【課題】 本体構造体の小型化を図ることで、露光装置全体の小型化を図る。
【解決手段】 本発明のステージ装置は、基板または原版を保持する保持部を有し、平面内を移動する可動体と、前記可動体に設けられ、前記保持部に基板または原版が保持された際に前記基板または原版よりも前記平面に垂直な方向に突出する反射面と、前記反射面に光を照射し、その反射光を用いて前記可動体の位置を計測する干渉計と、を備え、前記光は、前記反射面に対して、前記保持部が設けられた側から前記反射面に照射される。 （もっと読む）

【課題】マスクの変形を抑制し、露光精度の低下を防止することができる露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】マスクを介して基板に露光光を照射して前記基板の露光処理を行う露光装置であって、前記マスクの冷却に用いる液体を当該マスクに付着させる液体供給装置を備える。 （もっと読む）

【課題】クリーンルーム内の空気を恒温チャンバ内に導入する導入口近傍の温度変動を抑制すると共に、導入空気の不純物濃度を制御することにより、露光装置に送り込む空気の均一化を図ることを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる露光装置は、露光系本体と、この露光系本体を内部に設置し、露光系の設置環境を所定の雰囲気に保持する恒温チャンバと、クリーンルーム内の空気を前記恒温チャンバ内に導入する外気導入手段とを備えた露光装置であって、前記外気導入手段は、複数の導入口が開口され、各導入口の開口面積を可変自在に変更する機構により、外気導入量を調整する外気導入量調整手段を有する。 （もっと読む）

【課題】案内面の損傷を低減させるステージ装置を提供する。
【解決手段】
本発明のステージ装置は、ステージ部４と、ステージ部４の移動を案内する案内面を含む静圧軸受ガイド５と、ステージ部４に保持され且つ案内面に向けて気体を噴出するエアパッド２と、ステージ部４に保持され且つ案内面に対向した永久磁石３とを有するステージ装置であって、 静圧軸受ガイド５は、磁性体を含み且つ永久磁石３に対向した突出部を含む金属部７と、金属部７の硬度より高い硬度を有し、金属部７を被覆し、且つ案内面を有するセラミック部６とを含む。 （もっと読む）

【課題】
スループットを向上させた露光装置を提供する。
【解決手段】
第１の原版及び第２の原版のパターンを投影して基板を露光する露光装置であって、第１の原版及び前記第２の原版を走査方向に並べて保持して走査方向に移動可能な原版走査手段と、基板を保持して走査方向に移動可能な基板走査手段と、原版を照明する照明手段と、原版からの光を基板に投影する投影手段と、原版走査手段、基板走査手段及び照明手段を制御する制御手段とを有し、制御手段は、原版走査手段及び基板走査手段を互いに同期して加速させる第１の期間に、基板の第１のショットを前記第１の原版を介して露光し、かつ、原版走査手段及び基板走査手段を互いに同期して減速させる第２の期間に、第１のショットに対して走査方向に配列されている第２のショットを第２の原版を介して露光するように、原版走査手段、基板走査手段、及び、照明手段を制御する。 （もっと読む）

【課題】移動体の駆動手段を制御する電流制御装置が制御の遅れ特性を有していても高精度な位置制御を行うこと。
【解決手段】電流値に応じた推力を発生させて制御対象３０１を駆動するリニアモータと、リニアモータへ入力する電流値をフィードバック制御するリニアモータドライバ３０３と、制御対象３０１の伝達関数とリニアモータドライバ３０３の遅れ特性を含んだ伝達関数とを用いて、制御対象３０１をフィードフォワード制御するための第１の操作量Ｓ１を生成するフィードフォワード制御部１０２と、制御対象３０１に生じる外乱を、制御対象３０１の伝達関数とリニアモータドライバ３０３の遅れ特性を含んだ伝達関数とを用いて推定する外乱オブザーバ１０４と、を備え、第１の操作量Ｓ１を推定外乱ｄ’に基づき補正して得られる第２の操作量Ｓ４に従って、リニアモータドライバ３０３が電流値のフィードバック制御を行う。 （もっと読む）

【課題】処理精度の低下を抑制することが可能な基板処理装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板に対し所定の処理を行う処理装置を有する基板処理装置であって、前記処理装置に接続され、前記処理装置に流体を供給する第一配管と、前記第一配管を内包し、前記処理装置から前記流体を排出する第二配管とを備える。 （もっと読む）

