露光装置の製造方法
【課題】露光装置の製造を迅速に行う。
【解決手段】
露光装置１００の製造工場において、ボディ工具とステージモジュール２０とをドッキングさせ、ボディ工具が有する光干渉計を用いてステージモジュール２０の移動鏡の調整（傾き調整、直交度調整など）を行なった後、そのステージモジュール２０を所定の出荷先に出荷する。出荷先に設置されたボディＢＤは、予め製造工場にて光干渉計に関してボディ工具と同じ状態となるように調整（取付位置調整、光軸調整など）されている。従って、出荷先で改めてステージモジュール２０の移動鏡の調整を行う必要がなく、露光装置１００の製造を迅速に行うことができる。
【解決手段】
露光装置１００の製造工場において、ボディ工具とステージモジュール２０とをドッキングさせ、ボディ工具が有する光干渉計を用いてステージモジュール２０の移動鏡の調整（傾き調整、直交度調整など）を行なった後、そのステージモジュール２０を所定の出荷先に出荷する。出荷先に設置されたボディＢＤは、予め製造工場にて光干渉計に関してボディ工具と同じ状態となるように調整（取付位置調整、光軸調整など）されている。従って、出荷先で改めてステージモジュール２０の移動鏡の調整を行う必要がなく、露光装置１００の製造を迅速に行うことができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置の製造方法に係り、更に詳しくは、所定の二次元平面に沿って移動可能な移動体の位置情報を光干渉計を用いて求める露光装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子（集積回路等）、液晶表示素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、レチクル又はマスク（以下、「レチクル」と総称する）と、ウエハ又はガラスプレート（以下、「ウエハ」と総称する）とを所定の走査方向（スキャン方向）に沿って同期移動させつつ、投影光学系を介して露光光をウエハに照射することにより、そのウエハ上にレチクルに形成されたパターンを転写するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが用いられている。
【０００３】
この種の露光装置では、露光光に対して高精度でウエハの位置を制御するために、ウエハが載置される基板ステージ装置の位置情報を光干渉計システムにより求めるものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
光干渉計システムを用いて基板ステージ装置の位置情報を求める場合、その基板ステージ装置には、光干渉計から照射される光線を反射するための反射面（例えば、鏡）が設けられている。このような干渉計システムを用いる場合、例えば干渉計から照射される光線の光軸が基板ステージ装置の反射面に垂直となるように、干渉計の光軸調整、あるいは反射面の傾き調整作業などを行う必要があり、露光装置を組み立てる際、干渉計システムの調整作業に多大な時間を要していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００９／００２７６４０号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の事情の下でなされたもので、第１の観点からすると、少なくとも所定の二次元平面に沿って移動可能な移動体を含む移動体装置と、前記移動体に設けられた反射面を用いて前記移動体の少なくとも前記二次元平面内の位置情報を求める光干渉計を有する装置本体と、を含み、感応物体を露光する露光装置の製造方法であって、複数の前記装置本体を用意することと；前記複数の装置本体のうちの一の装置本体と前記移動体装置とを組み合わせ、前記一の装置本体が有する前記光干渉計を用いて前記移動体の前記反射面を調整することと；前記反射面の調整がされた前記移動体を有する前記移動体装置と前記一の装置本体とを分離することと；前記複数の装置本体が有する前記光干渉計を互いに実質的に同じ状態となるように調整することと；前記反射面の調整がされた前記移動体装置を、前記複数の装置本体のうちの他の装置本体と組み合わせることと；を含む露光装置の製造方法である。
【０００７】
これによれば、移動体装置が有する移動体は、一の装置本体を用いて反射面の調整（例えば、傾き調整など）が行われる。また、最終的に移動体装置と組み合わされる他の装置本体は、光干渉計に関して一の装置本体と互いに同じ状態となるように調整（例えば、取付位置調整、光軸調整など）が行われる。従って、移動体装置が有する移動体の反射面の調整を一の装置本体を用いて行うことは、実質的に移動体装置と他の装置本体とを組み合わせた状態で移動体の反射面の調整を行ったことと同じである。これにより、移動体装置と他の装置本体とを組み合わせた後の反射面の調整を省略でき、露光装置の製造作業を迅速に行うことができる。
