サセプタの裏側からの輻射をモニタするためにサセプタ内の１以上の光ファイバを用いる装置および対応する方法が開示される。光ファイバはフィルタされ、電気信号に変換される。堆積サイクルの間電気信号を一定に保つことによってウェハの温度を一定に保持するために制御システムが用いられる。これにより、低温および減圧下でパターンが形成されたウェハ上に非選択エピタキシャルポリシリコン成長を行う間にウェハの温度が変化することによる問題を克服することができる。
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【課題】電子デバイスの製造において好適に使用可能な、より選択性の高い（プラズマエネルギーが比較的に低い）プラズマを与えることができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置を、被処理体にプラズマ処理を行うためのプラズマ処理室と、該プラズマ処理のためのマイクロ波を案内するスロット電極と、該プラズマを着火させるためのプラズマ源とで構成する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理システム及び方法
【解決手段】プラズマ処理システムと共に診断システムを作動させるプラズマ処理システム及び方法が提供される。該診断システムは、該プラズマ処理システムのプラズマ処理チャンバと連通しており、かつプラズマプロセス状態を検知する診断センサを含む。該診断システムは、該診断センサの汚染を実質的に低減するように構成されている。該方法は、該診断センサの汚染を実質的に低減することと、該プラズマプロセスおよび／または該処理チャンバ内の基板の状態を検知することとを含む。
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中実材料の放射率を増大させるシステム及び方法が開示される。ここでは、材料の表面は、まず、微視的レベルの欠陥を生成するように機械加工され、次いで、深い微視的粗さの表面形態を生成するようにエッチングされる。このようにして、これらの改質された材料が加熱要素に用いられるとき、より高い効率とより低いエネルギー消費を得ることができる。従って、このプロセスによって作製された加熱要素は、これらの改良された加熱要素が種々の加熱装置と共に用いられるとき、より低い温度で操作され、その結果、より長い寿命を得る。
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【課題】 マイクロ波の放射特性をより精密に制御することにより、被処理体の半径方向及び周方向における処理の制御性を高める。
【解決手段】 マイクロ波を放射する為の複数のスロット３３が設けられた面２３を有する環状導波路１３を有するマイクロ波供給器及びそれを用いたプラズマ処理装置において、環状導波路１３の中心Ｃ１に対してスロット３の中心Ｃ２、Ｃ５が前記面に沿った方向に偏って配置されていることを特徴とする。 （もっと読む）