【課題】少なくとも２つの移動体を精度よく同期移動させる移動体装置を提供する。
【解決手段】移動体装置が、制御対象３０１の目標軌道に基づいて制御対象３０１の位置を完全追従制御するフィードフォワード制御部１０２及びフィードバック制御部１０３からなる第１の２自由度制御部１００と、制御対象３０１の少なくとも位置及び速度に関する値を含んだ状態を推定する状態推定部１０４と、制御対象３０１の状態と制御対象３０１の目標軌道との偏差を算出する偏差演算部１０７と、制御対象３０２の目標軌道に前記偏差を加算した軌道に基づいて制御対象３０２の位置を完全追従制御するフィードフォワード制御部２０２及びフィードバック制御部２０３からなる第２の２自由度制御部２００と、を備える。 （もっと読む）

【課題】誤差の少ない高精度な位置検出が可能な平面モータを実現する。
【解決手段】プラテン上に配置されたスライダをＸ軸方向及びＹ軸方向に位置制御する平面モータにおいて、
前記スライダにレーザ光源、レンズおよびイメージセンサを搭載し、前記レーザ光源から出射したレーザ光を前記プラテンで反射させ前記レンズを介して前記イメージセンサで受光するように構成した。 （もっと読む）

【課題】投影される像と基板とを正確に位置合わせする。
【解決手段】リソグラフィ装置において基板が像に対し走査されるときに、基板に露光されるべき像の精密パターンに比べて走査機構は粗い精度を持つ。像と基板とがある時点で位置合わせされることを保証するために、基板テーブル、または例えばマスクテーブル等の像を位置合わせするデバイスに振動が与えられる。位置合わせ誤差の最大値に応じて振動周波数が選択される。放射パルスの周波数は像と基板とが最も正確に位置合わせされるよう調整される。像の放射パルスのタイミングは、振動が与えられていない場合に正確な位置合わせを実現するよう調整されていてもよい。 （もっと読む）

【課題】制御モデルの同定を最適化し、以ってフィードフォワード制御による高精度な位置制御を行う。
【解決手段】制御対象物の制御特性を表すモデルを用いた完全追従制御により前記制御対象物をフィードフォワード制御するフィードフォワード制御手段を備えた制御装置において、前記モデルは、前記制御対象物の周波数応答曲線における第１の変曲点が周波数１０Ｈｚより低い領域に存在し、且つ、第２の変曲点が前記第１の変曲点の周波数より高く周波数１０Ｈｚより低い領域に存在している場合に、前記第１及び第２の変曲点を含む周波数範囲において前記周波数応答曲線との誤差が最小となるようにモデルパラメータが設定されている。 （もっと読む）

【課題】 干渉計と波長補償器の出力をデジタル信号に変換するときの量子化誤差に起因する計測誤差を低減した位置計測装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 移動体の位置を計測する干渉計と、前記干渉計の計測光の光路における気体の状態に起因する前記計測光の波長変動を補償する波長補償器と、前記干渉計と前記波長補償器の出力に応じた位置計測値を出力する制御器と、を備える位置計測装置であって、前記制御器は前記干渉計および前記波長補償器の出力をデジタル信号に変換するアナログ／デジタル変換器を含み、前記波長補償器の出力をデジタル信号に変換するときの分解能が、前記干渉計の出力をデジタル信号に変換するときの分解能よりも高い。 （もっと読む）

【課題】配管を用いることによる悪影響を排除できるモータ装置を提供する。
【解決手段】固定子と可動子の一方にコイル体Ｃが設けられ、固定子と可動子の他方に発磁体が設けられる。コイル体を収容し、冷媒が装填される第１空間８１ａを有する第１収容部８１と、第１空間との間で冷媒が流動可能に装填される第２空間８２ａを有する第２収容部８２と、冷媒の流動経路に設けられ冷媒の熱を輻射により放熱する放熱装置８６と、第２空間に設けられ可動子の移動に伴う慣性力で移動して、冷媒を少なくとも第１空間から放熱装置に向けて流動させる流動装置８３とを備える。 （もっと読む）

【課題】高加速化を実現しつつ、小型化、軽量化をも体現したステージ装置を提供する。
【解決手段】第１可動部３２と第２可動部３３とを含み、定盤３０に対して移動するステージと、第１可動部３２に対して第２可動部３３を位置決めする第１アクチュエータ３７と、第１可動部３２に対して第２可動部３３の加減速をする第２アクチュエータとを備えたステージ装置であって、第２アクチュエータは、第２可動部３３に第１軸に平行な方向へ力を与える電磁石と、前記第１軸に平行しない第２軸に平行な方向へ力を与える電磁石とを含む複数の電磁石４０ａ〜４０ｄで構成され、該複数の電磁石４０ａ〜４０ｄは、該各電磁石の発生する力の力線４２が、第２可動部３３の重心４１からオフセットし、かつ、力線４２がそれぞれ複数個所で交差するように配置される。 （もっと読む）