【０００８】
本発明は、第２の観点からすると、少なくとも所定の二次元平面に沿って移動可能な移動体を含む移動体装置と、前記移動体に設けられた反射面を用いて前記移動体の少なくとも前記二次元平面内の位置情報を求める光干渉計を有する装置本体と、を含み、感応物体を露光する露光装置の製造方法であって、複数の前記移動体装置を用意することと；前記複数の移動体装置のうちの一の移動体装置と前記装置本体とを組み合わせ、前記一の移動体装置が有する前記移動体の前記反射面を用いて前記装置本体の前記光干渉計を調整することと；前記光干渉計の調整がされた前記装置本体と前記一の移動体装置とを分離することと；前記複数の移動体装置の前記移動体に設けられた前記反射面を互いに実質的に同じ状態となるように調整することと；前記光干渉計の調整がされた前記装置本体を、前記複数の装置本体のうちの他の移動体装置と組み合わせることと；を含む露光装置の製造方法である。
【０００９】
これによれば、装置本体は、一の移動体装置が有する移動体を用いて光干渉計の調整（例えば、取付位置調整、光軸調整など）が行われる。また、最終的に装置本体と組み合わされる他の移動体装置は、移動体の反射面に関して一の移動体装置の移動体と互いに同じ状態となるように調整（例えば、傾き調整など）が行われる。従って、装置本体の光干渉計の調整を一の移動体装置を用いて行うことは、実質的に装置本体と他の移動体装置ルとを組み合わせて光干渉計の調整を行ったことと同じである。これにより、装置本体と他の移動体装置とを組み合わせた後の光干渉計の調整を省略でき、露光装置の製造作業を迅速に行うことができる。
【００１０】
ここで、露光装置の製造とは、露光装置を感応物体を露光できる状態にすることを意味する。従って、本発明に係る露光装置の製造方法では、露光装置を構成する部材（移動体装置、及び装置本体）自体の製造は伴わなくても（すなわち、移動体装置、装置本体などの部材は予め製造されたものであっても）良い。このため、例えば、ある場所に設置された露光装置（移動体装置、及び装置本体を含む）を別の場所に設置（移設）するような場合も、本発明に係る露光装置の製造方法を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】一実施形態に係る露光装置の概略構成を示である。
【図２】図１の露光装置が有するステージモジュールの平面図である。
【図３】図３（Ａ）はＹ干渉計の構成、図３（Ｂ）はＸ干渉計の構成、図３（Ｃ）はＺ干渉計の構成を説明するための図である。
【図４】図４（Ａ）は、ステージモジュールの組立・調整手順を説明するための図であり、図４（Ｂ）は、ボディの組立・調整手順を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の一実施形態を、図１〜図４（Ｂ）に基づいて説明する。
【００１３】
図１には、一実施形態の露光装置１００の構成が概略的に示されている。露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。後述するように、本実施形態では、投影光学系ＰＬが設けられており、以下においては、この投影光学系ＰＬの光軸と平行な方向をＺ軸方向、Ｚ軸に直交する面内でレチクルとウエハとが相対走査される方向をＹ軸方向、Ｚ軸及びＹ軸に直交する方向をＸ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。
【００１４】
露光装置１００は、照明光（露光光）ＩＬによりレチクルＲを照明する照明系１０、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴを含むレチクルステージモジュール１２、投影光学系ＰＬを含む投影ユニットＰＵ、レチクルステージモジュール１２及び投影ユニットＰＵなどが搭載されたボディＢＤ、ウエハＷが載置されるウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴを含むステージモジュール２０、ステージモジュール２０の＋Ｘ側、−Ｘ側にそれぞれ配置されたカウンタマスモジュール３８Ａ，３８Ｂ、及びこれらの制御系等を含んでいる。
【００１５】
照明系１０は、例えば米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書などに開示されるように、光源、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系、ビームスプリッタ、リレーレンズ、可変ＮＤフィルタ、レチクルブラインド等（いずれも不図示）を含んでいる。照明系１０では、レチクルブラインドにより規定されるレチクルＲ上のスリット状の照明領域ＩＡＲを照明光ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ＩＬとしては、一例としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。
