【課題】簡単な構成で、対象ワークの位置姿勢制御を極めて高い精度で行うことができる載置ステージを提供する。
【解決手段】露光光が結像されて所定のマスクパターンが露光される対象ワーク２２の基準平面に対する位置および姿勢を制御する載置ステージ３０である。基準平面に対して固定的に設けられたベース部材３１と、基準平面に沿う第１方向（Ｙ軸方向）に移動可能にベース部材３１上に設けられた第１駆動機構（３２）と、第１駆動機構により支持される第１スライダ（３３）と、基準平面に沿いかつ第１方向に対して傾斜する第２方向（Ｘ軸方向）に移動可能に、第１スライダ上で第１方向に間隔を置いて対を為して設けられた２つの第２駆動機構（３４）と、各第２駆動機構により個別に支持される２つの第２スライダ（３５）と、対象ワーク２２を載置すべく両第２スライダを第１方向に架け渡して基準平面に沿って設けられた平面調整板（３６）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 露光装置に起因する像の横ずれがあっても、実際に露光を行った場合に所望の像が得られる露光条件またはマスクパターンを決定する。
【解決手段】 露光装置の露光条件及びマスクのパターンのうち少なくとも一方をコンピュータを用いて決定する決定方法であって、露光装置は光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える。該方法は、露光装置に起因する像の横ずれに関する情報を用いて投影光学系の物体面にあるパターンの像を計算し、該計算結果に基づいて、露光条件及びマスクのパターンのうち少なくとも一方を決定する。 （もっと読む）

【課題】基板の平面度調整を行うために、基板を保持する保持手段の裏面を支持する支持手段と前記裏面とに隙間が生じないようにするステージ装置を提供することを課題とする。
【解決手段】保持手段の裏面と支持手段との間に空気を供給し、前記保持手段を前記支持手段から浮上させる軸受手段と、前記軸受手段から供給される気体の流量を検出する検出手段と、前記支持手段の駆動を制御する制御手段とを有し、前記制御手段は、前記軸受手段により前記保持手段を浮上させたときに、前記検出手段によって検出される流量が、所定の流量の範囲内になるように前記支持手段の駆動を制御する。 （もっと読む）

【課題】焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】水圧パッドと水圧パッドとによって、ウエハ及び該ウエハが載置されたテーブルが狭持されている。水圧パッドによって、その軸受面とウエハとの投影光学系の光軸方向に関する間隔が、所定寸法に維持される。また、水圧パッドは、気体静圧軸受とは異なり、軸受面と支持対象物（基板）との間の非圧縮性流体（液体）の静圧を利用するので、軸受の剛性が高く、軸受面と基板との間隔が、安定してかつ一定に保たれる。また、液体（例えば純水）は気体（例えば空気）に比べて、粘性が高く、液体は振動減衰性が気体に比べて良好である。従って、焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どないウエハ（基板）上へのパターンの転写が実現される。 （もっと読む）

【課題】液体が漏出しても被害の拡大を抑え、露光装置の稼働率の低下や露光精度の低下を防止できる露光装置を提供する。
【解決手段】液体が漏出しても被害の拡大を抑え、露光装置の稼働率の低下や露光精度の低下を防止できる露光装置を提供する。露光装置（ＥＸ）は、液体（ＬＱ）を介して基板（Ｐ）上に露光光（ＥＬ）を照射して基板（Ｐ）を露光するものであって、第１ベース部材（ＢＰ１）と、基板Ｐを移動可能に保持する基板ステージ（ＰＳＴ）と、基板ステージ（ＰＳＴ）を支持する第２ベース部材（ＢＰ２）とを備え、第２ベース部材（ＢＰ２）上に漏出した液体（ＬＱ）の第１ベース部材（ＢＰ１）への拡散が防止されている。 （もっと読む）

【課題】基板載置部の摺動部で発生した塵埃がマスクや基板へ付着するのを低減、或いは防止することのできる露光装置を提供する。
【解決手段】基板を載置する載置台５と、載置台５を搭載するステージ１と、ステージ１上で載置台５を移動するための移動機構２，３，４とを有する露光装置において、ステージ１は、内部がリブで格子状の構造を有し、更に、その上面に複数の吸気口と、その側面に複数の排気口とを有する。これにより、移動機構で発生した塵埃を速やかに排気することができる。 （もっと読む）

