは、上記と同様のスライド動作によって、サセプタ２から搬送装置２３の基板保持具１０１に受け渡され、プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃから搬出される。
【００３５】
そして、基板Ｓは、前記とは逆の経路でロードロックチャンバ５を経て、搬送装置１５によりカセット１１ｂに収容される。なお、処理済みの基板Ｓを元のカセット１１ａに戻してもよい。
【００３６】
次に、図５〜図１０を参照しながら、本発明における拡散防止部材の詳細な構成について、基板保持具１０１に装着される拡散防止カバー１２１を例に挙げて説明する。まず、拡散防止カバー１２１が装着される基板保持具１０１の構成について説明する。図５は、図３に示す退避状態でピック本体１１５と可動ピック１１７とが重なり合った部分の支持ピック１１８の横断面を示している。基板保持具１０１のピック本体１１５は長尺な中空の角筒状をなしている。ピック本体１１５の材質としては、軽量で、かつ大型の基板Ｓを載置した状態で荷重による撓みがなるべく生じないように、高い剛性を有する材質として、例えばＣＦＲＰ（炭素繊維強化プラスチック）などが用いられている。なお、ピック本体１１５は、例えば中実な板状でもよい。
【００３７】
可動ピック１１７は、その横断面が逆Ｕ字形をなす長尺な板材である。可動ピック１１７は、基板Ｓを支持する支持面１１７ａを有する支持部１１７ｂと、支持部１１７ｂから折曲してその両側下方へ袴状に垂れ下がる一対の折曲側板部１１７ｃとを備えている。折曲側板部１１７ｃは、可動ピック１１７を軽量化しながら機械的強度を維持する目的で設けられているが、本実施の形態では、拡散防止カバー１２１とともにパーティクルを封じ込める作用も有している。可動ピック１１７の支持部１１７ｂと、一対の互いに対向する折曲側板部１１７ｃとによって形成される空間に、ピック本体１１５が挿入されている。可動ピック１１７は、ピック本体１１５と同様の材質で構成されている。
【００３８】
上記のとおり、ピック本体１１５の上面１１５ａには、その長手方向にリニアガイド１１９が設けられている。また、可動ピック１１７の支持部１１７ｂの下面１１７ｄには、係合部材としての摺動ブロック１２３が設けられている。摺動ブロック１２３は、リニアガイド１１９と係合しながら摺動し、ピック本体１１５に対する可動ピック１１７の進退方向及び進退ストロークを規定している。このように、リニアガイド１１９と摺動ブロック１２３と図示しない副駆動部とは、可動ピック１１７をスライドさせるスライド手段を構成している。
【００３９】
ピック本体１１５には、拡散防止部材としての拡散防止カバー１２１が装着されている。拡散防止カバー１２１は、底壁部１２１ａと、この底壁部１２１ａから略垂直に立ち上がる側壁部１２１ｂとを有する。また、拡散防止カバー１２１は、底壁部１２１ａから略直角に折曲して形成された固定部１２１ｃを有している。底壁部１２１ａと側壁部１２１ｂとは断面Ｌ字形をなしている。拡散防止カバー１２１の材質は、ピック本体１１５に装着できるものであれば特に限定されるものではなく、例えばアルミニウム等の金属や合成樹脂等を用いることができる。拡散防止カバー１２１は、例えば螺子や接着剤等の固定手段（図示せず）により、固定部１２１ｃにおいてピック本体１１５に固定されている。なお、拡散防止カバー１２１の固定方法は特に限定されることはなく、例えば、着脱自在に設けてもよいし、溶接などによりピック本体１１５と一体に設けてもよい。
【００４０】
拡散防止カバー１２１の底壁部１２１ａは、支持ピック１１８の長手方向と直交する方向（ピック本体１１５及び可動ピック１１７の横断方向）に略水平に張り出している。底壁部１２１ａは、摺動ブロック１２３とリニアガイド１１９とが擦れることによって発生し、落下してくるパーティクルを受け止める作用を有する。図５では、摺動ブロック１２３とリニアガイド１１９との摺動部位（スライド部位）で発生したパーティクルが、拡散防止カバー１２１の底壁部１２１ａに落下して受け止められるまでの軌跡を模式的に破線の矢印で示している。
