【課題】 エンコーダシステムを用いた位置計測装置において、計測誤差による影響を低減させることを目的とする。
【解決手段】 対象物を搭載して移動可能な移動体と、前記移動体の位置を計測可能なエンコーダ型の第１の計測手段と、前記第１の計測手段による計測と同時に、前記移動体の位置を計測可能、あるいは前記対象物または前記移動体に形成されたマークの位置を検出可能な第２の計測手段と、前記第１および第２の計測手段の計測結果にもとづいて、前記第１の計測手段の計測誤差を算出し、該計測誤差にもとづいて前記第１の計測手段を補正する補正手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 物体の変位量を高精度に測定可能な変位測定装置を提供すること。
【解決手段】 本発明の一側面としての変位測定装置は、格子パターン６が形成されたスケール７と、スケール７に光を照射する光源と、スケール７の格子パターン６で回折された光を受光する受光素子と、を備える。格子パターン６の形状は、その格子パターン６の格子方向Ｙに一定の周期で変化している。受光素子は、格子パターン６上の、格子方向Ｙにその周期の自然数倍の長さを有する領域１００で回折された光を受光する。 （もっと読む）

【課題】マスク面を境界とする空間を定義する空間定義部材を使用すべきマスクに応じて変更可能にする。
【解決手段】露光装置ＥＸは、マスク面を境界とする空間を定義する空間定義部材１とともにマスクＭを移動させるマスクステージＭＳＴと、前記空間の圧力を制御する圧力制御器と、複数の空間定義部材１のうち露光処理に使用すべきマスクＭに適合した空間定義部材を当該マスクＭに組み合わせるための操作機構ＭＬとを備える。 （もっと読む）

【課題】遮光部材を上流側に戻す際に、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】近接露光装置１において、各遮光ユニット１４は、それぞれＸ方向に移動可能に配置される四組の一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂを有し、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｄは、露光用光ＥＬを通過させる貫通孔９０ａ〜９３ｂをそれぞれ備え、各貫通孔９０ａ〜９３ｂは、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂが重ね合わせられた際に、露光用光ＥＬが各貫通孔９０ａ〜９３ｂと対向する一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂのいずれかによって遮光されるように形成される。 （もっと読む）

【課題】同一の被露光体に対する複数種の露光パターンの形成効率を向上する。
【解決手段】被露光体を一方向に一定速度で搬送しながら該被露光体の搬送方向に所定間隔で配置された第１及び第２の露光領域毎に異なる露光パターンを形成する露光方法であって、各露光パターンに対応する第１及び第２のマスクパターン群を被露光体の搬送方向に所定間隔で並べて形成したフォトマスクの第１のマスクパターン群による被露光体の第１の露光領域に対する露光が終了すると、フォトマスクを所定距離だけ移動して第１のマスクパターン群から第２のマスクパターン群に切り替える段階と、第２のマスクパターン群により被露光体の第２の露光領域に対する露光を実行する段階と、を有し、第１及び第２のマスクパターン群の切り替え時における被露光体の移動距離がフォトマスクの移動距離よりも長くなるようにフォトマスクの移動速度を制御するものである。 （もっと読む）

【課題】 例えばロール・ツー・ロールで搬送される帯状の感光性基板の移動速度を変化させなくても非露光エリアを小さく抑える。
【解決手段】 本発明の露光装置は、感光性基板（ＳＨ）を移動させる移動機構（ＳＣ）と、第１パターン領域を有する第１マスク（Ｍ１）を保持して移動する第１ステージ（ＭＳ１）と、第２パターン領域を有する第２マスク（Ｍ２）を保持して移動する第２ステージ（ＭＳ２）と、第１パターン領域のパターン像を基板上に形成する第１投影光学系（ＰＬ１）と、第２パターン領域のパターン像を基板上に形成する第２投影光学系（ＰＬ２）と、第１パターン領域のパターンを基板上の第１露光領域へ走査露光する第１走査露光期間と、第２パターン領域のパターンを基板上の第２露光領域へ走査露光する第２走査露光期間とが部分的に重複するように制御する制御部（ＣＲ）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】ワークとマスクとのギャップを均一化するようにチルト補正して、露光精度を向上する近接露光装置及び近接露光方法。
【解決手段】ワークＷのマークとマスクのアマークとを検出する少なくとも２つのアライメント検出系１５２と、露光領域Ｐに位置するワークＷとマスクとのギャップをそれぞれ検出する少なくとも３つのギャップセンサ１５３と、マスク保持部をＸＹ方向、およびθ方向に駆動可能、且つチルト駆動可能なマスク駆動機構２００とを有し、マスク駆動機構２００は、アライメント検出系１５３で検出された両マークのずれ量に基づいて、マスク保持部を水平面上で駆動することでワークＷとマスクとのアライメントを調整するとともに、マスク駆動機構２００は、ギャップセンサ１５３によって検出されたギャップに基づいて、マスク保持部をチルト駆動することで、ワークＷとマスクとの相対的な傾きを補正する。 （もっと読む）

