【課題】ステージの重力方向の駆動に伴う振動が外部に伝達されるのを抑制することが可能なカウンタマス装置を提供する。
【解決手段】このカウンタマス装置１００は、ステージ取付部１１にバネ部材２を介して懸架されたカウンタマス部３と、アクチュエータ固定部１２に設置され、カウンタマス部３に重力方向の推力を付与する磁気浮上ユニット６と、カウンタマス部３に設けられたステージ駆動部５と、ステージ駆動部５により重力方向に駆動されるステージ部４と、ステージ駆動部５によりステージ部４を重力方向に駆動する際の推力の反力に起因してカウンタマス部３が重力方向に移動する時に発生するバネ部材２の復元力を相殺する方向の推力を、磁気浮上ユニット６に発生させるように制御する制御部７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】回折格子を用いる場合に、回折格子に照射される光ビームの角度が変化したときに発生する計測誤差を低減する。
【解決手段】Ｙ軸エンコーダ３Ｙは、計測用の回折格子３９Ｙ１と、供給されるレーザビームＢＩから第１ビームＢＰ及び第２ビームＣＰを分岐するビームスプリッタ２２と、第１ビームＢＰを回折格子３９Ｙ１に照射し、回折格子３９Ｙ１から発生する回折光ＢＰ２，ＢＭ２を含む干渉光ＢＥＡを受光する計測用光学系６４Ａと、第２ビームＣＰの角度の変化に起因する計測誤差を検出する角度モニタ装置３６とを備え、計測用光学系６４Ａによって検出される回折格子３９Ｙ１の変位をその計測誤差を用いて補正する。 （もっと読む）

【課題】測定用レーザー光の遮断に影響されることなく、マスクステージと基板ステージの位置及び水平面内での姿勢を高精度で測定可能であるとともに、マスクステージと基板ステージを近接して配置して、環境温度を略同じにしてマスクと基板の熱膨張の差を抑制することができ、高精度な露光を実現する露光装置を提供する。
【解決手段】マスクステージ位置測定装置６６は、基板ステージ１１,１２の移動方向と直交する方向に離間し、マスクステージ１０の側面に配置された２箇所のマスクステージ測長ミラー７１Ａ,７１Ｂによりマスクステージ１０の位置及び水平面内での姿勢を測定する。また、基板ステージ位置測定装置６３，６４は、基板ステージ１１,１２の側面に配置される基板ステージ測長ミラー６１の２つの測定点７２Ａ,７２Ｂにより、基板ステージ１１,１２の位置及び水平面内での姿勢を測定する。 （もっと読む）

【課題】回折格子を用いる場合に、光学系の調整を容易にして、回折格子に照射される光ビームの角度が変化したときの計測誤差の発生を抑制する。
【解決手段】Ｙ軸エンコーダ３Ｙは、Ｙ方向に周期性を持つ回折格子３９Ｙ１と、供給されるレーザビームＢＩからビームＢＬ及びＢＲを分岐し、ビームＢＬを回折格子３９Ｙ１に照射する偏光ビームスプリッタ２３と、ビームＢＲをビームＢＬとは逆方向に傾けるペンタプリズム２６と、ビームＢＬ２による回折格子３９Ｙ１からの＋１次回折光ＢＬ１と、ビームＢＲによる回折格子３９Ｙ１からの−１次回折光ＢＲ１との干渉光ＢＥを受光する光電検出器２９と、を備える。 （もっと読む）

【課題】装置コストを大幅に抑制することができる露光装置、露光方法及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】スキャン露光装置１は、基板ＷをＸ方向に搬送する基板搬送機構１０と、マスクＭをそれぞれ保持し、Ｙ方向に沿って配置される複数のマスク保持部１１と、露光用光を照射する照射部１４と、各マスク保持部１１の下面と対向可能なマスクトレー部３３を有するマスクチェンジャー２と、を備える。マスクチェンジャー２は、マスクトレー部３３に載置されるマスクＭを、Ｘ方向及びＺ方向回りのθ方向に駆動可能な駆動機構３５Ａ、３５Ｂを備える。 （もっと読む）