【００４１】
拡散防止カバー１２１の側壁部１２１ｂは、ピック本体１１５の側面１１５ｂ及び可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃと略平行に、かつ、折曲側板部１１７ｃの少なくとも下端を覆うように該折曲側板部１１７ｃに近接して設けられている。拡散防止カバー１２１の側壁部１２１ｂは、底壁部１２１ａと同様にパーティクルを受け止めるとともに、パーティクルが外部へ飛散しないように封じ込める作用を有する。この目的のため、図示のように、ピック本体１１５の底面１１５ｃからの可動ピック１１７の支持面１１７ａの高さをＨ１、拡散防止カバー１２１の側壁部１２１ｂの上端の高さをＨ２、可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃの下端の高さをＨ３とした場合、Ｈ１＞Ｈ２＞Ｈ３となっている。つまり、ピック本体１１５の側面１１５ｂと拡散防止カバー１２１の側壁部１２１ｂとの間に、可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃの下端が挿入されている。そして、可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃと、拡散防止カバー１２１の側壁部１２１ｂとの間隔は狭く形成されており、パーティクルが外部へ拡散できないような隘路を形成している。このような構造にすることによって、拡散防止カバー１２１で受け止められたパーティクルが舞い上がって拡散防止カバー１２１の外側へ飛散することを防止できる。すなわち、摺動ブロック１２３とリニアガイド１１９との摺動部位と、外部の基板搬送空間との間に隘路を形成して、可動ピック１１７をスライドさせることによって発生したパーティクルが基板搬送空間へ拡散することを防止することができる。
【００４２】
なお、拡散防止カバー１２１は、底壁部１２１ａと側壁部１２１ｂとを有する形状でなく、例えば図６に示したように、断面が円弧状をなす湾曲した形状を有する拡散防止カバー１２１Ａとしてもよい。この場合も、拡散防止カバー１２１Ａの上端部は、可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃに近接して設けられ、拡散防止カバー１２１Ａで受け止めたパーティクルを内側に封じ込める構造になっている。
【００４３】
図７は、可動ピック１１７を退避させた状態の１本の支持ピック１１８の長手方向における断面図である。図示のように、拡散防止カバー１２１は、ピック本体１１５の長手方向において、リニアガイド１１９が延在している範囲をカバーできるように、リニアガイド１１９よりも長く配設されている。先に述べたように、可動ピック１１７は、摺動ブロック１２３がリニアガイド１１９と係合しながら摺動することによって進出・退避する。従って、最もパーティクルが発生しやすい摺動ブロック１２３の移動範囲をカバーできるように拡散防止カバー１２１を配設することによって、摺動部位から落下するパーティクルを受け止めることができる。なお、図７では２個の摺動ブロック１２３を有する構成を図示したが、摺動ブロック１２３は１個でも３個以上でもよい。
【００４４】
本実施の形態の基板保持具１０１では、摺動ブロック１２３とリニアガイド１１９との摺動部位で発生したパーティクルを外部へ拡散させずに封じこめるために、図８に示すように、さらに、一対の囲繞部材１２５ａ，１２５ｂを設けてもよい。一対の囲繞部材１２５ａ，１２５ｂは、ピック本体１１５の上面１１５ａに立設された平面視Ｕ字型をなす壁であり、リニアガイド１１９の基端部１１９ａと先端部１１９ｂを前後から囲むように互いに対向して配設されている。上記のとおり、可動ピック１１７は、摺動ブロック１２３がリニアガイド１１９と係合しながら摺動することによって進出・退避するため、進出動作ではリニアガイド１１９の先端部１１９ｂ側へ向けて、また、退避動作ではリニアガイド１１９の基端部１１９ａ側へ向けて、それぞれパーティクルの飛散が生じやすい。