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Fターム[5F044HH02]の内容

ボンディング (23,044) | ワイヤショート防止 (110) | 絶縁物、絶縁領域を配置するもの (29)

Fターム[5F044HH02]に分類される特許

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【課題】信号伝送速度を高速化しても信頼性が高く、かつ、汎用的なリードフレームを利用可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る半導体装置1は、内側ワイヤボンディング20、内側ボンディング用端子100、配線110、外側ボンディング用端子120、外側ワイヤボンディング30を具備し、この順に、ボンディングパッド90からインナーリード60までを電気的に接続する信号伝送手段を有する。内側ボンディング用端子100、配線110、外側ボンディング用端子120は、絶縁性部材40上に形成されている。信号伝送手段は、ボンディングパッド90から前記アウターリード70の先端までの信号伝送路の距離が実質的に等しくなるように、配線110の配線長によって調整されている。 (もっと読む)


【課題】ワイヤを被覆していた樹脂に起因して半導体装置の不良が発生することを抑制する。
【解決手段】半導体チップ10を配線基板20の上に配置する。次いで、半導体チップ10と配線基板20とをボンディングワイヤ30で接続する。次いで、ボンディングワイヤ30の少なくとも一部に絶縁膜32をコーティングする。次いで、半導体チップ10及び絶縁膜32を封止用樹脂で封止する。このように、絶縁膜32は、半導体チップ10と配線基板20とをボンディングワイヤ30で接続した後に形成される。従って、絶縁膜32が異物となってボンディング不良を生じさせることを抑制できる。 (もっと読む)


【課題】 発光装置等における素子と配線パターンとを接続するワイヤーの断線が起き難いワイヤーボンディング構造を提供することにある。
【解決手段】 このワイヤーボンディング構造のワイヤー17,18は、発光素子15から発光素子近傍の基板11の表面に接近した位置まで垂れ下がる降下部17a,18aと、この降下部の先端から基板11の表面近くで且つ基板11の表面に沿って延伸する延伸部17b,18bを有している。このため、封止樹脂19の上部に位置する部分が減り、ワイヤー17,18は封止樹脂19の変形による影響を受けにくくなる。また、延伸部17b,18bは、封止樹脂11の変形が最も少ない下部内に位置しているので、ワイヤー17,18が動くことを防いでいる。 (もっと読む)


【課題】回路の誤動作を回避し高速処理に適した半導体パッケージを提供すること。
【解決手段】表面に電極パッド11aを有する半導体チップ11と、半導体チップ11が搭載されるグランドパターン12aを有するとともに、グランドパターン12aと離間したリード電極12bを有するリードフレーム12と、電極パッド11aとリード電極12bとを電気的に接続するボンディングワイヤ15aと、を備え、グランドパターン12aには、半導体チップ11が搭載された領域よりも外周にはみ出した部分のボンディングワイヤ15a側の面にて、グランドパターン12aに接続された導体よりなる突起部材13が配設されており、突起部材13の頂面には、所定膜厚の絶縁物14が設けられており、ボンディングワイヤ15aは、絶縁物14上にて絶縁物14と直接接触して配線されている。 (もっと読む)


【課題】
背の高い電子部品や部材などの障害物を迂回してボンディングワイヤを配線する場合、ボンディングワイヤを曲げて迂回していた。しかし、従来方法では、任意の位置で任意の角度を持ってボンディングワイヤを屈曲することが極めて難しく、またボンディングワイヤ弛みによる、ボンディングワイヤと別部品(基板等)との接触する恐れがあった。
【解決手段】
本発明は、上記問題を解決する為に、ボンディングワイヤを支えるための支持体であって、ボンディングワイヤを支持する支持部と、基板上の任意の位置に固定する土台部を備えることで、ボンディングワイヤ屈曲作業の簡略と、ボンディングワイヤ弛みによる基板面と接触するのを防ぐものである。 (もっと読む)


【課題】薄型化された半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、半導体ICチップ13の電極パッド14aに金球15によってワイヤの一端をボンディングし、イン−リードにワイヤの他端をボンディングして、電極パッド14aからイン−リードまでのワイヤループ16を形成する工程と、金球15よりイン−リード側の半導体ICチップ13上の所定位置で、ワイヤループ16を半導体ICチップ13側に押し下げるように、バンプ金球17によってワイヤループ16をボンディングする工程とを有し、前記所定位置は、少なくともバンプ金球17よりイン−リード側のワイヤループ16の最上部の高さをバンプ金球17の頂部17aの高さH17よりも低くする位置に設定されている。 (もっと読む)