【課題】配向膜の光配向処理を効率的に行うことができる近接走査露光装置及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】近接走査露光装置１の照射部１４は、光源４１から照射された露光用光ＥＬを反射部４６、４７で２方向に分岐させ、それぞれ異なる２方向から、１枚のマスクＭに形成された第１のパターンＰ１、及び第２のパターンＰ２に照射して基板Ｗを露光する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内の交換可能物体を位置決めするサポート構造を提供する。
【解決手段】サポート構造は、物体を支持およびクランプするチャックと作動構造とを有する。作動構造は、第１作動構造１６（例えば、バネ）および第２作動構造１８（例えば、リニアアクチュエータ）を有してよい。第１作動構造１６は、チャックに対して移動可能であり、第２作動構造１８を物体の側面と接触する第１位置と物体の側面と接触しない第２位置との間で移動させるように構成されている。第２作動構造１８は、その少なくとも一部を第１作動構造１６に対して物体の側面と接触する第１位置と物体の側面と接触しない第２位置との間で移動させ、かつ押力を物体の側面に加えるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】複数の光ファイバを接続した光ファイバケーブルを介してエンコーダヘッドから検出器へ出力ビームを接続損失なく送る。
【解決手段】エンコーダから出力ビームを検出器へ送る一系統の受光用ファイバとして、エンコーダ側に位置する光ファイバＦ１のコアＣＲ１の端面（射出端面）と該射出端面より大きな検出器側に位置する光ファイバＦ２のコアＣＲ２の端面（受光端面）とを対向して継がれた光ファイバケーブルを用いる。これにより、光ファイバの継ぎ部において光の漏れが生じることがなく、エンコーダの高い計測精度を確保することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】測長結果から精度よくデッドパスの影響を排除するヘテロダインレーザー干渉測長器を提供する。
【解決手段】ヘテロダインレーザー光源１０からのビームを２本の物理的に離れた平行なレーザービームに分岐させて測定ビームＢ１と参照ビームＢ２を生成する分岐器８０と、測定ビームＢ１及び参照ビームＢ２を測定光路ＬＰ１，ＬＰ２に向けて分割する偏光ビームスプリッタ３０と、測定光路ＬＰ１，ＬＰ２に設けられる１／４波長板３１，３２と、可動測定物５０に仮想直線上にお互いの反射面を反対方向に向けて固定され、測定ビームＢ１１，Ｂ１２が照射される測定ミラー３４１，３４２と、測定ミラー３４１，３４２近傍に配置され、参照ビームＢ２１，Ｂ２２が照射される反射ミラー４１１，４１２と、測定ミラー３４１，３４２の反射光を干渉させた光と反射ミラー４１１，４１２の反射光を干渉させた光に基づく２つのビート信号から変位を算出する演算回路７０を備える。 （もっと読む）

【課題】露光装置の製造を迅速に行う。
【解決手段】
露光装置１００の製造工場において、ボディ工具とステージモジュール２０とをドッキングさせ、ボディ工具が有する光干渉計を用いてステージモジュール２０の移動鏡の調整（傾き調整、直交度調整など）を行なった後、そのステージモジュール２０を所定の出荷先に出荷する。出荷先に設置されたボディＢＤは、予め製造工場にて光干渉計に関してボディ工具と同じ状態となるように調整（取付位置調整、光軸調整など）されている。従って、出荷先で改めてステージモジュール２０の移動鏡の調整を行う必要がなく、露光装置１００の製造を迅速に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】マスク保持部のフレームの熱変形を抑制して、露光精度を向上することができる露光装置を提供する。
【解決手段】マスクステージベース１１は、複数の中空フレーム９１〜９４によって構成されており、中空フレーム９１〜９４の内部には、サーマルチャンバ８０内に供給されるエアと共に温調されたエアが供給される。 （もっと読む）

【課題】スループットを改善することのできる基板処理装置、及び基板処理装置の温調方法、及びこれら基板処理装置や温調方法を用いるデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】大気圧下にあるウエハＷの雰囲気を減圧して減圧雰囲気に変更する第１チャンバ１６と、減圧雰囲気に維持され、第１チャンバ１６から搬送されたウエハＷに所定の処理を施す第２チャンバ１２とを備える。そして、第２チャンバ１２内の温度を、第１チャンバ１６内で大気圧から減圧雰囲気への変更に伴って変化するウエハＷの温度に対応する設定温度に調整する温調機構を備える。 （もっと読む）