【００１６】
レチクルステージモジュール１２は、後述するボディＢＤの一部である第２フレーム３６上に搭載されている。レチクルステージモジュール１２は、レチクルステージＲＳＴ、及びレチクルステージＲＳＴを駆動するリニアモータ等を含むレチクルステージ駆動系（不図示）等を有している。レチクルステージＲＳＴ上には、レチクルＲが、例えば真空吸着（又は静電吸着）により保持されている。レチクルステージＲＳＴは、レチクルステージ駆動系により、第２フレーム３６上を走査方向（Ｙ軸方向）に所定のストロークで駆動され、かつＸ軸方向、及びθｚ方向に適宜微少駆動される。レチクルステージＲＳＴの位置情報は、不図示のレチクルレーザ干渉計システムによって、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時求められている。不図示の制御装置は、レチクルレーザ干渉計システムの出力に基づいて、レチクルステージ駆動系を介してレチクルステージＲＳＴの位置を制御する。
【００１７】
投影ユニットＰＵは、レチクルステージＲＳＴの図１における下方に配置されている。投影ユニットＰＵは、鏡筒４０と、鏡筒４０内に保持された投影光学系ＰＬとを含む。投影光学系ＰＬとしては、例えば光軸ＡＸに沿って配列された複数の光学素子（レンズエレメント）から成る屈折光学系が用いられる。投影光学系ＰＬは、例えば両側テレセントリックで、所定の投影倍率（例えば１／４倍、１／５倍又は１／８倍など）を有する。投影ユニットＰＵは、鏡筒４０の外周部に固定されたフランジＦＬＧを介して、ボディＢＤの一部であるメトロロジフレームＭＦと称される部材に一体的に固定されている。
【００１８】
これにより、照明系１０によってレチクルＲ上の照明領域ＩＡＲが照明されると、投影光学系ＰＬの第１面（物体面）とパターン面とがほぼ一致して配置されるレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬ（投影ユニットＰＵ）を介してその照明領域ＩＡＲ内のレチクルＲの回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の縮小像）が、投影光学系ＰＬの第２面（像面）側に配置される、表面にレジスト（感応剤）が塗布されたウエハＷ上の前記照明領域ＩＡＲに共役な領域（以下、露光領域とも呼ぶ）ＩＡに形成される。そして、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとの同期駆動によって、照明領域ＩＡＲ（照明光ＩＬ）に対してレチクルＲを走査方向に相対移動させるとともに、露光領域ＩＡ（照明光ＩＬ）に対してウエハＷを走査方向に相対移動させることで、ウエハＷ上の１つのショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にレチクルＲのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系１０、投影光学系ＰＬによってウエハＷ上にレチクルＲのパターンが生成され、照明光ＩＬによるウエハＷ上の感応層（レジスト層）の露光によってウエハＷ上にそのパターンが形成される。
【００１９】
ボディＢＤは、クリーンルームの床面上に設置されたベースフレーム３０上に搭載された第１フレーム３２と、第１フレーム３２上に複数の脚部３５を介して搭載された第２フレーム３６とを含む。ベースフレーム３０は、ステージモジュール２０の＋Ｙ側、及び−Ｙ側それぞれにひとつずつ、計２つ設けられており（図１では、紙面奥側のベースフレーム３０は不図示。図２参照）、第１フレーム３２のＹ軸方向に関する両端部を下方から支持している。第１フレーム３２は、ＸＹ平面に平行な矩形枠状の部材から成る。第１フレーム３２は、その中央部に矩形の開口部３２ａを有しており、その開口部３２ａ内にメトロロジフレームＭＦが挿入されている。メトロロジフレームＭＦは、Ｙ軸方向を長手方向とする平面視矩形の高さの低い箱形（あるいは板状）の部材から成り、フランジＦＬＧを介して固定された投影ユニットＰＵが有する投影光学系ＰＬの光軸ＡＸが水平面に対して垂直となるように精度良く調整された状態で第１フレーム３２に固定されている。
【００２０】
メトロロジフレームＭＦの下面には、例えば米国特許出願公開第２００９／０２３３２３４号明細書などに開示されるようなアライメント装置９０（図３（Ａ）参照）、例えば米国特許第５，４４８，３３２号明細書などに開示されるような多点焦点位置検出系の一部を構成するフォーカスセンサ（図示省略）などが、吊り下げ状態で取り付けられている。
【００２１】
次にステージモジュール２０について説明する。ステージモジュール２０は、ベース７０、ベース７０上に搭載された定盤７１、定盤７１上面に沿って移動するウエハステージＷＳＴ、及びウエハステージＷＳＴとは独立して定盤７１上面に沿って移動する計測ステージＭＳＴを有している。