一対の囲繞部材１２５ａ，１２５ｂは、摺動部位で発生したパーティクルを受け止め、ピック本体１１５の先端部側もしくは基端部側へ落下することを防ぐ作用を有する。囲繞部材１２５ａ，１２５ｂで受け止めたパーティクルは、側方から落下しても拡散防止カバー１２１で受け止めることができる。従って、拡散防止カバー１２１は、一対の囲繞部材１２５ａ，１２５ｂの両方をカバーできる範囲でその下方に設けることがより好ましい。このように、本実施の形態の基板保持具１０１では、拡散防止カバー１２１、及び必要に応じてさらに一対の囲繞部材１２５ａ，１２５ｂを備えることによって、スライド機構の摺動部位で生じたパーティクルを効果的に封じ込め、外部への拡散を防止している。なお、囲繞部材１２５ａ，１２５ｂはどちらか片方のみを配設してもよい。
【００４５】
パーティクルの封じ込め効果をさらに増強させるための構成について、図９及び図１０を参照しながら説明する。図９は、拡散防止カバー１２１の底壁部１２１ａの内面と、側壁部１２１ｂの内面に、吸着材層としてパーティクルを吸着する粘着性シート１３１を設けている。粘着性シート１３１は、例えば粘着性を有する合成樹脂等の材質で構成することができる。粘着性シート１３１によって、拡散防止カバー１２１内に飛翔もしくは落下して来たパーティクルを吸着して捕捉することができるので、外部へのパーティクルの拡散をより確実に防ぐことができる。
【００４６】
また、図９では、拡散防止カバー１２１の内面だけでなく、ピック本体１１５の側面１１５ｂ及び退避状態でこの側面１１５ｂと対向する可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃの内面にも、粘着性シート１３１を設けている。上述のとおり、可動ピック１１７はピック本体１１５に対してスライド可能に設けられているため、可動ピック１１７を最大限進出させた状態では、ピック本体１１５の側面１１５ｂ及び可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃの内面の大部分は、互いに対向せずに、外部に対して露出した状態になる。また、進出状態では、可動ピック１１７の下方には拡散防止カバー１２１が存在しない。そのため、仮に、スライド機構の摺動部位で発生したパーティクルが、可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃの内面に付着していると、それが落下もしくは飛散してパーティクル汚染を引き起こす可能性がある。また、可動ピック１１７を進出させた状態ではピック本体１１５の側面１１５ｂが露出するため、該側面１１５ｂに付着したパーティクルがあると周囲に飛散しやすくなる。図９に示すように、ピック本体１１５の側面１１５ｂ及び可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃの内面に粘着性シート１３１を配備することによって、これらの表面に付着したパーティクルを吸着してしっかりと捕捉し、落下や飛散することを防止できる。なお、粘着性シート１３１は、配設対象となる壁面の全体を覆うように設けてもよいし、一部分にのみ設けてもよい。
【００４７】
図１０は、拡散防止カバー１２１の底壁部１２１ａの内面に、吸着材層として吸液性シート１３３を設けている。吸液性シート１３３は、例えばスポンジなどの多孔質素材や繊維素材などの液体吸収能力・液体保持能力に優れたに材質より構成することができる。摺動ブロック１２３とリニアガイド１１９との摺動部位には、円滑なスライドを可能にするため潤滑油（グリース）などを注入することがある。その潤滑油がスライド動作に伴って微小な油滴となって周囲に飛散し、基板Ｓの汚染を引き起こすことがある。吸液性シート１３３は、拡散防止カバー１２１内へ落下してきた潤滑油の微小な油滴を吸収し捕捉する。また、吸液性シート１３３は、可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃの内壁面、あるいはピック本体１１５の側面１１５ｂを伝って流下してきた油を吸収し捕捉する。