【課題】２つのミラーの間の直交度を迅速かつ高い精度で計測する。
【解決手段】第１ミラー５４１および第２ミラー５４０を有する物品における前記第１ミラー５４１の反射面と前記第２ミラー５４０の反射面との直交度を計測する計測方法に係り、前記計測方法は、前記第２ミラー５４０の反射面に対して直角にレーザ光ＬＢ１が入射するように前記レーザ光ＬＢ１の光軸を調整する調整ステップと、前記第１ミラー５４１の反射面に平行な方向に前記物品を既知の距離だけ移動させたときの、前記レーザ光ＬＢ１が入射するように前記第２ミラー５４０の反射面に配置されたコーナーキューブＣＣ１によって反射された前記レーザ光ＬＢ１の光軸の変位量を検出する検出ステップと、前記距離と前記変位量とに基づいて前記第１ミラー５４１の反射面と前記第２ミラー５４０の反射面との間の角度が直角からずれている量を計算する計算ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化及び高価格化を防止できるシャフトモータを提供する。
【解決手段】軸体６０と筒体７０との一方に発磁体６１が設けられ、軸体と筒体との他方にコイル体ＣＬが設けられる。軸体の軸線位置と、筒体の軸線位置とを同軸となるように調整する位置調整装置ＣＤ、ＣＯＮＴを有する。 （もっと読む）

【課題】生産性の低下や露光処理等への悪影響を抑制する。
【解決手段】一対の接続部材ＡＭ１１、ＡＭ１２を所定の軸周りに回転自在に接続する関節部ＪＴ１２を有する。関節部は、一対の接続部材を非接触で、所定の軸周り方向に相対的に回転自在、且つ所定の軸と直交する方向への相対移動を拘束するベアリング装置ＢＲ１２を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、搬送装置のメンテナンス作業を効率よく行うことができる搬送装置のメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】 マスクケース搬送装置（２９）のメンテナンス方法は、ＣＺ軸駆動部（２６）によってケース保持部（２３）を上下方向の第１位置に配置する工程（Ｓ１０２）と、最上段、最下段および中央段に設けられた複数のＣＺ軸駆動部２６のカバー部材のうち第１位置に配置されたケース保持部と異なる高さに位置するカバー部材を取り外す第１取り外し作業を行う工程（Ｓ１０６）と、第１取り外し作業後に取り外されていない複数の前記カバー部材のうち第１位置に配置されたケース保持部と異なる高さに位置するカバー部材を取り外す第２取り外し作業を行う工程（Ｓ１０７）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】異物の飛散を低減化すること。
【解決手段】基板を保持する基板保持部上を清掃する清掃部材と、基板保持部上の異物が清掃部材に付着するように当該清掃部材に静電力を付与する静電力付与装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】マスクとプレートとの間の高精度な位置合わせが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】マスクの上に配置されたマスクマークとプレートの上に配置されたプレートマークとの間の位置合わせを行う露光装置であって、マスクマーク及びプレートマークを同時に計測して画像を取得する画像計測装置と、画像計測装置により取得された画像からマスクマークとプレートマークとの間の相対的な位置誤差を算出する位置誤差演算装置と、画像計測装置による画像取得期間中に、マスクを搭載したマスクステージ又はプレートを搭載したプレートステージの駆動目標位置に対する位置偏差を計測する偏差計測装置と、偏差計測装置により得られたマスクステージ又はプレートステージの位置偏差と、位置誤差演算装置により得られた位置誤差とを用いて、マスクマークとプレートマークとの間の位置合わせを行うための補正量を算出する補正量演算装置とを有する。 （もっと読む）

