説明

Fターム[5F045EE02]の内容

気相成長(金属層を除く) (114,827) | ガス供給・圧力制御 (3,846) | ガス供給機構 (1,082) | ボンベ・気化機構・原料供給機構 (459)

Fターム[5F045EE02]の下位に属するFターム

バブラー (95)

Fターム[5F045EE02]に分類される特許

361 - 364 / 364


【課題】 接触なしで原料を蒸発させて、単元又は多元の層及びスタック層を堆積する方法及び装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、プロセスチャンバー(2)内で少なくとも1層を少なくとも1つの基板上に堆積する装置であって、複数の成分からなり、絶縁性、パッシベーション性、又は導電性を有する層と、インジェクタユニット(5)を用いて液状又は液体に溶解した原料(3)を温度制御された蒸発チャンバ(4)に不連続に射ち込むことによって成分が蒸発され、これらの蒸気がキャリアガス(7)によってプロセスチャンバーに供給される装置に関する。各インジェクターユニット(5)を通る流量の時間プロファイルを決定する、射出圧、射出周波数、及びデューティ比、並びにオン/オフの他のインジェクターユニットのオン/オフに対する位相関係等の流量パラメータが個別に設定又は変更されることが基本である。 (もっと読む)


シャワーベース(41)、ガス拡散板(42)、シャワープレート(43)を積み重ねて構成され、ガス拡散板(42)の両面に形成された第1ガス拡散部(42a)、第2ガス拡散部(42b)、およびシャワープレート(43)に形成され第1ガス拡散空間(42c)に連通する第1ガス吐出口(43a)、第2ガス拡散空間(42d)に連通する第2ガス吐出口(43b)を介して載置台(5)上のウエハWに原料ガスおよび酸化剤ガスを供給するシャワーヘッド(40)において、第1ガス拡散部(42a)内にシャワーベース(41)の下面に密着する複数の伝熱柱(42e)を設けてその間の部分が第1ガス拡散空間(42c)となるようにし、この伝熱柱42eにより載置台5から受ける輻射熱をシャワーヘッド(40)の厚さ方向に伝達する。 (もっと読む)


【課題】 有機モノマーを飽和蒸気圧の大きい高温で効率良く気化させるとともに得られた有機モノマーガスのプラズマ重合反応により有機高分子膜を高真空中で高速成長する。
【解決手段】 液体ジビニルシロキサンビスベンゾシクロブテン(DVS−BCB)モノマーをキャリアガスと混合した後、高温に保持された減圧気化室に噴霧して有機モノマーの液体微粒子からなるエアロゾルを形成し、該エアロゾルを介してBCBモノマー(有機モノマー)を瞬時に気化させてBCBモノマーガス(有機モノマーガス)を発生させる。これによって、比表面積の大きいエアロゾルは気化面積が大きく、高温加熱しても重合反応が生じる前に気化が生じるため、飽和蒸気圧の大きい200℃での0.1g/min以上のBCBモノマーガスが可能となり、プラズマ重合BCB膜を従来の5倍以上の高速成膜が可能となる。 (もっと読む)


【課題】 加水分解性の液体材料が大気と接触するのを確実に防止できる液体自動供給システムを提供する。
【解決手段】 このCVD装置50は、処理室51にペンタエトキシタンタル(PET)を供給するための容器53に予備容器73を接続し、容器53内のペンタエトキシタンタル(PET)の残量が少なくなったときは、配管54と容器53とを切り離して新しい容器53と交換するのではなく、予備容器73からペンタエトキシタンタル(PET)を補充する。これにより、配管54と容器53とを切り離すためのジョイント61jを通じて配管54内に大気が侵入し、配管54内の残留ペンタエトキシタンタル(PET)が加水分解されて酸化タンタルが生成することはない。 (もっと読む)


361 - 364 / 364