【課題】使用環境に影響されることなく基板上の異物を高精度で検出することができる近接露光装置を提供する。
【解決手段】基板保持部２１の搬送方向に並んで配置され、基板保持部２１に保持された基板Ｗの表面に沿ってレーザービームＬＢ１、ＬＢ２を出射する出射部８０a、８１aと、レーザービームを受光する受光部８０ｂ、８１ｂと、をそれぞれ有する２つの異物検出器８０、８１と、２つの異物検出器８０、８１の各受光部８０ｂ、８１ｂが受光する前記レーザービームＬＢ１、ＬＢ２の検出信号を比例演算部８３ａによって増幅し、さらに、差分演算部８３ｂによって、２つの増幅した前記レーザービームＬＢ１、ＬＢ２の検出信号の差分を算出し、異物８２の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】照度計のバラツキを抑えることにより各光源間の照度を一定にすることにより、露光むら無く高精度に露光を行うことができる近接スキャン露光装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１の光源制御部１５aは各照度計５０からの照度信号を基準照度計６０により検出された基準照度に応じて補正する微分器１５ｂを有する。基準照度計６０により各照度計５０のバラツキを抑えることにより各照射部１４間の照度を一定にすることにより、露光むらを無くし高精度に露光を行う。 （もっと読む）

【課題】マスク及びマスクホルダの温度制御を効果的に行う。
【解決手段】本体収容部７０内で、基板１をチャック１０により支持し、マスク２をマスクホルダ２０により保持し、チャック１０をステージによりマスクホルダ２０の下方へ移動する。本体収容部７０内へ横方向に温度調節された清浄な空気を供給し、本体収容部７０の上方に本体収容部７０とつなげて設けた照射光学系収容部３０内の照射光学系から、マスクホルダ２０に保持されたマスク２へ露光光を照射する。照射光学系収容部３０に第１の排気装置７２を設けて、第１の排気装置７２により、本体収容部７０内の空気を、照射光学系収容部３０を介して取り込み、照射光学系収容部３０外へ排気する。 （もっと読む）

【課題】液晶露光用の波長を選択的に反射する平面鏡の熱を効率的に放熱すると共に、急激な温度変化に対しても安定した露光が可能な信頼性の高い液晶露光装置を提供する。
【解決手段】平面鏡１１７の熱を保持板２０１で効率的に放熱すると共に、平面鏡１１７の温度センサー７０１および保持板２０１の温度センサー７０３の測定温度に応じて、平面鏡１１７と保持板２０１との伸縮量の差を抑制するように熱交換機７０５とヒーター７０７を制御して、保持板２０１の温度を調整する。 （もっと読む）

【課題】複数、特に数百〜数千個以上の半導体発光素子を用いて露光光を形成しても、半導体発光素子とレンズのアライメントを容易にあるいは安全にできる光源ユニットまたは照明光照射装置、或いはそれらを用い効率または精度よく露光できる露光装置を提供することである。また、前記多数の半導体発光素子を有する発光源を効率よくまたは安全に検査できる検査装置/方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、光を発生する複数の半導体発光素子と半導体発光素子が発生した光を受けて出射するレンズを有する光源ユニットまたは露光光照射装置あるいは露光装置において、前記半導体発光素子は前記レンズに対応して設けられ、前記レンズ部は前記複数のレンズのうち隣接するレンズを接触させて固定する手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】遮光部材を上流側に戻す際に、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】近接露光装置１において、各遮光ユニット１４は、それぞれＸ方向に移動可能に配置される四組の一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂを有し、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｄは、露光用光ＥＬを通過させる貫通孔９０ａ〜９３ｂをそれぞれ備え、各貫通孔９０ａ〜９３ｂは、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂが重ね合わせられた際に、露光用光ＥＬが各貫通孔９０ａ〜９３ｂと対向する一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂのいずれかによって遮光されるように形成される。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク１８を光軸を回転中心として所定角度に亘り容易に回転できるようにする。
【解決手段】
感光性樹脂を塗布した被露光基板を保持する基板保持部１１と、保持された被露光基板２の表面の高さと略同一となるように、基板保持部１１の周囲に形成された載置棚１２と、中央に孔部が形成されてなるとともに載置棚１２上に端縁が載置され、パターン露光を行うためのフォトマスク１８が上面に載置され、被露光基板に対向させつつその上面側に微小間隔をあけて保持するためのスペーサー１５とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】露光量のばらつきがなく、かつタクト短縮が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】基板１０１を載せるチャック１１０と、基板１０１に所望のパターンを転写するためのマスク１０２を保持するマスクホルダ１２０と、露光光用の光源１３１，１３２と、光源１３１，１３２からの露光光を開閉するシャッタ１５０とを有する露光装置において、シャッタ１５０は、露光光を通過させる開シャッタ板と、露光光を遮光する閉シャッタ板とを有し、開シャッタ板および閉シャッタ板は同一方向に移動し、移動する方向において閉シャッタ板は、開シャッタ板よりも寸法が大きい。 （もっと読む）