【００２２】
ベース７０は、例えばその下面の四隅部に対応する位置にそれぞれ取り付けられた浮上・昇降装置７２（４つの浮上・昇降装置７２のうち、２つは図１に示される他の２つに対して紙面奥側に隠れている）を介して床面上に水平に支持されている。
【００２３】
４つの浮上・昇降装置７２は、それぞれ不図示の空気ばねと、エア浮上装置とを有している。空気ばねは、図示しない気体供給装置から供給される圧縮空気の圧力変化に応じてＺ軸方向に所定のストローク（例えば、５０ｍｍ程度）で伸縮する。このため、ステージモジュール２０は、４つの浮上・昇降装置７２それぞれが有する空気ばねを適宜用いてベース７０を上下動させることにより、定盤７１上面のＺ軸方向、θｘ方向、及びθｙ方向それぞれの位置を任意に調整することができるようになっている。エア浮上装置は、浮上・昇降装置７２の底面に設けられ、床面に対して不図示の気体供給装置から供給（ただし、上記空気ばねとは別系統）される空気を噴出することにより、ステージモジュール２０全体を、床面上に所定のクリアランス（例えば、１０ｍｍ程度）を介して浮上させる。エア浮上装置は、ステージモジュール２０をボディＢＤから分離して移動させる際に主に用いられる。従って、ウエハＷに対して露光処理などを行う際には、エア浮上装置には空気が供給されず、浮上・昇降装置７２の底面は、床面に接触している。
【００２４】
定盤７１は、図２に示されるように、Ｙ軸方向を長手方向とする平面視矩形の板状の部材から成り、その上面は、平面度が非常に高く仕上げられている。
【００２５】
ウエハステージＷＳＴは、図１に示されるように、ウエハステージ本体９１、及びウエハテーブルＷＴＢを含む。ウエハステージ本体９１は、平面視矩形の箱形（直方体状）の部材から成る。なお、図１では不図示であるが、ウエハステージ本体９１は、その下面に気体静圧軸受（例えば、エアベアリング）を有しており、その気体静圧軸受から定盤７１の上面に対して噴出される加圧気体の静圧により、定盤７１の上面に対し数μｍ程度のクリアランスを介して浮上している。
【００２６】
ウエハステージ本体９１には、Ｘ軸方向に貫通した開口部（図示省略）が形成されており、その開口部内には、Ｘ軸方向に延びる固定子８０が挿入されている。固定子８０は、Ｘ軸、及びＺ軸方向に所定間隔で配列された複数のコイルを含むコイルユニット（図示省略）を有している。これに対し、ウエハステージ本体９１は、複数の永久磁石から成る磁石ユニットを含むＸ可動子、及びＺ可動子（図示省略）を有している。ウエハステージ本体９１は、固定子８０とＸ可動子とから成るローレンツ電磁力駆動方式のＸリニアモータにより、固定子８０に沿ってＸ軸方向に所定のストロークで駆動される。Ｘリニアモータは、Ｙ軸方向に離間して複数、例えば２つ設けられ、ウエハステージ本体９１は、例えば２つのＸリニアモータにより、適宜θｚ方向に微少駆動される。また、Ｚ可動子は、複数（少なくとも同一直線上にない３箇所に）設けられ、その複数のＺ可動子と固定子８０により複数のローレンツ電磁力駆動方式のＺリニアモータが構成されている。ウエハステージ本体９１は、複数のＺリニアモータにより、適宜θｘ方向、及び／又はθｙ方向に微少駆動される。また、図１では不図示であるが、ウエハステージ本体９１の−Ｙ側の側面には、Ｘ軸方向を長手方向とするＺ移動鏡４１（図２参照）が、不図示のキネマティック支持機構を介して取り付けられている。また、図１及び図２では不図示であるが、ウエハステージ本体９１は、計測ステージＭＳＴに照明光ＩＬを導くための送光系を有している。
【００２７】
固定子８０は、図１に示されるように、長手方向の一端、及び他端それぞれの近傍の下面に気体静圧軸受８３（例えば、エアベアリング）を有している。固定子８０は、気体静圧軸受８３から定盤７１の上面に対して噴出される加圧気体の静圧により、定盤７１の上面に対し数μｍ程度のクリアランスを介して浮上している。また、固定子８０の長手方向の一端、及び他端には、それぞれ複数の永久磁石から成る磁石ユニット（図示省略）を含む可動子８２が接続されている。
【００２８】
ウエハテーブルＷＴＢは、図２に示されるように、平面視略正方形の板状部材から成り、ウエハステージ本体９１上に搭載されている。ウエハテーブルＷＴＢの上面には、ウエハＷを真空吸着（あるいは静電吸着）によって吸着保持するウエハホルダＷＨ（図１参照）が取り付けられている。また、ウエハテーブルＷＴＢの−Ｙ側の端面，及び−Ｘ側の端面には、それぞれＹ移動鏡１７ｙ，Ｘ移動鏡１７ｘが固定されている。ウエハテーブルＷＴＢのＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転量情報も含む）は、Ｙ移動鏡１７ｙ，Ｘ移動鏡１７ｘを用いた光干渉計システムにより計測される。光干渉計システムの構成については後に説明する。
【００２９】