【００４８】
吸液性シート１３３は、液体を吸収し、保持する能力に優れるため、一旦捕捉した油を封じ込め、外部への拡散を防止する。その結果、油による基板Ｓの汚染を効果的に防止できる。図１０では、拡散防止カバー１２１の底壁部１２１ａ以外の側壁部１２１ｂの内面や、ピック本体１１５の側面１１５ｂ及び可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃの内面には、図９と同様にパーティクルを吸着する粘着性シート１３１を設けている。このように、吸着材層として性質の異なる粘着性シート１３１と吸液性シート１３３を組み合わせて配備することによって、パーティクル等の汚染原因物質による基板Ｓの汚染をさらに確実に予防できる。もちろん、拡散防止カバー１２１の側壁部１２１ｂの内面や、ピック本体１１５の側面１１５ｂ及び可動ピック１１７の折曲側板部１１７ｃの内面にも、吸液性シート１３３を配設してもよい。なお、吸液性シート１３３は配設対象となる壁面の全体を覆うようにもうけてもよいし、一部分にのみ設けてもよい。
【００４９】
上記粘着性シート１３１や吸液性シート１３３は、例えば両面粘着テープ等によって固定し、定期的に交換することによって、それ自体が汚染原因物質の発生源となることを防止できる。
【００５０】
［第２の実施の形態］
次に、図１１及び図１２を参照しながら、本発明の第２の実施の形態にかかる基板搬送装置について説明する。まず、本実施の形態の拡散防止カバーを適用可能な搬送装置２００の概略構成について、外観斜視図である図１１を参照しながら説明する。図１１では、搬送装置２００の構成を明らかにするため、拡散防止カバーを装着していない状態を示している。図１１に示すように、搬送装置２００は、基板保持具２０５がスライドベース２０１から吊り下がっている構造となっている。搬送装置２００は、主要な構成としてスライドベース２０１と、連結スライダ２０３を有してスライドベース２０１に対してスライド可能に設けられた基板保持具２０５と、スライドベース２０１を支持する複数のフレーム（図１１では２つ）２０７を備えている。なお、図１１は基板保持具２０５を退避させた状態を示している。この搬送装置２００は、図１及び図２の真空処理システム１００において、第１の実施の形態の搬送装置２３の代わりに使用できるものである。なお、搬送装置２００は、スライドベース２０１及び基板保持具２０５を多段例えば上下２段に有するものであってもよい。
【００５１】
スライドベース２０１は長尺な板状をなし、その長手方向に沿って両端にスライド部２０１ａを有している。なお、各スライド部２０１ａにはガイド（図１１では図示省略、図１２を参照）が形成されている。スライドベース２０１は、上方を横断するように配設された２つのフレーム２０７に固定され、これらによって支持されている。搬送装置２００は、図示しない駆動機構によって、２つのフレーム２０７と一体になって昇降及び旋回できるように構成されている。
【００５２】
基板保持具２０５は、上記一対の連結スライダ２０３，２０３（図１１では片側のみ図示）と、これらの連結スライダ２０３に固定されてスライドベース２０１に対してスライド可能に設けられたピックベース２０９と、このピックベース２０９に設けられた複数（例えば３本）のピック本体２１１と、各ピック本体２１１上を図示しない副駆動機構によってスライド可能に設けられた可動ピック２１３と、を有している。連結スライダ２０３は、ピックベース２０９に固定されているとともに、スライドベース２０１のスライド部２０１ａと係合することにより、基板保持具２０５全体を吊り下げている。そして、連結スライダ２０３は、スライド部２０１ａと係合しながら、図示しない主駆動機構によってピックベース２０９（つまり、基板保持具２０５）をスライドさせる。
【００５３】
