【課題】重ね合わせ補正時に生じる極めて微小な誤差を明確化し、この誤差を修正したより正確な重ね合わせ補正を可能として、半導体装置に対する更なる微細化及び高集積化の要請に十分に応え、信頼性の高い電子デバイスを実現する。
【解決手段】回転シフトの補正時に微小な並進シフトが生じることを見出し、この並進シフト成分を加味して回転シフトの補正を行う。即ち、縮小投影露光法を用いて半導体基板２１上の転写パターンへレチクル２０上のマスクパターンの投影像を重ね合わせる際に、半導体基板上の転写パターンにおける露光ショット領域の並進シフトの測定値に応じて、露光ショット領域の回転シフトを補正する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ステージの移動条件に因らず、残留反力を低減するステージ装置、或いはガイド機構の直進性を高めることで、ガイド機構によって生じるステージドリフトを低減するステージ装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、残留反力を決定付けるステージの速度等に応じて、追い越し量を制御する試料ステージ装置を提案する。この構成によって、ステージの移動速度等によって変化する残留反力を低減することが可能になる。また、ガイド機構を押圧する押圧機構であって、ガイド機構を支持する支持部材に回転可能に固定され、当該回転によって、前記案内機構を押圧すると共に、前記回転の回転中心とは異なる中心位置を持つ円形の押圧部を有する試料ステージ装置を提案する。このような構成によれば、押圧機構のトルク管理によって、押圧力を制御できる。 （もっと読む）

【課題】ワークが保持されるステージが上下方向、水平方向さらに回転方向へ駆動する機能を有し、高さ方向と長さ方向において寸法が小さく、コンパクトなステージ装置を提供する。
【解決手段】スライダ１５は左右１つずつ設けられているだけなので、ガイドレール５の長さ寸法を短いものにすることができる。昇降用モーター２１はボールネジシャフト１７の側方に備えられ、昇降用モーター２１の駆動力がプーリー２３、タイミングベルト２５、プーリー１９を介してボールネジシャフト１７に伝達されるようになっているので、ステージ装置１の高さ方向と長さ方向において寸法が小さくすることが可能となっている。 （もっと読む）

【課題】干渉計の原点の検出に関して、光源からの光の波長が変化した場合にも（実環境においても）高い再現性を実現できる。
【解決手段】第１の波長の第１光源からの光による第１の干渉信号と第２の波長の第２光源からの光による第２の干渉信号との位相差が０となる位置を原点とする干渉計の調整方法であって、前記第１の波長がλ１、前記第２の波長がλ２である場合における原点に対する前記第２の干渉信号の振幅が最大となる位置の相対位置Ｄを求めて、パラメータの値ＰをＰ＝Ｄ／λ２（λ２−λ１）の式に従って算出し、このパラメータの値Ｐに基づいて、前記第１の波長がλ１からλ１’、前記第２の波長がλ２からλ２’に変化した場合における前記原点の移動量ＢをＢ＝Ｐ・（λ１’・λ２’−λ１・λ２）の式に従って算出し、この原点の移動量Ｂに基づいて、前記第１の波長がλ１’、前記第２の波長がλ２’である場合における原点を決定する調整方法。 （もっと読む）

【課題】 パターニングデバイスとパターニングデバイス支持体との間のずれが考慮されるリソグラフィ装置のパターニングデバイスに位置測定システムを提供する。
【解決手段】 本発明は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイス支持体と、基板を保持するように構成された基板支持体と、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、少なくとも基板のターゲット部分へのパターン付放射ビームの投影の間、パターニングデバイス上に提供されたグリッド又は格子を用いてパターニングデバイス支持体上に支持されたパターニングデバイスの位置量を連続して決定するように構成されたエンコーダタイプの測定システムとを含むリソグラフィ装置に関する。 （もっと読む）

【課題】露光装置のチャンバーの内部と外部との間に温度差が存在する場合においても、より正確に投影光学系の投影倍率を補正する。
【解決手段】露光装置は、チャンバーの内部で原版のパターンを投影光学系によって基板に投影し該基板を露光する。露光装置は、前記原版の変形量を求めるための計測を行う計測部と、前記チャンバーの内部の温度における前記原版の形状を基準とする前記原版の変形量と前記原版が露光光を受ける時間との関係を示す情報と、前記チャンバーに搬入され露光に使用される前の状態において前記計測部が計測を行うことによって得られた計測値に基づいて決定される前記原版の露光前の変形量と、前記原版が露光光を受ける時間とに基づいて、前記原版の予測変形量を演算し、前記予測変形量を補正するように前記投影光学系の投影倍率を補正する制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板上への放射ビームの焦点制御における誤差を低減すること。
【解決手段】リソグラフィ装置によって提供されるパターニングの、パターニングされる基板のトポロジに起因する焦点誤差が光学的に修正される。基板のマップされたトポロジに基づいてレチクルをスキャン軸の周りに湾曲させることにより、交差スキャン方向の焦点制御が提供される。湾曲は、レチクルをスキャンする際に、フィールドからフィールドまで更新することができる。湾曲は一方向（たとえば下向きのみ）であってもよいが、ビーム波面に対して正または負のいずれかの曲率（あるいはゼロ曲率）を導入するために、光学補償エレメント（たとえば円筒形状に研磨されたレンズまたはミラー、あるいは力アクチュエータによって円筒形状に湾曲した透明なプレートまたはミラー）を含むことができ、それによりベンダのメカトロニクスが単純化される。 （もっと読む）