計測ステージＭＳＴは、ウエハステージＷＳＴの＋Ｙ側に配置されており、計測ステージ本体９２、及び計測テーブルＭＴＢを有している。計測ステージ本体９２は、平面視矩形の箱形（直方体状）の部材から成る。なお、図１では不図示であるが、計測ステージ本体９２は、その底部に気体静圧軸受（例えば、エアベアリング）を有している。計測ステージＭＳＴは、気体静圧軸受から定盤７１の上面に対して噴出される加圧気体の静圧により、定盤７１上に数μｍ程度のクリアランスを介して浮上している。
【００３０】
計測ステージ本体９２には、Ｘ軸方向に貫通した開口部（図示省略）が形成されており、その開口部内には、Ｘ軸方向に延びる固定子８１が挿入されている。固定子８１は、Ｘ軸方向に所定間隔で配列された複数のコイルを含むコイルユニット（図示省略）を有している。これに対し、計測ステージ本体９２は、複数の永久磁石から成る磁石ユニットを含むＸ可動子（図示省略）を有している。計測ステージ本体９２は、固定子８１とＸ可動子とから成るローレンツ電磁力駆動方式のＸリニアモータにより、固定子８１に沿ってＸ軸方向に所定のストロークで駆動される。また、固定子８１の長手方向の一端、及び他端には、それぞれ複数の永久磁石から成る磁石ユニット（図示省略）を含む可動子８５が接続されている。さらに、図１では気体静圧軸受８３に対して紙面奥側に隠れているため不図示であるが、固定子８１の長手方向の一端、及び他端の近傍の下面には、固定子８１を定盤７１上で浮上させるための気体静圧軸受が取り付けられている。
【００３１】
計測テーブルＭＴＢは、図２に示されるように、平面視矩形の板状部材から成り、計測ステージ本体９２上に搭載されている。計測テーブルＭＴＢの＋Ｙ側の端面，及び−Ｘ側の端面には、それぞれＹ移動鏡１９ｙ，Ｘ移動鏡１９ｘが固定されている。計測テーブルＭＴＢのＸＹ平面内の位置情報は、Ｙ移動鏡１９ｙ，Ｘ移動鏡１９ｘを用いた光干渉計システムにより計測される。光干渉計システムの構成については後に説明する。
【００３２】
計測テーブルＭＴＢは、そ上面に照度むらセンサ９４、空間像計測器９６、波面収差計測器９８などの複数の計測用部材を有している。複数の計測用部材は、計測テーブルＭＴＢが投影ユニットＰＵ（図１参照）の下方に位置した状態で、投影光学系ＰＬを通過した照明光ＩＬ（図１参照）を受光する。また、計測ステージＭＳＴは、計測テーブルＭＴＢの−Ｙ側にコンフィデンシャルバー４６と称されるＹ軸方向に延びる部材を有している。コンフィデンシャルバー４６には、不図示であるが、アライメント計測に用いられる複数のマークなどが形成されている。また、計測ステージＭＳＴは、ウエハテーブルＷＴＢが有する送光系（図示省略）を介して案内される照明光ＩＬを受光するための受光系を有している。上記計測用部材、コンフィデンシャルバー４６、受光系を含み、計測ステージＭＳＴの構成、及び動作については、例えば米国特許出願公開第２００８／０１０６７２２号明細書などに開示されている。
【００３３】
図１に戻り、カウンタマスモジュール３８Ａは、固定子８６、固定子８６の底面に固定されたカウンタマス７６、カウンタマス７６をＹ軸方向にスライド自在に支持するベース７４、及びベース７４を床面上で下方から支持する浮上・昇降装置５８を含む。固定子８６は、ＸＺ断面横Ｕ字状に形成された、Ｙ軸方向に延びる部材から成り、一対の対向面間に可動子８２、可動子８５（図２参照）がそれぞれ挿入されている。固定子８６は、Ｙ軸方向に所定間隔で配列された複数のコイルを含むコイルユニット（図示省略）を有している。コイルユニットは、可動子８２、可動子８５それぞれが有する磁石ユニット（図示省略）とともに、固定子８０（すなわちウエハステージＷＳＴ）、固定子８１（すなわち計測ステージＭＳＴ）を、それぞれ独立にＹ軸方向に所定のストロークで駆動するローレンツ電磁力駆動方式のＹリニアモータを構成している。
【００３４】
カウンタマス７６は、略直方体状の重量物であり、その下面には、ＸＺ断面Ｖ字状で、Ｙ軸方向に延びる凸部が形成されている。凸部を規定する一対の傾斜面それぞれには、不図示の気体静圧軸受（例えば、エアベアリング）が設けられている。ベース７４は、略直方体状の部材から成り、その上面には、ＸＺ断面Ｖ字状で、Ｙ軸方向に延びるＶ溝が形成されている。Ｖ溝を規定する一対の傾斜面間には、カウンタマス７６の凸部が挿入されている。カウンタマス７６は、気体静圧軸受から噴出される気体の静圧により、所定のクリアランスを介してベース７４上に浮上している。カウンタマス７６は、ウエハステージＷＳＴ、又は計測ステージＭＳＴがＹリニアモータによりＹ軸方向へ駆動される際に、固定子８６に生じる反力の作用により、固定子８６と一体的にベース７４上でＹ軸方向に移動することにより固定子８６に作用する反力をキャンセルする。
【００３５】