【課題】十分に高精度なパターンの重ね合わせ（位置合わせ）を実現する。
【解決手段】パターンＰＡを非走査方向（Ｘ軸方向）に関して複数の部分パターンＰＡａ，ＰＡｂに分割し、部分パターンＰＡａ，ＰＡｂの像（部分像）のそれぞれについて像の形成状態を調整するとともに、部分像のうちの互いに隣接する部分像を繋ぎ合わせて、ウエハＷ上に形成する。この場合、パターン全体の像を一度の露光で物体上に形成する場合に比べて、複数の部分パターンの像それぞれの形成状態がより最適となるように調整できる。この結果、十分に高精度なパターンの重ね合わせ（位置合わせ）を実現することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】位置計測系の周期誤差が発生しても、精度良く周期パターンの位置を検出する。
【解決手段】可動ステージの位置を位置計測系を用いて計測し、その計測情報を用いて可動ステージを駆動するとともに、可動ステージ外の周期パターンから成る計測用マークを可動ステージに一部が配置された検出器を用いて検出する。ここで、位置計測系の計測周期（図１０（Ｂ）及び１０（Ｃ）に示される例では０．２５μｍ）の自然数倍と異なるピッチ（図１０（Ｃ）の例では２．０３１２５μｍ（なお、図１０（Ｂ）の例では２μｍ））の周期パターンを計測用マークとして用いることにより、計測周期に等しい位置計測系の周期誤差が発生しても、検出精度を損なうことなく、計測用マークの位置情報を計測することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】基板ステージ装置を迅速に組み立てる。
【解決手段】基板ステージ装置の製造工場において相互位置などがそれぞれ調整された、Ｘ粗動ステージ２３Ｘ、Ｙ粗動ステージ２３Ｙ、重量キャンセル装置４０、及び本体部５１を、分解せずにステージユニット２０として輸送し、その輸送先で基板ステージ装置の再組み立てに用いる。再組み立て時におけるＸ粗動ステージ、Ｙ粗動ステージ２３Ｙ、重量キャンセル装置４０、及び本体部５１相互間における位置調整が不要となるので、基板ステージ装置を迅速に組み立てることができる。 （もっと読む）

【課題】プロセス区域内のエアフローおよび圧力波による結像誤差が非常に減少したリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能であるパターニングデバイス２を支持するように構成された支持体１と、基板５を保持するように構成された基板テーブル４と、パターン付き放射ビームを基板５のターゲット部分に投影するように構成された投影システム３と、エアフローおよび／または圧力波のソースとエアフローおよび／または圧力波に敏感な要素との間に配置されたシールドデバイス９とを含む。 （もっと読む）

【課題】 弾性振動モードの変形形状およびアクチュエータ配置に誤差があった場合でも、実機において弾性振動モードの影響を低減することを目的とする。
【解決手段】 本発明の位置決め装置は、平面を有する天板と、前記平面に対して垂直な方向に駆動し前記天板を移動させる複数のアクチュエータと、を備える位置決め装置において、前記天板の周波数応答を測定して、前記天板の弾性振動の共振周波数においてピークが検出された際に、前記ピークを低減するように前記複数のアクチュエータの推力分配比率を調整する制御手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ一様性に影響を与えるＭＳＤの変動性の測定を改良する。
【解決手段】テスト方法は、異なる特定の周波数および軸で比較的大きな動的位置決め誤差を恣意的に注入しながら装置を数回動作させること（５０４）を含む。関心周波数帯域に亘って所与の軸について注入された誤差、の異なる周波数および振幅について、付与されたパターンにおける誤差（ＣＤ）の変動（ＣＤＵ）が測定される。前記測定および注入された周波数の知識を使用した計算（５０８、５１０）によると、注入された誤差の周波数のそれぞれと相関する周波数帯域における動的位置決め誤差の変動を解析できる。パターニング動作のパラメータおよび注入軸と測定軸との関係に基づいて、相関関数（ＣＦ）が前記計算で使用される。装置を低減された速度で動作させ、かつ、走査スリットフィルタ応答のヌル周波数によって決定される周波数で誤差を注入することによって、ＣＤ感度が測定される。 （もっと読む）

【課題】定盤上の塵を簡単な構造で容易に除去する。
【解決手段】重量キャンセル装置４０のベース４１ａの下面に取り付けられたベースパッド１００では、軸受面１０６ａから定盤１２に向けて噴出する加圧空気が、コアンダ効果により軸受面１０６ａに連続して形成された傾斜面１０７に沿って流れる。この際、定盤１２上の塵Ｄがベルヌーイ効果により加圧気体に引きつけられ、その加圧気体とともに、定盤１２から離れる方向に案内される。加圧気体は、フィルタ部材１２６で濾過されてベースパッド１００外に排気される。ベースパッド１００は、特別な吸引装置などを用いることなく、定盤上１２の塵Ｄを吸引できるので構造が簡単である。 （もっと読む）

【課題】重量キャンセル装置を含むステージ装置のメンテナンスを容易かつ迅速に行う。
【解決手段】Ｘ粗動ステージ２３ＸをＸ軸方向に案内するベースフレーム１４は、露光動作時を含む露光装置の通常使用時に重量キャンセル装置４０をガイドする定盤１２よりも＋Ｘ側に大きく突き出しており、重量キャンセル装置４０を定盤１２から外れた位置に位置させることができる。従って、重量キャンセル装置４０の上方に、その支持対象物である微動ステージ５０を位置させたまま、その重量キャンセル装置４０のメンテナンス作業を下方から行うことができる。また、重量キャンセル装置４０を定盤１２から外れた位置で下方に移動させることにより、その重量キャンセル装置４０を基板ステージ装置ＰＳＴから取り外すことができるので、容易に重量キャンセル装置４０を基板ステージ装置ＰＳＴから外部に搬出できる。 （もっと読む）