【課題】
原版の平面度を向上させることが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】
投影光学系を有し、原版のパターンおよび投影光学系を介して基板の露光を行う露光装置であって、原版を保持して移動する原版ステージと、原版ステージに保持された原版の計測箇所に関して投影光学系の光軸の方向における位置を計測する計測部と、原版の上面または下面に接する空間の圧力を調整する第１の調整部と、原版ステージに設けられて原版を保持する複数の保持部と、複数の保持部それぞれの光軸の方向における位置を調整する第２の調整部と、原版の複数の計測箇所に関して計測部により計測された複数の位置に基づいて第１の調整部および第２の調整部を制御する制御部とを有する。 （もっと読む）

【課題】移動体の正確な速度を取得可能とする干渉計システム、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】移動体に固定され、第１光屈折率を有する第１導波部と、前記移動体に固定され、前記第１光屈折率とは異なる第２光屈折率を有する第２導波部と、前記第１導波部を通過した第１電磁波と、当該第１電磁波と同一波長を有し前記第２導波部を通過した第２電磁波とを干渉させる干渉部と、前記干渉部で生じる干渉波を用いて前記第１電磁波と前記第２電磁波との位相差を検出する検出装置と、検出された前記位相差を用いて前記移動体の移動速度に関する情報を取得する速度取得装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板に転写される像の品質を維持しつつスループットを向上させる。
【解決手段】走査露光装置は、原版を保持する原版ステージ９と、基板を保持する基板ステージ１０と、原版のパターンを基板に投影する投影光学系７とを有し、原版ステージ９および基板ステージ１０の速度が一定速度に制御されている期間のほか原版ステージ９および基板ステージ１０の速度が変化している期間においても基板を走査露光する。走査露光装置は、原版ステージ９の速度変化による原版ステージ９の変形および基板ステージ１０の速度変化による基板ステージ１０の変形の少なくとも１つに起因して基板に転写される像に生じる歪みを基板ステージ１０の加速度によって定まる補正値に従って補正する制御部１５を備える。 （もっと読む）

【課題】 例えば走査型の露光装置に適用したときに走査露光にかかるスループットを向上させることのできる投影光学系。
【解決手段】 第１面（Ｍａ）の像および第２面（Ｍｂ）の像を第３面（Ｗ）に形成する投影光学系（ＰＬ）は、第１結像光学系（Ｇ１）と、第２結像光学系（Ｇ２）と、第３結像光学系（Ｇ３）と、第４結像光学系（Ｇ４）と、第５結像光学系（Ｇ５）と、第６結像光学系（Ｇ６）と、第７結像光学系（Ｇ７）と、第３結像光学系と第７結像光学系との間に配置された第１偏向部材（ＦＭ：Ｒ３７）と、第６結像光学系と第７結像光学系との間に配置された第２偏向部材（ＦＭ：Ｒ６７）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィ装置、基板非平坦性を補償する方法、パターニングデバイス非平坦性の影響を求める方法、およびパターニングデバイスへの熱負荷の影響を求める方法を提供する。
【解決手段】 リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面内にパターンを付与して、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと、サポート上に支持されたパターニングデバイスの表面の高さレベル、曲率、および／または角度を測定するように構成されたセンサとを含む。 （もっと読む）

【課題】ステージ装置の位置制御をより精密に行うことが可能な露光装置及び露光方法を提供すること。
【解決手段】マスクを用いて基板に露光処理を行う露光装置であって、前記マスクを移動可能に保持するステージ装置と、前記ステージ装置に光を照射し、前記光の反射光を用いて前記ステージ装置の位置に関する情報を検出する光干渉装置と、前記光の光路周辺の空間の光屈折率を検出し、検出結果を用いて前記情報の補正を行う補正装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】 可動オブジェクトの実際の位置量を表すセンサによって供給される信号に応じて可動オブジェクトの位置量を制御するための制御システムを提供する。
【解決手段】 制御システムは、可動オブジェクトに力を加えることができるアクチュエータに駆動信号を供給するように構成され、この制御システムは、基準信号を供給するための設定値発生器と、基準信号とセンサによって供給された信号との間の差である誤差信号を供給するための減算器と、誤差信号に応じてアクチュエータに駆動信号を供給するための制御ユニットとを含み、この制御ユニットは、低周波外乱の抑制を改善するための非リニア制御器を備え、その非リニア制御器によってもたらされる高周波挙動の劣化を少なくとも部分的に補償するための補償器をさらに含む。 （もっと読む）