浮上・昇降装置５８は、大きさが異なる点を除き、ステージモジュール２０が有する浮上・昇降装置７２と同様の構成、及び機能を有する。浮上・昇降装置５８は、ベース７４の下面にＹ軸方向に所定間隔で２つ取り付けられている（図１では、一方の浮上・昇降装置５８は、他方の紙面奥側に隠れている）。従って、カウンタマスモジュール３２Ａは、浮上・昇降装置５８が有する不図示の空気ばねを用いてＹ固定子８６のＺ位置を調整すること、及び不図示のエア浮上装置を用いて床面上に浮上することができる。カウンタマスモジュール３８Ｂは、図１に示されるように、露光装置１００を−Ｙ側から見て左右対称である点を除きカウンタマスモジュール３８Ａと同様に構成されているため、説明を省略する。
【００３６】
ここで、ステージモジュール２０に対して、カウンタマスモジュール３２Ａ、３２Ｂは、それぞれ機械的に接続されていないことから、ステージモジュール２０から分離することができる。従って、カウンタマスモジュール３８Ａ、３８Ｂそれぞれを露光装置１００から取り外してメンテナンスを行うことができる。そして、特に不図示のエア浮上装置を用いて床面上に浮上した状態では、容易にステージモジュール２０から分離することができるので、カウンタマスモジュール３８Ａ、３８Ｂのメンテナンス作業を容易に行うことができる。
【００３７】
次に、ウエハテーブルＷＴＢの６自由度方向の位置情報（Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸方向に関する位置情報、及びθｘ、θｙ、θｚ方向の回転量情報）を計測するための光干渉計システムの構成について、図３（Ａ）〜図３（Ｃ）を用いて説明する。なお、図３（Ａ）〜図３（Ｃ）では、図面の錯綜を避ける観点から、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴを駆動するリニアモータを構成する部材の図示が省略されている。また、本実施形態の露光装置１００における光干渉計システムの構成、及びその光干渉計システムを用いた計測方法は、例えば米国特許出願公開第２００９／００２７６４０号明細書などに開示されたものと実質的に同じである。
【００３８】
図３（Ａ）に示されるように、ウエハテーブルＷＴＢのＹ位置情報を計測するためのＹ干渉計１６ｙは、メトロロジフレームＭＦの−Ｙ側の下面に吊り下げ状態で固定されている。Ｙ干渉計１６ｙは、図示しない参照鏡（Ｙ参照鏡）を内蔵している。Ｙ干渉計１６ｙは、メトロロジフレームＭＦに固定されたレーザユニット１５から光ファイバケーブルを介して供給されるレーザビームをＹ参照鏡、及びウエハテーブルＷＴＢのＹ移動鏡１７ｙにそれぞれ照射し、Ｙ参照鏡からの反射光とＹ移動鏡１７ｙからの反射光との干渉に基づいてＹ移動鏡１７ｙの反射面上におけるレーザビーム（測長ビーム）の照射点のＹ位置を求める。ここで、Ｙ干渉計１６ｙからは、Ｘ軸方向に離間した２本の平行な測長ビームがそれぞれＹ移動鏡１７ｙに照射される。光干渉計システムでは、２本の測長ビームのＹ移動鏡１７ｙの反射面上における照射点のＹ位置の平均に基づいてウエハテーブルＷＴＢのＹ位置が求められるとともに、２本の測長ビームのＹ移動鏡１７ｙの反射面上における照射点のＹ位置の差に基づいてウエハテーブルＷＴＢのθｚ回転量情報が求められる。
【００３９】
計測ステージＭＳＴのＹ位置情報を計測するためのＹ干渉計１８は、メトロロジフレームＭＦの＋Ｙ側の下面に吊り下げ状態で固定されている。Ｙ干渉計１８は、Ｙ干渉計１６ｙと同様に、図示しない参照鏡（Ｙ参照鏡）を内蔵しており、その参照鏡に参照ビームを、Ｙ移動鏡１９ｙに測長ビームをそれぞれ照射する。計測ステージＭＳＴのＹ位置情報は、測長ビームの反射光と参照ビームの反射光との干渉に基づいて求められる。
【００４０】
図３（Ｂ）に示されるように、ウエハテーブルＷＴＢのＸ位置情報を計測するためのＸ干渉計１６ｘは、メトロロジフレームＭＦの−Ｘ側の下面に吊り下げ状態で固定されている。Ｘ干渉計１６ｘもＹ干渉計１６ｙと同様に図示しない参照鏡（Ｘ参照鏡）を内蔵しており、その参照鏡に参照ビームを、Ｘ移動鏡１７ｘに測長ビームをそれぞれ照射する。ウエハテーブルＷＴＢのＸ位置情報は、測長ビームの反射光と参照ビームの反射光との干渉に基づいて求められる。また、図３（Ｂ）では、紙面奥行き方向に重なっているため不図示となっているが、Ｘ干渉計１６ｘは、Ｙ軸方向に所定間隔で複数設けられており、光干渉計システムでは、ウエハテーブルＷＴＢのＹ位置に応じて複数のＸ干渉計１６ｘのうちの１つ、又は２つを適宜用いてウエハテーブルＷＴＢのＸ位置情報を求めるようになっている。また、複数のＸ干渉計１６ｘのうちの１つは、移動鏡１９ｘ（図２参照）を用いて計測テーブルＭＴＢのＸ位置情報を求める。
【００４１】