【課題】コストを抑えながら、被計測面の表面形状を短時間で計測することができる計測装置を提供する。
【解決手段】計測光と参照光とを前記被計測面と参照面の表面に入射させ、計測点で反射した計測光と参照面の参照点で反射した参照光によって形成される干渉光の強度を検出する複数の第１の方向に配列された撮像素子と、前記干渉光の強度に基づいて、被計測面の高さを算出する処理部とを有する。参照面又は被計測面は、計測光又は参照光の間に異なる光路長差が生じるように配置され、計測点で反射した計測光及び参照点で反射した参照光が前記第１の方向に沿って移動しながら前記複数の領域のそれぞれに順次入射するように前記被計測面を駆動して、前記複数の領域のそれぞれで順次検出される干渉光の強度から前記光路長差に対する干渉光の強度を表す強度信号を生成し、前記計測点における前記被計測面の高さを算出する。 （もっと読む）

【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 移動体ＲＳＴのＹ軸方向の位置情報を、干渉計１６ｙと、該干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダ（（２４Ａ，２６Ａ₁）、（２４Ｂ，２６Ｂ₁））とを用いて計測し、その計測結果に基づいてエンコーダの計測値を補正する補正情報を取得するための所定の較正動作を実行する。これにより、干渉計の計測値を用いて、その干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダの計測値を補正する補正情報が取得される。そして、エンコーダの計測値と前記補正情報とに基づいて、移動体をＹ軸方向に精度良く駆動する。 （もっと読む）

【課題】重ね合わせ補正時に生じる極めて微小な誤差を明確化し、この誤差を修正したより正確な重ね合わせ補正を可能として、半導体装置に対する更なる微細化及び高集積化の要請に十分に応え、信頼性の高い電子デバイスを実現する。
【解決手段】回転シフトの補正時に微小な並進シフトが生じることを見出し、この並進シフト成分を加味して回転シフトの補正を行う。即ち、縮小投影露光法を用いて半導体基板２１上の転写パターンへレチクル２０上のマスクパターンの投影像を重ね合わせる際に、半導体基板上の転写パターンにおける露光ショット領域の並進シフトの測定値に応じて、露光ショット領域の回転シフトを補正する。 （もっと読む）

【課題】
基板ステージを傾けて露光する際に、Ｘ像高間の像性能における線幅差、コントラスト差あるいは像のシフト量差の不均一性を抑え、焦点深度を拡大する露光装置を提供する。
【解決手段】
光源からの光を原版の被照射面または基板の被照射面に導く照明光学装置と、前記基板を保持して移動する基板ステージと、を有するスキャン型の露光装置において、前記基板ステージは光軸に対して走査方向を傾けることが可能に設けられ、前記照明光学装置は、前記被照射面を所定の光強度分布で照明する光強度分布形成手段と、前記光強度分布形成手段から射出される前記光を集光する集光光学系と、透過率分布を有する少なくとも２枚のフィルターを対向させて設け、少なくとも１枚の前記フィルターを回転させて、前記被照射面上で前記所定の光強度分布を補正する光強度分布補正手段と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ステージ装置の位置制御をより精密に行うことが可能な露光装置及び露光方法を提供すること。
【解決手段】マスクを用いて基板に露光処理を行う露光装置であって、前記マスクを移動可能に保持するステージ装置と、前記ステージ装置に光を照射し、前記光の反射光を用いて前記ステージ装置の位置に関する情報を検出する光干渉装置と、前記光の光路周辺の空間の光屈折率を検出し、検出結果を用いて前記情報の補正を行う補正装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】改善された応答時間したがって改善された帯域幅をもったガス計器近接センサを実現する装置および方法を提供する。
【解決手段】注入チャンバ２２０から測定チャンバ２１０へ逆流方向にガスを供給するガス計器近接センサ２００である。逆流方向にガスを供給することで、センサの過渡挙動がいっそう高速で安定するようになり、結果として帯域幅の増大が生じる。場合によって、スカベンジャチャンバ２５５を使用して、スカベンジャチャンバ２５５のスカベンジャ開口２６０を注入チャンバ２２０の出口開口２２５の直ぐ近くに位置付けすることによって余分なガスを除去することができる。コモンモード誤差を減少させるために、注入チャンバ２２０の出口開口２２５に近い位置からガス流を受け取る基準チャンバを備えるブリッジ近接センサを使用することができる。 （もっと読む）