ピック本体２１１と可動ピック２１３は、支持部材としての支持ピック２１５を構成している。各可動ピック２１３は、それぞれのピック本体２１１を基準にして前方（図１１の矢印Ｆの方向）へ延伸した進出状態と該進出状態から後方（図１１の矢印Ｂの方向）へ退避した退避状態との間でスライド動作が可能に設けられている。また、可動ピック２１３は、図示しない連結部により同期して前後へ進退動作を行うように構成されている。
【００５４】
ピックベース２０９は、櫛歯状に設けられた複数のピック本体２１１を確実に固定し、スライドベース２０１と可動式に連結できるものであればその構成は問わない。また、ピックベース２０９とピック本体２１１との連結構造も任意である。
【００５５】
基板Ｓは可動ピック２１３上に支持されて搬送動作が行われる。上記図示しない主駆動機構と副駆動機構によって、スライドベース２０１に対してピックベース２０９（つまり、基板保持具２０５全体）を第１のストロークで前方（図１１の矢印Ｆの方向）へ進出させるとともに、ピック本体２１１上で可動ピック２１３を第２のストロークで前方へ進出できるように構成されている。従って、可動ピック２１３上の基板Ｓは、進出時には、前方に、第１のストロークと第２のストロークの合計量で移動し、例えばプロセスチャンバ１ａ、１ｂ、１ｃのいずれかとの間で基板Ｓの受け渡しが行われる。基板保持具２０５及び可動ピック２１３を退避させる場合、基板Ｓは進出時とは逆方向（図１１の矢印Ｂの方向）に、第１のストロークと第２のストロークの合計量で移動する。
【００５６】
図１２は、拡散防止部材としての拡散防止カバー２２１を装着した状態の搬送装置２００におけるスライドベース２０１及び支持ピック２１５の長手方向に直交する方向の断面を、図１１の矢印Ｂの方向から見た拡大図である。拡散防止カバー２２１はスライドベース２０１に装着されている。つまり、本実施の形態では、スライドベース２０１が「第１の部材」であり、連結スライダ２０３を含む基板保持具２０５が「第２の部材」である。拡散防止カバー２２１は、上壁部２２１ａと、この上壁部２２１ａから略垂直に垂下する側壁部２２１ｂとを有する。上壁部２２１ａと側壁部２２１ｂとは断面Ｌ字形をなしている。拡散防止カバー２２１の材質は、第１の実施の形態と同様である。拡散防止カバー２２１は、例えば螺子や接着剤等の固定手段（図示せず）により、スライドベース２０１に固定されている。なお、拡散防止カバー２２１の固定方法は特に限定されることはなく、例えば、着脱自在に設けてもよいし、溶接などによりスライドベース２０１と一体に設けてもよい。
【００５７】
拡散防止カバー２２１の上壁部２２１ａは、スライドベース２０１の長手方向と直交する方向に略水平に張り出している。図１２に示すように、ピックベース２０９に固定された一対の連結スライダ２０３，２０３は、それぞれがスライドベース２０１の左右のスライド部２０１ａに凸設されたガイド２０１ｂと係合している。そして連結スライダ２０３は、ガイド２０１ｂに沿ってスライド移動することによって基板保持具２０５全体を水平にスライドさせる。拡散防止カバー２２１は、連結スライダ２０３とガイド２０１ｂとの摺動部位（スライド部位）で発生するパーティクルが、外部の搬送空間に拡散しないように作用する。すなわち、拡散防止カバー２２１の上壁部２２１ａ及び側壁部２２１ｂは、連結スライダ２０３の外側の上面２０３ａ及び側面２０３ｂとそれぞれ略平行に、かつ、連結スライダ２０３の少なくとも上部を覆うように近接して設けられている。拡散防止カバー２２１の上壁部２２１ａと連結スライダ２０３の上面２０３ａ、及び拡散防止カバー２２１の側壁部２２１ｂと連結スライダ２０３の側面２０３ｂとの間隔は、ともに狭く形成されており、パーティクルが外部の基板搬送空間へ拡散できないような隘路を形成している。
【００５８】
なお、拡散防止カバー２２１は、連結スライダ２０３との間で隘路を形成できる形状であればよく、例えば連結スライダの形状が湾曲している場合には、拡散防止カバーも断面が円弧状をなす湾曲した形状とすることができる。
【００５９】