【課題】オブジェクトを２以上の自由度で制動させるための方法を提供する。
【解決手段】２以上の２以上の測定位置の各々で位置量を測定することと、測定された位置量から動的モード毎に測定信号を抽出することと、１つの動的モードの測定信号を、対応する個々の動的モードと結合したコントローラユニットに供給することであって、コントローラユニットが対応する個々の測定信号に基づいて動的モード毎に出力信号を提供することと、２以上のアクチュエータの各々に制御信号を提供することであって、アクチュエータ毎の制御信号が１つまたは２以上のコントローラユニットの出力信号に基づくこととを含む方法。 （もっと読む）

【課題】対向配置された対象物同士の相対的な傾きをを高精度にかつ容易に調整することができる傾き調整の技術を提供することを目的とする。
【解決手段】基板５５には第１検出部である電極が形成され、基板５６には第２検出部である電極が基板５５の電極と対を構成する位置に形成されている。そして、基板５５および基板５６をステージ部１５の保持部２９およびヘッド部３９の保持部４４にそれぞれ保持し、基板５５および基板５６の電極の対の間の静電容量を検出部５０により検出する。そして、検出された静電容量が所定の値になるように、Ｘ−Ｙテーブル制御部５２によってＸ−Ｙステージ機構１１を移動させ、基板５５および基板５６の相対的な傾きを調整する。 （もっと読む）

【課題】 オーバレイの改良につながるパターニングデバイス支持体を提供する。
【解決手段】 リソグラフィ装置は、パターニングデバイスの側面の少なくとも１つに選択的に加圧することによって平面方向でパターニングデバイスの位置を制御するように構成された位置コントローラを含む。位置コントローラはパターニングデバイスの位置を平面方向で非接触式に制御するために、パターニングデバイスの少なくとも１つの側面に加圧ガスを加えるように、ガス圧供給部及びこの側面へと向けられた１つ又は複数の流出開口を含む。 （もっと読む）

【課題】 液晶パネルを基板の無駄を少なく生産する。
【解決手段】 液晶基板を自在に回転させる回転駆動手段とマスクを自在にマスキングする遮光板を設けることで、該載置手段を回転させ、マスクに配置された液晶パネルの全部または一部を露光することにより、液晶パネルを形成する。 （もっと読む）

【課題】複数のレチクルを用いてウエハ上の複数の区画領域を連続して露光する。
【解決手段】
直線経路を移動するレチクルＲ_１１、直線経路を移動するレチクルＲ_２１、直線経路を移動するレチクルＲ_１２，及び直線経路を移動するレチクルＲ_２２，を走査方向（Ｙ軸方向）に順番に駆動するとともに、ウエハＷを保持するステージを走査方向に駆動することにより、レチクルＲ_１１，Ｒ_２１，Ｒ_１２，Ｒ_２２に形成されたパターンを、共通の投影光学系を介して、ウエハＷ上の走査方向に配列された複数の区画領域に連続して転写する。ここで、レチクルＲ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_２１、Ｒ_２２は、それぞれ、走査方向に延びる直線経路を含む閉じた経路Ｌ_１，Ｌ_２に沿って周回移動する。それにより、全ての区画領域にパターンを転写するのに要する時間、すなわち露光工程に要する時間を短縮することができ、その結果、スループットの向上が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 任意のパターンを有するレチクル上のパーティクル及び異常の検出を可能にすること。
【解決手段】 レチクル検査のための方法及びシステムを開示する。この方法は、検査レチクル及び基準レチクルの表面をコヒーレントに照明すること、照明された表面からの散乱光にフーリエ変換を適用すること、基準レチクルからの変換された光の位相を、検査レチクルからの変換された光と基準レチクルからの変換された光との間の位相差が１８０度であるようにシフトすること、変換された光を像減算として合成すること、合成された光に逆フーリエ変換を適用すること、及び、ディテクタにおいて合成された光を検出することを含む。照明源からディテクタへの２つの光路間の光路長差は、照明源のコヒーレント長未満である。ディテクタにより検出される像は、レチクルの振幅及び位相分布における差を表し、これにより、外部パーティクル、異常などを容易に識別することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 結像問題および／またはオーバーレイエラーの低減されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】 リソグラフィ装置が、可動の第１のオブジェクトＯＢ１と、熱交換器とを含み、熱交換器が、電気熱量特性または磁気熱量特性を有する材料を含み、かつ可動の第１のオブジェクトと熱を交換することによって第１のオブジェクトＯＢ１の温度に影響を及ぼすように構成された熱交換体ＢＯと、第１のオブジェクトＯＢ１を冷却または加熱するために、熱交換体ＢＯに電磁界を供給し熱交換体ＢＯの温度を変化させるように構成されたジェネレータＧＥＮとを含む。 （もっと読む）