図３（Ｃ）に示されるように、ウエハテーブルＷＴＢのＺ位置情報を計測するためのＺ干渉計１６ｚは、メトロロジフレームＭＦの−Ｙ側の下面に吊り下げ状態で固定されている。なお、図３（Ｃ）では、紙面奥行き方向に重なっているため不図示となっているが、Ｚ干渉計１６ｚは、Ｘ軸方向に離間して２つ設けられており、前述のＹ干渉計１６ｙは、２つのＺ干渉計１６ｚの間に配置されている。２つのＺ干渉計１６ｚは、それぞれメトロロジフレームＭＦの下面に吊り下げ状態で固定されたＺ参照鏡１７ｚ、及びウエハステージ本体９１に固定されたＺ移動鏡４１を用いてウエハテーブルＷＴＢ（実際にはウエハステージ本体９１）のＺ位置情報を求める。Ｚ干渉計１６ｚは、Ｚ移動鏡４１が有するＸＹ平面に対して傾斜する一対の反射面それぞれに対応するＺ軸方向に離間した一対の測長ビームを照射し、その測長ビームそれぞれのＺ参照鏡１７ｚからの反射ビームを、Ｚ移動鏡４１を介して受光する。また、前述したＹ干渉計１６ｙ（図３（Ａ）参照）は、Ｚ移動鏡４１が有するＸＺ平面に平行な反射面に対して測長ビームを照射し、その反射ビームを受光する。本実施形態の光干渉計システムでは２つのＺ干渉計１６ｚの出力に基づいて、ウエハステージＷＳＴのＺ位置、及びθｙ回転量情報が求められ、Ｙ干渉計１６ｙからＹ移動鏡１７ｙに照射される測長ビーム（図３（Ａ）参照）及びＹ干渉計１６ｙからＺ移動鏡４１に照射される測長ビームに基づいてウエハステージＷＳＴのθｘ回転量情報が求められる。以上説明したＸ干渉計１６ｘ、Ｙ干渉計１６ｙ、及びＺ干渉計１６ｚを併せて、適宜干渉計１６と称して説明する。
【００４２】
次に、露光装置１００の製造方法を図４（Ａ）及び図４（Ｂ）を用いて説明する。露光装置１００は、照明モジュール、レチクルステージモジュール１２、投影レンズモジュール、ウエハステージモジュール２０、カウンタマスモジュール３８Ａ，３８Ｂ、ボディＢＤそれぞれが、露光装置１００の製造工場（以下、単に製造工場と称する）において個別に組立・調整された後、所定の出荷先（半導体の製造工場など。以下、単に出荷先と称する）にモジュールごとに出荷され、その複数のモジュール同士が出荷先でドッキングされることによって製造される。ここで、照明モジュールとは、光源及び照明光学系などを含む図１の照明系１０のモジュールであり、投影レンズモジュールとは、鏡筒４０及び投影光学系ＰＬを含む図１の投影ユニットＰＵのモジュールである。
【００４３】
《製造工場における組立・調整》
ステージモジュール２０の組み立ては、製造工場において、図４（Ａ）に示されるように、まずステップ２０２でステージモジュール２０（図１及び図２参照）を構成する各パーツの組み立てが行われる。具体的には、４つの浮上・昇降装置７２上にベース７０が搭載され、そのベース７０上に定盤７１が載置される。また、定盤上７１上には、ウエハステージＷＳＴ，及び計測ステージＭＳＴが載置され、そのウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴに固定子８０，８１がそれぞれ接続される。この後、ステップ２０４で、ステージモジュール２０は、例えば、製造工場に設置された不図示のボディ工具と称される装置に対してドッキングされる。ボディ工具とは図１に示されるボディＢＤと実質的に同じものである。
【００４４】
ボディ工具は、図１に示されるメトロロジフレームＭＦと実質的に同じ部材であるメトロロジフレーム工具（図示省略）を有している。そして、図３（Ａ）〜図３（Ｃ）に示される干渉計１６（Ｘ干渉計１６ｘ、Ｙ干渉計１６ｙ、Ｚ干渉計１６ｚ）、Ｙ干渉計１８、Ｚ参照鏡１７ｚなど、メトロロジフレームＭＦに取り付けられる部材に関して、メトロロジフレーム工具と実機のメトロロジフレームＭＦとは、互いに状態（取付位置、光軸の位置など）が同じとなるように精度良く調整されている（実際には、実機のボディＢＤがボディ工具と同じとなるように調整して出荷される。その調整方法については後述）。ただし、ボディ工具を用いてウエハＷに露光処理を行うことがないことから、ボディ工具には、例えば投影ユニットＰＵ、アライメント装置９０などの替わりに同じ重量を有するダミー工具が取り付けられても良い。
【００４５】
ボディ工具とステージモジュール２０のとのドッキング時における、ステージモジュール２０のボディ工具に対する位置合わせは、メトロロジフレーム工具に設けられた絶対基準面を基準として、その絶対基準面と、ステージモジュール２０の定盤７１に設けられたステージ位置基準面とが予め設定された所定の位置関係となるように行われる。
【００４６】
ボディ工具に対するドッキングが終了した後、ステージモジュール２０は、ステップ２０６で浮上・昇降装置７２により、ベース７０，及び定盤７１が＋Ｚ側に持ち上げられ、その定盤７１上で、Ｙ移動鏡１７ｙ、及びＸ移動鏡１７ｘがそれぞれＹ干渉計１６ｙ、Ｘ干渉計１６ｘから照射される測長ビームが当たる位置まで、ウエハステージ本体９１の下面に設けられた気体静圧軸受によりウエハステージＷＳＴが＋Ｚ側に持ち上げられる。この後、ウエハステージ本体９１を適宜Ｘ軸、及びＹ軸方向に移動させつつ、Ｙ干渉計１６ｙから照射される測長ビームがＹ移動鏡１７ｙに垂直に入射するようにＹ移動鏡の位置が調整され、同様にＸ干渉計１６ｘから照射される測長ビームがＸ移動鏡１７ｘに垂直に入射するようにＸ移動鏡１７ｘの位置が調整される。また、Ｙ干渉計１６ｙから照射される測長ビームがＺ移動鏡４１のＸＺ平面に平行な面に垂直に入射するようにＺ移動鏡４１の位置が調整される。また、Ｚ干渉計１６ｚから照射される測長ビームが、Ｚ移動鏡４１，Ｚ参照鏡１７ｚを介して同一光路上を通ってＺ干渉計１６ｚに戻ってくるようにＺ移動鏡４１の位置が調整される。