本実施の形態では、さらにスライドベース２０１の左右に形成されたスライド部２０１ａを遮蔽するように、補助カバー２２３が配設されている。補助カバー２２３は、連結スライダ２０３の内側の側壁面２０３ｃと平行に、かつ近接して設けられている。補助カバー２２３は、連結スライダ２０３の移動によってガイド２０１ｂとの間で発生したパーティクルを受け止め、スライドベース２０１の下方の基板Ｓ上に落下することを防止する。
【００６０】
また、拡散防止カバー２２１及び補助カバー２２３は、図示は省略するが第１の実施の形態と同様に、スライドベース２０１のガイド２０１ｂの形成範囲をカバーできるような長さで設けられている。また、第１の実施の形態と同様に、拡散防止カバー２２１は、その内壁面に、粘着性シートや吸液性シートにより構成される吸着材層を設けてもよい。
【００６１】
また、搬送装置２００の各支持ピック２１５のピック本体２１１には、第１の実施の形態と同様の構成の拡散防止カバー１２１が設けられている。この拡散防止カバー１２１の構成と作用は第１の実施の形態で説明したとおりである。なお、本実施の形態では、支持ピック２１５の拡散防止カバー１２１の装着は任意であり、設けなくてもよい。
【００６２】
本実施の形態における他の構成及び作用は、第１の実施の形態と同様である。
【００６３】
以上、本発明の実施の形態を例示の目的で詳細に説明したが、本発明は上記実施の形態に制約されることはない。当業者は本発明の思想及び範囲を逸脱することなく多くの改変を成し得、それらも本発明の範囲内に含まれる。例えば、第２の実施の形態において、スライドベース２０１のスライド部２０１ａに拡散防止カバー２２１を設けたように、第１の実施の形態のスライドベース１１１のスライド部にも拡散防止カバーを設けても良い。また、上記実施の形態では、真空状態で基板Ｓの搬送を行う搬送装置２３を例に挙げて説明したが、拡散防止カバー１２１，２２１は、大気圧状態で基板の搬送を行う搬送装置１５にも適用可能である。
【００６４】
また、拡散防止カバー１２１，２２１を備えた本発明の基板搬送装置は、ＦＰＤ製造用のガラス基板を搬送対象とする搬送装置に限らず、例えば太陽電池用の基板など各種用途の基板を搬送対象とする搬送装置にも適用できる。
【００６５】
また、本発明の基板搬送装置の構成は、上下２段に配備されたスライド方式に限らず、１段構成でも３段構成でもよい。また、上下２段に配備された第１の実施の形態のスライド式の搬送装置２３において、上段の搬送装置２３ａのみについて拡散防止カバー１２１を設けることもできる。
【符号の説明】
【００６６】
１ａ，１ｂ，１ｃ…プロセスチャンバ、３…搬送チャンバ、５…ロードロックチャンバ、１００…真空処理システム、１０１…基板保持具、１１１…スライドベース、１１３…ピックベース、１１５…ピック本体、１１５ａ…上面、１１５ｂ…側面、１１７…可動ピック、１１７ａ…支持面、１１７ｂ…支持部、１１７ｃ…折曲側板部、１１７ｄ…下面、１１８…支持ピック、１１９…リニアガイド、１２１…拡散防止カバー、１２１ａ…底壁部、１２１ｂ…側壁部、１２１ｃ…固定部、１２３…摺動ブロック、Ｓ…基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を支持して搬送する基板搬送装置であって、
第１の部材と、
該第１の部材に対してスライド可能に設けられて基板を支持する第２の部材と、
前記第２の部材をスライドさせるスライド部位と外部の基板搬送空間との間に隘路を形成する形状をなし、前記スライド部位で発生した汚染原因物質が前記基板搬送空間へ拡散することを防止する拡散防止部材と、
を備えている基板搬送装置。
【請求項２】
複数の支持部材を有する基板保持具によって基板を支持して搬送する基板搬送装置であって、
前記支持部材は、本体と、
該本体に対してスライド可能に設けられて基板を支持する可動部材と、
前記可動部材をスライドさせるスライド部位と外部の基板搬送空間との間に隘路を形成する形状をなし、前記スライド部位で発生した汚染原因物質が前記基板搬送空間へ拡散することを防止する拡散防止部材と、