【課題】導電性ワイヤ同士の間、または導電性ワイヤと半導体チップとの間に生じる短絡を防止する方法を提供する。
【解決手段】半導体チップ12が搭載された配線基板11を準備する。配線基板11には接続パッド17が設けられている。半導体チップ12の、電極パッド18が設けられた一の面12aは、配線基板11とは反対側に向いている。次に、半導体チップ12の、配線基板11とは反対側に向いた一の面12aに、第1の絶縁層14を形成する。次に、第1の絶縁層14上に、熱可塑性を有する第2の絶縁層15を形成する。それから、導電性ワイヤ13の一端13aを配線基板の接続パッド17に熱圧着し、導電性ワイヤ13の他端13bを半導体チップ12の電極パッド18に熱圧着するとともに、熱圧着する際に発せられる熱によって軟化した第2の絶縁層15に、導電性ワイヤ13の一端13aと他端13bとの間の一部を埋め込む。 (もっと読む)


【課題】ボンディングに用いられた金属細線に、樹脂封止工程で折れ、曲がりが生じて、隣接する金属細線同士が接触してしまうことのない高品質な半導体装置を提供する。
【解決手段】樹脂封止型の半導体装置2において、半導体チップ14は主面に複数の電極18を有し、主面における前記電極の位置よりも外周側に絶縁性の金属細線案内部材15が固定され、金属細線案内部材15に形成された孔17aを通り、溝17bに嵌め込まれた金属細線16によって電極18と外部リード12とが接続された状態で、半導体チップ14、外部リード12、金属細線案内部材15及び金属細線16が樹脂封止されている。 (もっと読む)


【課題】半導体素子とリード端子とを接続するワイヤが、ワイヤ流れにより隣接リード端子に接触することを、完全に防止することが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体素子1を載置する載置片10及び基端部11a〜15aを備えたリード端子11〜15で構成されるリードフレーム9において、半導体素子1の接続端子とリード端子11〜15の基端部11a〜15aとの間にワイヤ21〜25が接続されると共に、封止樹脂によりモールドされて形成される半導体装置1aを、封止樹脂によりモールドされる際に、注入された該封止樹脂の流動圧力により生じるワイヤ流れによりリード端子12,14と隣接する隣接リード端子11,15の基端部11a,15aに接続されたワイヤ21,25が、リード端子12,14に接触することを防止するための接触防止手段31a,31bを、リード端子12,14の基端部12a,14aに備えて構成する。 (もっと読む)


【課題】ワイヤ流れによる短絡等の不良が発生しにくく且つワイヤリング工程が容易であり、さらに多層ワイヤにも対応可能な回路基板を実現できるようにする。
【解決手段】回路基板は、半導体素子20を搭載する素子搭載領域11aと、素子搭載領域11aよりも外側の領域に形成された第1の電極12と、素子搭載領域11aと第1の電極12との間の領域に形成された第1の絶縁凸状部14とを備えている。第1の絶縁凸状部14は、上端部の幅が下端部の幅よりも狭く、側面が傾斜している。 (もっと読む)


【課題】半導体素子と基板等とを接続するボンディングワイヤが樹脂モールド時にワイヤ流れ等によって短絡するといった問題を防止し、半導体装置の組み立てを容易にし、製造コストを抑えることができる半導体装置の組み立て構造を提供する。
【解決手段】半導体素子10と基板22との間をボンディングワイヤ24により接続して組み立てる半導体装置の組み立て構造であって、前記ボンディングワイヤ24が通過する位置に沿って、ボンディングワイヤ24が通過する間隔をあけ、隣り合ったボンディングワイヤ24と干渉しないよう側方への偏位を規制する高さに形成された電気的絶縁性を有する遮蔽突起32が、樹脂基板34上に複数形成された中継基板30を利用し、前記遮蔽突起32の隣り合った遮蔽突起の中間にボンディングワイヤ24を通過させてワイヤボンディングして組み立てられている。 (もっと読む)


【課題】隣接する金属細線同士の接触を防止することができる半導体装置を提供する。
【解決手段】リードフレームのダイパッド1上に搭載された半導体チップ4の電極5とリードフレームのインナーリード2との間に、金属細線6の一部が嵌め込まれる溝8を有する金属細線支持体7を配置する。また、その金属細線支持体7は、リードフレームのダイパッドサポート3に固着させる。 (もっと読む)


【課題】半導体パッケージ、その製造方法、これを含むカード及びそれを含むシステムを提供する。
【解決手段】半導体パッケージ100は、パッケージ基板110と、パッケージ基板110上に積層された少なくとも一つの半導体チップ120と、少なくとも一つの半導体チップ120とパッケージ基板110とを電気的に連結する少なくとも一本のワイヤ140と、少なくとも一本のワイヤ140上に少なくとも一本のワイヤ140の断面部分を覆い包むように配された複数の絶縁性ビード145と、を備える。 (もっと読む)