【課題】地震等による振動が加わった際にも構造体の被害を低減する。
【解決手段】構造体１１０をそれぞれ所定圧力に設定された複数の気体バネ装置９０で支持する。複数の気体バネ装置のそれぞれの位置情報を検出する検出装置６０と、複数の気体バネ装置のそれぞれに設けられて対応する気体バネ装置の排気量を、検出装置の検出結果に基づいて調整する複数の排気量調整装置８５と、複数の排気量調整装置をそれぞれ独立して制御する制御装置と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ウェハ平坦度などの製造プロセス条件に対して最適なスキャン速度を設定することを可能とし、露光性能と生産性を高いレベルで両立させて歩留まりの良い露光を実現する。
【解決手段】実露光に先立って、ウェハ面形状のフォーカス・レベリング軌道を求め、前記軌道を用いた場合のレチクルステージとウェハステージ２との相対位置誤差を推定する。更にスキャン速度算出手段６により、同期誤差の移動平均・移動標準偏差の期待値を、代表的なスキャン速度複数通りに対してそれぞれ算出した後、プロセスに見合った同期誤差のしきい値を満たす最大スキャン速度を各ショット毎に求め、それに応じた露光量等を再設定し、コンソール８に実際に設定された１ショット毎のスキャン速度を表示する。 （もっと読む）

【課題】測定精度が可動物体の動作によって実質的にほとんど影響されない、可動物体の位置依存信号を測定するように構成された好ましくはエンコーダ型高精度測定システムを提供する。
【解決手段】エンコーダ型測定システムは可動物体の位置依存信号を測定するように構成され、可動物体の上に取付け可能な少なくとも１つのセンサと、実質的に静止したフレームの上に取付け可能なセンサターゲットと、実質的に静止したフレームの上にセンサターゲットを取付けるように構成された取付けデバイスとを含む。実質的に静止したフレームに対するセンサターゲット物体の移動および／または変形を補償するように構成された補償デバイスをさらに含む。補償デバイスは受動型または能動型制振デバイスおよび／またはフィードバック位置制御システムを含むことができる。代替の実施形態において、補償デバイスは、センサターゲット物体の位置を固定する把持デバイスを含む。 （もっと読む）

【課題】マスクのパターン形成領域の平面性を確保しつつ、マスクを保持することができるマスク保持装置、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】所定のパターンが形成されたパターン形成領域４３及び該パターン形成領域４３の周囲の周辺領域４４を有する表面Ｒｂと、該表面Ｒｂの裏側の裏面Ｒａとが形成されたレチクルＲを保持する第１静電吸着保持装置２５において、レチクルＲの裏面Ｒａを静電吸着する支持面３７ａを有する基体３７と、基体３７に設けられ、パターン形成領域４３を含む大きさで形成された電極面３９ａを有する第１電極部３９と、基体３７に設けられ、第１電極部３９の周囲に配置された第２電極部４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】移動体に追従させてケーブルなどを低振動、低発塵で案内する。
【解決手段】ケーブル５６は、水平面に沿ってＸ軸方向に移動するＸ粗動ステージ２３Ｘに一端が、Ｘ粗動ステージ２３Ｘの移動範囲外に配置された固定部材６６に他端が接続されている。ケーブル５６は、直列に接続された４節のリンク６８，７０，７２，７４を含むリンク機構６０に沿うように、そのリンク機構６０に固定されている。Ｘ粗動ステージ２３Ｘが移動すると、リンク機構６０の変形に伴って、ケーブル５６がＺ軸方向に案内され、これにより固定部材６６側から見たケーブル５６の繰り出し量が調整されるので、ケーブル５６と他の部材との摺動が抑制され、同時に振動の発生も抑制される。 （もっと読む）

【課題】基板載置部の摺動部で発生した塵埃がマスクや基板へ付着するのを低減、或いは防止することのできる露光装置を提供する。
【解決手段】基板を載置する載置台５と、載置台５を搭載するステージ１と、ステージ１上で載置台５を移動するための移動機構２，３，４とを有する露光装置において、ステージ１は、内部がリブで格子状の構造を有し、更に、その上面に複数の吸気口と、その側面に複数の排気口とを有する。これにより、移動機構で発生した塵埃を速やかに排気することができる。 （もっと読む）

【課題】ステージを移動面に沿って移動させる。
【解決手段】移動面を移動するステージに対して用力を供給する用力供給装置（１５５）が、第１軸部（２３２）、第１支持部（２３４，２３５）、第２軸部（２３８）及び第２支持部（２３９）を備え、第１軸部は第１支持部により第１軸の方向及び第１軸回りに移動可能に支持され、第２軸部は第２支持部により第２軸の方向及び第２軸回りに移動可能に支持されている。このように用力供給装置を少なくとも４自由度を有する機構とすることにより、ステージが２次元面内で、第１、第２軸方向、及び各軸回りの回転方向に移動しても、用力供給装置がその移動の妨げとなることがないので、流体の供給にチューブなどの配管を用いる場合と比較して、チューブを引きずることによるステージの位置制御性の低下を完全に回避することができる。 （もっと読む）