を備えている基板搬送装置。
【請求項３】
拡散防止部材は、前記本体において、前記可動部材のスライド方向に直交する方向に張り出して設けられている請求項２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記拡散防止部材は、前記可動部材の側面の一部分または全部を覆うように設けられている請求項３に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記拡散防止部材は、底壁部と、該底壁部から立設され、前記可動部材の側面の一部分または全部を覆う側壁部と、を備えている請求項４に記載の基板搬送装置。
【請求項６】
前記可動部材は、基板を支持する支持面を有する支持部と、該支持部から両側下方へ向けて垂れ下がる一対の折曲側板部とを備え、
前記拡散防止部材は、前記折曲側板部の少なくとも下端を外側から覆うように近接して設けられている請求項５に記載の基板搬送装置。
【請求項７】
前記本体は、前記可動部材をスライド可能に案内するガイド部材を備えており、前記本体の長手方向に、該ガイド部材の長さ以上の長さで前記拡散防止部材が設けられている請求項６に記載の基板搬送装置。
【請求項８】
前記ガイド部材の端部を囲むように、一対の囲繞部材が前記本体上に設けられている請求項７に記載の基板搬送装置。
【請求項９】
複数の支持部材を有する基板保持具によって基板を支持して搬送する基板搬送装置であって、
前記基板保持具を水平方向にスライド可能に支持するスライドベースと、
前記基板保持具をスライドさせるスライド部位と外部の基板搬送空間との間に隘路を形成する形状をなし、前記スライド部位で発生した汚染原因物質が前記基板搬送空間へ拡散することを防止する拡散防止部材と、
を備えている基板搬送装置。
【請求項１０】
前記拡散防止部材は、前記スライドベースにおいて、前記基板保持具のスライド方向に直交する方向に張り出して設けられている請求項９に記載の基板搬送装置。
【請求項１１】
前記基板保持具は、前記スライドベースとの間をスライド可能に連結する連結部材を有している請求項９又は１０に記載の基板搬送装置。
【請求項１２】
前記拡散防止部材は、前記連結部材の側面の一部分または全部を覆うように近接して設けられている請求項１１に記載の基板搬送装置。
【請求項１３】
前記スライドベースは、前記連結部材をスライド可能に案内するガイド部材を備えており、前記スライドベースの長手方向に、該ガイド部材の長さ以上の長さで前記拡散防止部材が設けられている請求項１２に記載の基板搬送装置。
【請求項１４】
前記拡散防止部材の内壁面に、吸着材層を備えている請求項１から１３のいずれか１項に記載の基板搬送装置。
【請求項１５】
前記吸着材層は、粘着性部材により構成されている請求項１４に記載の基板搬送装置。
【請求項１６】
前記吸着材層は、吸液性部材により構成されている請求項１４に記載の基板搬送装置。
【請求項１７】
請求項１から請求項１６のいずれか１項に記載の基板搬送装置を備えた基板処理システム。
【請求項１】
基板を支持して搬送する基板搬送装置であって、
第１の部材と、
該第１の部材に対してスライド可能に設けられて基板を支持する第２の部材と、
前記第２の部材をスライドさせるスライド部位と外部の基板搬送空間との間に隘路を形成する形状をなし、前記スライド部位で発生した汚染原因物質が前記基板搬送空間へ拡散することを防止する拡散防止部材と、
を備えている基板搬送装置。
【請求項２】
複数の支持部材を有する基板保持具によって基板を支持して搬送する基板搬送装置であって、
前記支持部材は、本体と、
該本体に対してスライド可能に設けられて基板を支持する可動部材と、
前記可動部材をスライドさせるスライド部位と外部の基板搬送空間との間に隘路を形成する形状をなし、前記スライド部位で発生した汚染原因物質が前記基板搬送空間へ拡散することを防止する拡散防止部材と、
を備えている基板搬送装置。