【課題】浮遊物が露光光照射装置の光学部品に付着するのを防止する。
【解決手段】露光光照射装置３０の光学部品（３２，３３，３４，３６，３７）の表面近くに、光学部品の表面全体に渡って、エアの流れの層を形成する。露光光照射装置の光学部品の表面近くに光学部品の表面全体に渡って形成されたエアの流れの層により、露光光照射装置の光学部品が浮遊物から遮蔽されて、浮遊物の光学部品への付着が防止される。特に、露光光照射装置の光学部品が基板に塗布された感光樹脂材料から発生する昇華物から遮蔽されて、昇華物の光学部品への付着が防止されるので、露光光照射装置の光学部品に新たな処理を施すことなく、昇華物による光学部品の汚れが防止される。 （もっと読む）

【課題】突き上げピンと突き上げピンを上下に移動するモータとを有する複数の突き上げピンユニットを用いて、基板のロード／アンロードを行う際、異常発生時に、全ての突き上げピンユニットのモータを迅速に停止させて、基板の損傷を防止する。
【解決手段】複数の突き上げピンユニットを、複数のグループに分ける。各同期制御回路６０において、グループ内の各突き上げピンユニットのモータ１１から発生された異常信号を検出し、グループ内の少なくとも１つの突き上げピンユニットのモータ１１からの異常信号を検出したとき、グループ内の全ての突き上げピンユニットのモータ１１を停止させると共に、通信ケーブル５２を介して他の同期制御回路６０へ異常を通知し、また、通信ケーブル５２を介して他の同期制御回路６０から異常の通知を受けたとき、グループ内の全ての突き上げピンユニットのモータ１１を停止させる。 （もっと読む）

【課題】基板載置部の摺動部で発生した塵埃がマスクや基板へ付着するのを低減、或いは防止することのできる露光装置を提供する。
【解決手段】基板を載置する載置台５と、載置台５を搭載するステージ１と、ステージ１上で載置台５を移動するための移動機構２，３，４とを有する露光装置において、ステージ１は、内部がリブで格子状の構造を有し、更に、その上面に複数の吸気口と、その側面に複数の排気口とを有する。これにより、移動機構で発生した塵埃を速やかに排気することができる。 （もっと読む）

【課題】点灯開始後の高温プラズマ状態を安定に維持して発光を安定に維持させることができ、また発光管の加熱による点灯寿命の低下を抑制した光源装置を実現すること。
【解決手段】内部に発光ガスが封入された発光管１に、パルスレーザ発振部２１からパルス状のレーザビームと、連続波レーザ発振部２５から連続波のレーザビームを入射させ、発光管１内で両ビームが重なるように集光させる。点灯開始時に、パルス状のビームによって、高温プラズマ状態を形成させ、この高温プラズマ状態が形成された位置に、パルス状のビームより強度の小さな連続波のビームを重ね合わせることで、高温プラズマ状態を安定に維持させることができる。また連続波のビームは、強度が小さいので、発光管が加熱されず長寿命とすることができる。上記発光管１内でビームを集光させる光学手段としては、例えば回折光学素子３１や、凸レンズや放物面鏡などを用いことができる。 （もっと読む）

【課題】マスクと基板との位置合わせを安定して処理可能な露光技術を提供する。
【解決手段】 アライメントマークを使用してマスクに対し処理基板を移動させて当該マスクと処理基板との位置合わせをして露光を行う技術である。画像でのマスク側のアライメントマークＭ２の画素数が、予め設定した基準閾値と一致若しくは当該基準閾値以上となるように撮像装置１６の焦点を調整してマスク側の基準位置を演算する。同様にして、基板側の基準位置を演算する。上記演算したマスク側の基準位置を基準として、マスク側の基準位置と処理基板側の基準位置とが一致若しくは予め設定した許容誤差内となるまで、上記処理基板側のアライメントマークＭ１の画像を取得して当該処理基板側の基準位置を演算する処理を繰り返す。 （もっと読む）

【課題】プロキシミティ露光装置において、基板の温度制御を効果的に行う。
【解決手段】本体ハウス３０内で、基板１をチャック１０により支持し、マスク２をマスクホルダ２０により保持し、チャック１０をステージにより移動する。本体ハウス３０内へ横方向に温度調節された清浄な空気を供給し、チャック１０の下方に設けた吸気口４１をチャック１０と伴に移動しながら、吸気口４１から本体ハウス３０内の空気を取り込んで本体ハウス３０外へ排気する。横方向へ流れる空気が、基板１の表面を伝って、チャック１０の下方に設けた吸気口４１へ回り込み、マスク２が基板１の上方に基板１と接近して配置されても、基板１の表面へ温度調節された清浄な空気が供給される。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの表示部の間の比較的狭い領域にダミー積層柱状スペーサーを設ける露光装置、カラーフィルタの製造方法。
【解決手段】基板ステージ６０、フォトマスクホルダー４０、露光光を透光／遮光し、基板ステージと同期して移動する複数基のブラインドシャッターＢＳを具備し、ブラインドシャッターは、隣接して設けられ、複数枚の遮光板で構成され、遮光板を展開／集結し全幅を調節が可能で、間隔の調節が可能。基板ステージと同期して移動しながら、露光光Ｅを部分的に透光／遮光し基板５０上に照射させる露光装置。表示部Ａ及びダミー積層柱状スペーサー領域Ｊの同一パターンに対応した同一マスクパターンのフォトマスクを用い、ブラインドシャッターの両内端間の間隔ｒ、ｓを、ダミー積層柱状スペーサー領域の幅に設定し露光する。 （もっと読む）