【課題】複数のレチクルを用いてウエハ上の複数の区画領域を連続して露光する。
【解決手段】
回転する定盤ＲＢ_１を回転駆動しつつ、回転している定盤ＲＢ_１上でレチクルＲ_１１，Ｒ_１２，Ｒ_１３のそれぞれを保持するステージを駆動することにより、これらのステージを走査方向に延びる直線経路Ｐ_１１−Ｐ_１２に沿って、交互に且つ繰り返し、等速度で駆動するステージ駆動系２２_１を露光装置に搭載する。ステージ駆動系２２_１を用いて、複数のステージを走査方向に交互に駆動すると同時に、ウエハを保持するステージを走査方向に駆動することにより、ステージがそれぞれ保持するレチクルに形成されたパターンを、共通の投影光学系を介して、ウエハ上の走査方向に配列された複数の区画領域に連続して転写する。それにより、露光工程に要する時間の短縮、すなわちスループットの向上が可能となる。 （もっと読む）

【課題】複数のレチクルを用いてウエハ上の複数の区画領域を連続して露光する。
【解決手段】
直線経路Ｌ_１を移動するレチクルＲ_１１、直線経路Ｌ_２を移動するレチクルＲ_２１、直線経路Ｌ_１を移動するレチクルＲ_１２，及び直線経路Ｌ_２を移動するレチクルＲ_２２，を走査方向（Ｙ軸方向）に順番に駆動するとともに、ウエハＷを保持するステージを走査方向に駆動することにより、レチクルＲ_１１，Ｒ_２１，Ｒ_１２，Ｒ_２２に形成されたパターンを、共通の投影光学系を介して、ウエハＷ上の走査方向に配列された複数の区画領域に連続して転写する。それにより、全ての区画領域にパターンを転写するのに要する時間、すなわち露光工程に要する時間を短縮することができ、その結果、スループットの向上が可能となる。 （もっと読む）

【課題】省スペース化及び低コスト化を図ることができる温調装置、温調方法、ステージ装置及び露光装置を提供すること。
【解決手段】物体の温調を行う温調装置であって、前記物体に熱的に接触された第１空間と、絞り部を介して前記第１空間に接続された第２空間と、前記第２空間から前記第１空間に前記絞り部を介して気体が流通するように前記第１空間及び前記第２空間のうち少なくとも一方の圧力を調整する圧力調整装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、スリットシステムとレチクルのパターンの両方を簡単に交換でき、マスクのパターンを正確に形成することができる露光装置を提供する。
【解決手段】 露光装置は、露光光を発する光源と、該露光光を反射する反射部材とを有する露光照射部と、マスクを支えるマスクステージと、露光照射部で照射されたマスクのパターンを被露光体の表面に結像する結像光学系と、被露光体を二次元平面上に載置する被露光体ステージと、露光照射部とマスクステージと結像光学系とを保持し、被露光体ステージに対して移動可能な保持部と、被露光体ステージを支えると共に保持部を移動可能に支えるベース部と、を備える。露光照射部の光源から反射部材までの光軸は二次元平面と平行に配置され、結像光学系は二次元平面と交差する方向に配置され、該交差する方向に沿って保持部がベース部に対して移動可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】可動部材とともにステージ上に保持される物体の変形を防ぐことができるステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】物体を保持する第１ベース部と、前記第１ベース部に対して移動可能な可動部を保持する第２ベース部と、前記第１ベース部上に設けられ、前記第２ベース部の荷重方向に対向する対向方向に関して非拘束状態で該第２ベース部を支持するベース支持部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 偏光照明を用いた露光方法において、照明モードが変更された場合でも、良好な偏光状態を保持する。
【解決手段】 本発明の投影露光装置では、レチクルのパターンに応じた照明光を形成するため、偏光状態の切り替え手段と有効光源の切り替え手段を有する。この際に偏光状態が劣化するのを防止するため、偏光状態と有効光源を切り替えた際に、照明光学系内の光学素子を保持する鏡筒を光軸を中心に予め設定された角度だけ回転する。これにより、照明光は、常に光学素子上の複屈折が低く保持された箇所を通過するため、良好な偏光状態が保たれる。 （もっと読む）