【請求項３】
拡散防止部材は、前記本体において、前記可動部材のスライド方向に直交する方向に張り出して設けられている請求項２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記拡散防止部材は、前記可動部材の側面の一部分または全部を覆うように設けられている請求項３に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記拡散防止部材は、底壁部と、該底壁部から立設され、前記可動部材の側面の一部分または全部を覆う側壁部と、を備えている請求項４に記載の基板搬送装置。
【請求項６】
前記可動部材は、基板を支持する支持面を有する支持部と、該支持部から両側下方へ向けて垂れ下がる一対の折曲側板部とを備え、
前記拡散防止部材は、前記折曲側板部の少なくとも下端を外側から覆うように近接して設けられている請求項５に記載の基板搬送装置。
【請求項７】
前記本体は、前記可動部材をスライド可能に案内するガイド部材を備えており、前記本体の長手方向に、該ガイド部材の長さ以上の長さで前記拡散防止部材が設けられている請求項６に記載の基板搬送装置。
【請求項８】
前記ガイド部材の端部を囲むように、一対の囲繞部材が前記本体上に設けられている請求項７に記載の基板搬送装置。
【請求項９】
複数の支持部材を有する基板保持具によって基板を支持して搬送する基板搬送装置であって、
前記基板保持具を水平方向にスライド可能に支持するスライドベースと、
前記基板保持具をスライドさせるスライド部位と外部の基板搬送空間との間に隘路を形成する形状をなし、前記スライド部位で発生した汚染原因物質が前記基板搬送空間へ拡散することを防止する拡散防止部材と、
を備えている基板搬送装置。
【請求項１０】
前記拡散防止部材は、前記スライドベースにおいて、前記基板保持具のスライド方向に直交する方向に張り出して設けられている請求項９に記載の基板搬送装置。
【請求項１１】
前記基板保持具は、前記スライドベースとの間をスライド可能に連結する連結部材を有している請求項９又は１０に記載の基板搬送装置。
【請求項１２】
前記拡散防止部材は、前記連結部材の側面の一部分または全部を覆うように近接して設けられている請求項１１に記載の基板搬送装置。
【請求項１３】
前記スライドベースは、前記連結部材をスライド可能に案内するガイド部材を備えており、前記スライドベースの長手方向に、該ガイド部材の長さ以上の長さで前記拡散防止部材が設けられている請求項１２に記載の基板搬送装置。
【請求項１４】
前記拡散防止部材の内壁面に、吸着材層を備えている請求項１から１３のいずれか１項に記載の基板搬送装置。
【請求項１５】
前記吸着材層は、粘着性部材により構成されている請求項１４に記載の基板搬送装置。
【請求項１６】
前記吸着材層は、吸液性部材により構成されている請求項１４に記載の基板搬送装置。
【請求項１７】
請求項１から請求項１６のいずれか１項に記載の基板搬送装置を備えた基板処理システム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２０１１−１１９３２７（Ｐ２０１１−１１９３２７Ａ）
【公開日】平成２３年６月１６日（２０１１．６．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２７３１６１（Ｐ２００９−２７３１６１）
【出願日】平成２１年１２月１日（２００９．１２．１）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年６月１６日（２０１１．６．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１２月１日（２００９．１２．１）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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