【課題】負圧室の天板を安全に搬送する。
【解決手段】チャック１０に、チャック１０の内部から上昇して、天板（負圧ガラス２３ａ，２３ｂ）の周辺部を支持する複数の突き上げピン１２ｃを設ける。マスクホルダ２０に、開口を形成する複数の移動可能なホルダ部２１ａ，２１ｂ、及び天板をホルダ部２１ａ，２１ｂから持ち上げるリフト機構３０を設ける。ホルダ部２１ａ，２１ｂを移動して、マスクホルダ２０の開口を天板より大きく広げ、複数の突き上げピン１２ｃにより、天板を、ホルダ部２１ａ，２１ｂの下方から、マスクホルダ２０の広げた開口を通して、ホルダ部２１ａ，２１ｂの上方へ搬入する。そして、リフト機構３０により、天板を複数の突き上げピン１２ｃから受け取り、ホルダ部２１ａ，２１ｂを移動して、開口を天板より小さくした後、リフト機構３０により、天板をホルダ部２１ａ，２１ｂに搭載する。 （もっと読む）

【課題】同一の被露光体に対する複数種の露光パターンの形成効率を向上する。
【解決手段】被露光体８を矢印Ａ方向に搬送しながら、フォトマスク１１の第１のマスクパターン群１２を使用して行う被露光体８の第１の露光領域９に対する露光が終了すると、シャッタ５を被露光体８の搬送速度に同期して移動して光源光を遮断し、被露光体８がシャッタ５の移動中に移動した距離だけ被露光体８を矢印Ｄ方向に戻すと共に、フォトマスク１１を移動して第２のマスクパターン群１３に切り替え、フォトマスク１１のマスクパターン群の切り替えが終了すると、被露光体８の矢印Ａ方向への搬送を再開するのと同時に、シャッタ５を被露光体８の搬送速度に同期して矢印Ｂ方向に移動して光源光の遮断を解除し、第２の露光領域１０に対する露光を実行する。 （もっと読む）

【課題】複数のレーザー変位計を用い、チャックのθ方向の傾きを精度良く検出して、基板のθ方向の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】チャック１０ａ，１０ｂを搭載して移動する移動ステージは、Ｘ方向（又はＹ方向）へ移動する第１のステージ１４と、第１のステージに搭載されＹ方向（又はＸ方向）へ移動する第２のステージ１６と、第２のステージに搭載されθ方向へ回転する第３のステージ１７とを有する。第２のステージ１６に複数のレーザー変位計４３を設けて、複数のレーザー変位計４３をチャック１０ａ，１０ｂと共にＸＹ方向へ移動し、複数のレーザー変位計４３によりチャック１０ａ，１０ｂの変位を複数箇所で測定する。測定結果からチャック１０ａ，１０ｂのθ方向の傾きを検出し、検出結果に基づき、第３のステージ１７によりチャック１０ａ，１０ｂをθ方向へ回転して、基板１のθ方向の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】マスクと基板との間に浮遊する浮遊物がマスクに付着するのを抑制する。
【解決手段】マスクホルダ２０に保持されたマスク２の周囲に吸引手段３０を設け、吸引手段３０により、マスク２と基板１との間に浮遊する浮遊物を吸引する。マスクホルダ２０に保持されたマスク２の周囲に設けた吸引手段３０により、マスク２と基板１との間に浮遊する浮遊物が吸引されて、浮遊物のマスク２への付着が抑制される。特に、基板１に塗布された感光樹脂材料から発生する昇華物が吸引されて、昇華物のマスク２への付着が抑制されるので、マスク２に新たな処理を施すことなく、昇華物によるマスク２の汚れが低減する。浮遊物のマスク２への付着が抑制されるので、マスク２を洗浄する頻度が低下し、表示用パネル基板の生産性が向上する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板上に所望のパターンを形成するために、ガラス基板の歪を少なく、さらに高精度の焼付けが可能な、又は、生産性を向上できる露光装置及び露光方法を提供すること、及び、基板等を載置する台にエア溜りを除去し、基板を載置する台に密着できる基板載置方法を提供することにある。
【解決手段】ガラス基板等の薄板を所望な位置に真空吸着して載置する場合、まず最初の吸着を行い、その後一旦吸着を解除する。そのことによって前記基板を自分の持つ復元力により平板状になる。その後の再吸着によって前記基板と載置場所の間にあるエア溜りを排除する。 （もっと読む）