【課題】用力ケーブルから露光動作中のステージに伝達される振動を低減し、ステージ位置決め精度の劣化および解像力の劣化を低減する露光装置を提供する。
【解決手段】 マスクを移動させるマスクステージ２０と、ウエハ等の基板を移動させるプレートステージ３０と、前記マスクのパターンの像を前記基板に投影する投影光学系とを有する露光装置において、前記マスクステージおよび前記プレートステージの少なくとも１つと本体構造体２とを反力板３と複数の用力ケーブル１を含むムービングケーブルで接続すると共に、前記複数の用力ケーブルの間に振動を減衰する減衰材５を介在し、ステージ駆動時に前記反力板に発生する振動を減衰することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
ステージの温度調節において、流体循環系の流量を低減すること、または、流体循環系を不用にすること。
【解決手段】
基板（１０１）を保持するウエハステージ（４）または原版を保持するレチクルステージ（２）を有し、ウエハステージ（４）に保持された基板（１０１）を露光する露光装置であって、ウエハステージ（４）に設けられた気体室（１０３）と、気体室（１０３）の内部で気体の圧力を変化させてウエハステージ（４）の温度を調節する調節手段（１０７，１０８）と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ケーブルの張力による抵抗を低減して高性能に位置決めできるようにしたステージ装置を提供する。
【解決手段】ベース部材２と、前記ベース部材２上に設置されるステージ１と、ステージ１を面方向に移動させて位置決めするアクチュエータ３Ｘ，３Ｙと、ステージ上に設置されるステージ設置部品３ＸＡ，３ＹＡ，８と、ステージ設置部品３ＸＡ，３ＹＡ，８に接続されステージ１の移動に追従するケーブル４〜７とを有するステージ装置であって、ケーブル４〜７は、ステージ設置部品に接続される第１ケーブル４，６と、第１ケーブル４，６に対向するようにステージ設置部品に接続される第２ケーブル５，７とをそなえて構成する。 （もっと読む）

【課題】構造が簡単で、エネルギーを供給の必要が無く、部品劣化が発生しない自重支持装置を有するステージ装置を提供する。
【解決手段】テーブル１と、前記テーブル１を移動させる駆動部６と、テーブルの自重を重力に抗して支持する自重支持装置と、を備えるステージ装置であって、自重支持装置は、軸方向に着磁され、両先端に磁極を有する柱形状からなる第一の永久磁石７と、貫通穴９を有し、前記貫通穴９の軸方向と平行で且つ略一様な磁場が、前記貫通穴９内部の一定範囲において発生するように着磁された第二の永久磁石８とからなり、前記第一の永久磁石７の一方の先端が、前記第二の永久磁石８に形成された前記貫通穴９に非接触で挿入され、前記第一の永久磁石７の他方の先端が、前記第二の永久磁石８に形成された前記貫通穴９の外部に位置するよう配置され、前記第一の永久磁石７と前記第二の永久磁石８との間に発生する磁力を、支持力として利用する。 （もっと読む）

【課題】固定された相対位置でパターニングデバイスと結合される基準ユニットを測定デバイスが含むリソグラフィ装置が提供される。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームにパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持する支持体と、支持体を第一方向に移動する位置決めデバイスと、支持体に対するパターニングデバイスの相対位置を測定して測定信号を生成する測定デバイスとを含み、該測定デバイスは、固定された相対位置でパターニングデバイスに結合される基準ユニットと、支持体に対する基準ユニットの位置を測定する位置センサとを含み、位置決めデバイスは、測定信号に基づいて支持体の位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】測長計の非線形誤差を簡易で高精度に算出できる算出方法を提供する。
【解決手段】移動物体の位置を計測する測長計における非線形誤差を算出する算出方法であって、第１面に配置される第１物体を載置する第１移動物体の位置を第１測長計により計測した第１測長値と、第２面に配置される第２物体を載置する第２移動物体の位置を第２測長計により計測した第２測長値と、第１移動物体の位置又は第２移動物体の位置において、被検光を光検出手段で検出した検出結果と、に基づいて第１測長計又は第２測長計の非線形誤差を算出する算出工程を有する。 （もっと読む）

【課題】相対的に移動可能な２つの部品間でケーブル及び／又はホースをガイドするためのガイドを提供する。
【解決手段】ガイドは、長さ、幅及び厚さを有し、バンドの長軸周りのねじり剛性と、幅方向の軸周りの曲げ剛性と、厚さ方向のせん断剛性とを有するバンドと、バンドに装着された複数のブロックと、２つの隣接するブロック間に提供された変形可能な部材であって、変形可能な部材が隣接するブロックに接続され、バンドの長軸周りのねじり剛性と、厚さ方向のせん断剛性と、幅方向の軸周りの曲げ剛性とを有し、変形可能な部材のねじり剛性がバンドのねじり剛性よりも実質的に大きく、変形可能な部材のせん断剛性がバンドのせん断剛性よりも実質的に大きい変形可能な部材とを含む。 （もっと読む）