【課題】拡散プロセスの微細化並びに半導体素子の高機能化にともない、半導体素子上の表面電極数が飛躍的に増加しても、ボンディングワイヤ同士の接触を防止することが可能となる半導体装置を提供する。
【解決手段】回路基板1上に、ボンディングワイヤ9を支持する絶縁性の突起部12を形成する。 (もっと読む)


【課題】複数の半導体素子を積層して樹脂封止するにあたって、上段側半導体素子に接続されたボンディングワイヤの樹脂封止時におけるワイヤ流れ等を抑制する。
【解決手段】積層型半導体装置1は、回路基板2上に積層して搭載された複数の半導体素子4、6、7を具備する。これら半導体素子4、6、7はそれぞれ金属ワイヤ5、8、9を介して回路基板2の接続パッド3と電気的に接続されている。上段側の半導体素子6、7に接続された金属ワイヤ8、9は、少なくともそれらの間に充填された樹脂固定部11で固定されている。積層された半導体素子4、6、7は金属ワイヤ5、8、9と共に樹脂封止部10で封止されている。 (もっと読む)


【課題】高放熱性を実現しながら、モールド樹脂の流動による隣接ワイヤの相互接触を防止し、さらに、ワイヤの高さバラツキによるワイヤと放熱板の接触によるショートを防止することを目的とする。
【解決手段】放熱板10の半導体素子3と対向する面に絶縁樹脂9を設け、グラウンドだけでなく、電源や信号端子に接続するワイヤ8を絶縁樹脂9を介して放熱板10と熱的に接触させることにより、高い放熱性を実現することができる。この際、樹脂封止の前にワイヤ8を包含した状態で絶縁樹脂9を硬化させることにより、ワイヤ8を固定することができ、半導体素子3のパッド4のピッチが狭い場合であっても、モールド樹脂12の流動時に、隣接するワイヤ8が相互に接触してショートに到ることを防止することができる。 (もっと読む)


【課題】金属細線の垂れ下がりに起因したショートの発生を防ぐ半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本実施の形態の半導体装置の製造方法は、アイランド14に半導体素子18を実装する工程と、半導体素子18の上面に設けたボンディングパッドとリード16とを金属細線20により接続する工程とを具備する。更に、本実施の形態では、金属細線20を形成する工程に於いて、アイランド14とリード16との間で、保持部50により金属細線20の中間部を保持している。このことにより、ワイヤボンディングの工程における金属細線20の垂れ下がりを防止して、金属細線20と半導体素子18とのショートを防止できる効果が得られる。 (もっと読む)


【課題】イオンマイグレーションに対する耐性の高い半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板A1と、この半導体基板A1に設けて外部との電気的な接続に用いる複数のパッド電極10とを備えた半導体装置及びその製造方法において、隣接したパッド電極10間に、このパッド電極10間を横断する障壁部を設けて、前記パッド電極10間の表面距離を増大させる。障壁部は、半導体基板A1に凹状溝を形成することにより相対的に突出した半導体基板A1で構成する。または、障壁部は、半導体基板A1の上面にパッド電極10の形成と同時に形成した金属層と、この金属層を被覆した絶縁膜11とで構成する。 (もっと読む)


【課題】複数の電気接続端子を有する半導体チップと複数の電気接続端子を有する基板とが金属ワイヤによって導電接続されているワイヤ接続型に関し、特に小型化、高密度化したときに高い接続信頼性を発揮できる半導体装置、及び、半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】複数の電気接続端子を有する半導体チップと複数の電気接続端子を有する基板とが金属ワイヤによって導電接続されている半導体装置であって、前記金属ワイヤの表面が、平均粒子径0.1〜5μmの絶縁粒子によって略均質に被覆されている半導体装置。 (もっと読む)


【課題】高耐圧、高温動作が可能なデバイスの特性を十分生かした化合物半導体チップを有する半導体装置を提供する。
【解決手段】外部に電気的に接続される接続領域24,25,27と、この接続領域24,25,27に電気的に繋がる電極5,6,7を一面に有する半導体素子20と、その一面の全体に形成され且つ接続領域24,25,27を露出させる開口部24a,25a,27aを有する誘電体膜30と、半導体素子20の他面を底部に接続するとともに半導体素子20及び誘電体膜30と内面との間に空間が形成される素子収容スペース32を有するセラミック製のパッケージ31と、パッケージ31の内部に設けられた電極34〜36と、素子収容スペース32内で電極34〜36と半導体素子20の接続領域24,25,27とを誘電体膜30の開口部24a,25a,27aを通して接続する接続導体とを有する。 (もっと読む)


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