【課題】ステージの駆動条件やショット情報などに応じてステージの駆動を制御し、スループットの低下を抑えることができる露光装置を提供する。
【解決手段】レチクルと基板とを走査方向に同期移動させ、前記走査方向を折り返しながら転写する走査型の露光装置であって、前記ステージの駆動条件と、前記複数のショット領域の配置に関するショット情報の取得部と、前記情報に基づいて、１つのショット領域から次のショット領域の露光を開始するまでに要する非走査方向への前記ステージの駆動時間からなる第１の時間、及び、前記走査方向への前記ステージの駆動時間とからなる第２の時間の算出部と、前記第１の時間が前記第２の時間よりも長い場合に、前記第２の時間が前記第１の時間よりも長くなるように前記走査方向の折り返し時における前記ステージの加速度が非線形に変化する時間、又は、加速を終えてから露光を開始するまでの整定時間の調整部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】原盤のパターンを精度よく物体に転写する。
【解決手段】ウエハＷ表面の傾きを計測するウエハ焦点位置検出系２４を、レチクルステージＲＳＴを構成するレチクルステージ本体２３の下面に設ける。これにより、レチクルステージＲＳＴが昇降しても、レチクルＲとウエハ焦点位置検出系２４との位置関係が変動することがなくなるので、レチクルＲに対するウエハＷの傾斜を精度よく計測することができ、結果的にレチクルＲに形成されたパターンを精度よくウエハＷに転写することができる。 （もっと読む）

【課題】位置情報の計測精度の低下を抑制し、露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光を射出する光学部材と、基板の露光中に、光学部材と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成可能な液浸部材と、露光光の照射位置を含む所定面内を移動可能な物体の位置情報を計測可能な計測器を支持する支持部材と、液浸部材の変形が支持部材へ伝達されないように支持部材と液浸部材とを接続する接続機構とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光光の透過率を維持しつつ、装置内の光学素子の汚染を効果的に防止することができる露光装置を提供する。
【解決手段】本発明は、真空環境下でレチクル６上に形成された回路パターンをウエハ９上に露光するＥＵＶ露光装置７００であって、ＥＵＶ露光装置７００の内部を複数の領域に分離する複数の真空チャンバ１〜５と、並列した複数のワイヤ電極で構成されるワイヤ電極列３０とを有し、ワイヤ電極列３０は、隣り合う真空チャンバの境界に設けられた露光光通過用の開口部２５〜２８に配置され、第１の位相の交流電圧Ｖａが印加される第１のワイヤ電極群と第１の位相とは異なる第２の位相の交流電圧Ｖｂが印加される第２のワイヤ電極群とを有する。 （もっと読む）

【課題】支持体の上で可動体を駆動する駆動機構の動作によって生じうる該支持体の温度変動を低減する。
【解決手段】位置決め装置は、可動体２と、可動体２を支持する支持体５と、支持体５によって支持された可動体２を移動させる駆動機構１と、駆動機構１の温度を調整する第１温度調整ユニットＴＲＵ１と、第１温度調整ユニットＴＲＵ１から提供される情報に基づいて支持体５の温度を調整する第２温度調整ユニットＴＲＵ２とを備える。 （もっと読む）

【課題】高価な及び／又は追加のセンサを使用する必要なしにｚ方向のゼロレベルを正確に規定できるリソグラフィ装置の位置測定システムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、可動物体の直交ｘ−ｙ−ｚ座標系の少なくとも１方向にてリソグラフィ装置の基準フレームに対する可動物体の位置を測定する位置測定システムを含む。位置測定システムは、エンコーダの第２グレーティングに対する放射源、第１グレーティング、および検出器の変位を測定する光学ｘ−ｚエンコーダを含む。第１グレーティングはアライメントマーカを含む。コントローラは、ｘおよびｚの少なくとも１方向にて基準フレームに対する可動物体のゼロレベルを、第１グレーティングに沿ったスキャンを実行することによって規定し、スキャン段階の間にアライメントマーカが第１の正および負の次数両方の応答の位相に変化を引き起こす。 （もっと読む）

【課題】マスクに形成されたパターンが精度良く被露光基板に露光されるための被露光基板載置部品及び露光装置を提供する。
【解決手段】透明基板と、透明基板上の縁側一周に設けられた気密保持枠体と、透明基板の気密保持枠体が設けられた側に対向して設けられる可撓性シートと、可撓性シートを、可撓性シートの縁側から、弾性部材の弾性力により面一に引張支持する支持枠体とを有し、透明基板と前記気密保持枠体と前記可撓性シートにより構成される気密空間において、気密空間の空気を吸引した際には、可撓性シートが弾性部材の弾性力に抗して透明基板側に密着されるように構成された被露光部材載置部品により、可撓性シートを被露光部材に密着させる。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できるクリーニング装置を提供する。
【解決手段】クリーニング装置は、マスクを保持する保持面のクリーニングに用いられる。クリーニング装置は、クリーニング部材と、保持面の周囲の少なくとも一部に配置された所定面に支持されるボディと、ボディに配置され、クリーニング部材を移動可能な移動機構と、を備え、クリーニング部材と保持面とを接触させた状態で、クリーニング部材を移動して、保持面をクリーニングする。 （もっと読む）