【課題】
軽量で高剛性な可動部を備え、高加減速で高精度位置決め可能な露光装置用ステージを提供する。
【解決手段】
原版または基板を搭載して移動する可動部を備える走査型露光装置であって、前記可動部は、走査方向に平行で、かつ、前記可動部の一端から他端に渡ってつなぎ目なく配置される複数の第１棒状部材と、前記複数の第１棒状部材と交差するように配置され、前記第１棒状部材とともに複数の直方体の辺を形成する複数の第２棒状部材と、前記複数の直方体の６面の四角形において対角線上に配置される複数の第３棒状部材と、を含む。 （もっと読む）

【課題】従来の温調方法に比べて、半導体ウエハの均一な温調及び高応答性を実現することができる半導体製造装置及び温調方法を提供する。
【解決手段】内部に空洞２１を有するウエハ載置台２と、ウエハ載置台２の温度をプロセス温度に調整すべく、プロセス温度以下の水を空洞２１の内壁に噴射するノズル６４ａとを備える半導体製造装置であって、空洞２１内の圧力を検出する圧力センサ（７１）と、圧力センサ（７１）にて検出された圧力が、ノズル６４ａから噴射される水の温度に係る飽和蒸気圧以上、プロセス温度に係る飽和蒸気圧以下になるように空洞２１内の気体を排出する真空ポンプとを備える。 （もっと読む）

【課題】 基板を保持するステージを支持する定盤の温度均一性を高める。
【解決手段】 基板の複数のショット領域を順に露光する露光装置であって、基板を保持するステージと、前記ステージを支持する定盤と、前記ステージを前記定盤に対して平行な平面内で駆動する平面モータと、前記定盤を冷却する冷却ユニットと、を備え、前記定盤は、最初のショット領域の露光が開始されてから最後のショット領域の露光が終了されるまでの露光処理期間においてその中に前記ステージの一部が常に存在する領域の外縁を規定する第１境界線と、前記露光処理期間において前記ステージが駆動される領域の外縁を規定する第２境界線と、の間に設定される第３境界線によってその外縁を規定される第１領域と、前記第３境界線によってその内縁を規定され、前記第１領域よりも前記露光処理期間内における温度上昇が小さい第２領域とを含み、前記冷却ユニットは、前記第１領域内で冷媒を流す第１冷却路と前記第２領域内で冷媒を流す第２冷却路とを含む。 （もっと読む）

【課題】過剰制限による弊害を解消し、フォーカス駆動及び／又はレベリング駆動におけるステージの追従精度及び／又は同期精度を向上する。
【解決手段】原版および基板を移動させながら基板を露光する走査露光装置は、原版からの光を前記基板に投影する投影光学系と、基板を保持して移動するステージと、投影光学系の光軸の方向における基板の位置を計測する計測部とを有する。そして、この走査露光装置は、この光軸に直交する方向に関するステージの駆動状態に基づいて制限値を設定し、計測部によって計測された複数箇所における計測値に基づいてその平均値または基板の傾きを算出し、算出された平均値または傾きから生成される前記ステージの前記光軸の方向の駆動量と制限値を比較し、比較結果に応じて、駆動量が制限値を超えないようにステージの移動を制御する。 （もっと読む）

【課題】
ＸＹステージのピッチング方向の揺れを抑えた高精度な位置決めを行う基板ステージを提供する。
【解決手段】
ステージと、前記ステージを第１方向に駆動する第１駆動機構と、前記ステージを前記第１方向に直交する第２方向に駆動する第２駆動機構と、前記第２駆動機構による前記第２方向へのステージの駆動を案内する駆動ガイドと、前記駆動ガイドと対向して設けられ前記ステージを支持するエアベアリングと、を有するステージ装置であって、
前記第２駆動機構は、前記ステージを前記第１方向に駆動する手段を更に有し、前記第１駆動機構によって前記ステージを駆動する際に、前記駆動ガイドと前記エアベアリングとの間隔を、前記第２駆動機構を駆動することで制御する制御手段を有することを特徴とするステージ装置。 （もっと読む）

【課題】質量体駆動源の応答遅れ及び推力変動によって起こるステージ駆動反力漏れを抑制するステージ装置を提供する。
【解決手段】本発明のステージ装置は、ステージと、前記ステージを支持する定盤と、前記ステージを駆動する駆動手段と、前記ステージの駆動に伴い前記定盤に作用する力を相殺するように力を前記定盤に作用させる力発生機構とを有するステージ装置であって、前記力発生機構は、第１力発生機構と第２力発生機構とを含み、前記第２力発生機構は、前記ステージの駆動に伴い前記定盤に作用する力と前記第１力発生機構によって前記定盤に作用させる力との差分に基づいて、前記定盤に力を作用させることを特徴とする。 （もっと読む）