【課題】効率的に温度調整が可能なモータ装置、ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】固定子７４Ａの冷却装置８２は、カバー部材８３と、第１材料層８４と、供給装置と、回収装置と、分離装置とを有している。冷却装置８２は、吸熱化学反応を起こす第１材料及び第２材料を用いてコイルジャケット８１を冷却するものである。具体的には、第１材料と第２材料とをコイルジャケット８１の周囲で反応させ、反応によって生じる吸熱作用によってコイルジャケット８１を冷却する。 （もっと読む）

【課題】オーバーレイエラー及び／又は結像の問題が低減されたリソグラフィ装置を提供する。モータ定数の変動が低減されたローレンツアクチュエータを提供する。
【解決手段】
リソグラフィ装置は、該装置の第１及び第２の部分の間に第１の方向に力を発生させるように構成され、各々が該装置の第１の部分に逆向きに取り付けられた第１の磁石アセンブリと、第２の磁石アセンブリとを含むアクチュエータを含み、第１の磁石アセンブリが、第１の主磁石システムと第１の副磁石システムとを含み、第２の磁石アセンブリが、第２の主磁石システムと第２の副磁石システムとを含み、第１及び第２の主磁石システムが、それらの間に第１の方向に実質的に垂直な第２の方向に空間を画定する。アクチュエータは、第２の部分に取り付けられたコイルを含む。第１の副磁石システムの少なくとも一部と第２の副磁石システムの少なくとも一部との間の距離は、第１の主磁石システムと第２の主磁石システムとの間の最小距離より小さい。 （もっと読む）

【課題】十分な精度および測定レートを有し、リソグラフィ用途の特定の環境で使用することができる湿度測定システムを提供する。
【解決手段】例えばリソグラフィ装置で用いる湿度測定システム。この湿度測定システムは、ある波長領域の波長を有する測定放射ビームを発するように構成されたチューナブルレーザダイオードを含む。波長領域は、水分子の吸収ピークに関連した第１の波長を含む。放射ディテクタに信号処理ユニットが接続される。信号処理ユニットは、チューナブルレーザダイオードの吸収される測定放射ビームの強度を測定するように構成される。信号処理ユニットは、波長情報を得るためにチューナブルレーザダイオードにも接続される。信号処理ユニットは、測定された強度の極値を波長の関数として検出し、かつ検出された極値から湿度値を計算するように構成される。 （もっと読む）

【課題】位置精度が向上した位置決めシステムを提供する。オーバーレイエラー及び／又は結像の問題が低減されたリソグラフィ装置をさらに提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、装置の第２の部分に対して装置の第１の部分を位置決めするポジショナを含み、ポジショナは、モータ入力とモータ出力との関係を定義するモータ位置に依存するモータ定数を有するモータと、モータを駆動する制御システムとを含み、制御システムは、第２の部分に対する第１の部分の所望の位置に基づいて基準信号を提供するセットポイントジェネレータと、基準信号に基づいてモータに駆動信号を提供するコントローラとを含み、コントローラは、モータ位置に依存するモータ定数について駆動信号を少なくとも部分的に補償する補償器を含む。さらに、本発明は、ポジショナと、位置決めシステムを最適化する方法と、モータ位置に依存するモータ定数を導出する方法とに関する。 （もっと読む）

【課題】
加工と輸送が容易な分割状態のステージであって、ステージの組立てでの接続強度を強くすることができる露光装置を提供及び容易に組立てができ、あるいは組立て後であっても分割状態から組立てた部位を容易に調整することができる露光装置または液晶露光方法を提供することにある。
【解決手段】
ステージを構成する複数テーブルを接続する中空であって４角柱の構造を有した接続テーブルを設け、接続面に突起物を設けて相手側のテーブルに挿入し前記突起物の位置をテーブルの上面から操作する。また、前記接続面に設けた空気溜め室における空気量を調節する。 （もっと読む）

【課題】液浸型投影装置の汚染を防止または低減する方法を提供する。
【解決手段】投影装置は、少なくとも１つの液浸スペース１０と、その液浸スペース１０を少なくとも部分的に浸液１１で充たすよう構成されているそれぞれの液浸システムとを備える。基板Ｗに放射のパターンの付いたビームを投影するために使用される前に、リンス液１１で液浸スペース１０の少なくとも一部をリンスするよう構成することができる。この装置が比較的長いアイドル動作モードにある間、液浸スペース１０の少なくとも一部をリンスするよう構成されている。基板に対してパターンの付いた放射ビームを投影するまで実質的に継続して液浸スペース１０をリンスするよう構成することができる。 （もっと読む）