【００４７】
ウエハステージＷＳＴは、ステップ２０６での移動鏡の位置調整作業の終了後、ステップ２０８で、ウエハステージ本体９１が有する気体静圧軸受に対する加圧気体の供給が停止される。これにより、ウエハステージＷＳＴが下降して定盤７１上面に接触する。ウエハステージＷＳＴは、定盤７１上面に接触した状態で定盤７１（あるいはベース７０）に不図示の工具を用いて固定される。また、計測ステージＭＳＴも同様に、ステップ２０６で、Ｙ移動鏡１９ｙ、Ｘ移動鏡１９ｘの干渉計の測長軸に対する反射面の位置調整が行われた後、定盤７１上面に接触した状態で不図示の工具により固定される。
【００４８】
《出荷先での組立作業》
次いで、ステップ２１０でウエハステージＷＳＴ、及び計測ステージＭＳＴが固定されたステージモジュール２０は、製造工場から出荷先に出荷される。出荷先では、ステージモジュール２０と、その出荷先で既に組み上げられたボディＢＤとがドッキングされる。このドッキングは、ボディＢＤが有するメトロロジフレームＭＦの絶対基準面と、ステージモジュール２０が有する定盤７１のステージ位置基準面とが、製造工場における調整時（ステップ２０４参照）と同じ位置関係となるように行われる。また、ボディＢＤには、照明モジュール、レチクルステージモジュール１２、投影レンズモジュール、カウンタマスモジュール３８Ａ，３８Ｂなどがドッキングされる。
【００４９】
ここで、上述したように、ボディ工具が有するメトロロジフレーム工具と、出荷先に設置されたボディＢＤが有するメトロロジフレームＭＦとは、互いのＸ干渉計１６ｘ、Ｙ干渉計１６ｙ、Ｚ干渉計１６ｚ、Ｙ干渉計１８、Ｚ参照鏡１７ｚそれぞれの状態（取付位置、光軸など）が同じとなるよう精度良く調整されている。従って、メトロロジフレーム工具を用いてＸ移動鏡１７ｘ、１９ｘ、Ｙ移動鏡１７ｙ、１９ｘ、Ｚ移動鏡４１それぞれの位置調整が行われたステージモジュール２０をボディＢＤにドッキングさせると、自動的にメトロロジフレームＭＦに固定されたＸ干渉計１６ｘ、Ｙ干渉計１６ｙそれぞれから照射される測長ビームが、Ｘ移動鏡１７ｘ、１９ｘ、Ｙ移動鏡１７ｙ、１９ｙ、Ｚ移動鏡４１に垂直に入射するようになるとともに、Ｚ干渉計１６ｚから照射される測長ビームが、Ｚ移動鏡４１，Ｚ参照鏡１７ｚを介して同一光路上を通ってＺ干渉計１６ｚに戻ってくるようになる。これにより、ステージモジュール２０をボディＢＤにドッキングさせた後の干渉計に対する移動鏡の位置調整作業を省略することができ、出荷先における露光装置１００の組み立て作業時間を短縮することができる。また、例えばステージモジュール２０を交換する場合、新たなステージモジュール２０の移動鏡の位置調整（ステップ２０２〜２０８参照）を、ボディ工具を用いて予め製造工場で行っておくことにより、出荷先でのドッキング後の移動鏡の位置調整作業を省略できる。なお、製造工場における作業では、ボディ工具を用いず、実際に出荷先で用いられる予定のボディＢＤ（メトロロジフレームＭＦ）を用いて製造工場にてステージモジュール２０の移動鏡の位置調整を行っても良い。
【００５０】
次に、出荷先において予め組み立てられたボディＢＤのメトロロジフレームＭＦが有する干渉計１６、Ｙ干渉計１８、Ｚ参照鏡１７ｚなどの取付・調整手順について説明する。
【００５１】
《製造工場における組立・調整》
メトロロジフレームＭＦに対する干渉計１６、Ｙ干渉計１８、Ｚ参照鏡１７ｚなどの取り付けは、露光装置の製造工場において、ステージモジュール工具と称される部材を用いて行われる。ステージモジュール工具は、図１に示されるステージモジュール２０と実質的に同じものであり、ボディ工具を用いて移動鏡の位置がステップ２０２〜２０６（図４（Ａ）参照）と同様の手順で精度良く調整されている。
【００５２】
ボディＢＤの製造では、まずステップ３０２でベースフレーム３０、第１フレーム３２、メトロロジフレームＭＦなどが組み立てられる。この後、ステップ３０４で、そのボディＢＤが有するメトロロジフレームＭＦに干渉計１６，Ｙ干渉計１８、Ｚ参照鏡１７ｚなどが取り付けられる。次いで、ステップ３０６でボディＢＤにステージモジュール工具がドッキングされる。この際、ステップ２０４（図４（Ａ）参照）と同様に、メトロロジフレームＭＦの絶対基準面を基準としてステージモジュール工具の位置が精度良く調整される。
【００５３】
ステージモジュール工具をボディＢＤにドッキングさせた後、ステップ３０８で、そのステージモジュール工具が有するＸ移動鏡１７ｘ、１９ｘ、Ｙ移動鏡１７ｙ、１９ｙ、Ｚ移動鏡４１などを用いて、メトロロジフレームＭＦに取り付けられた干渉計の光軸調整、Ｚ参照鏡１７ｚの取り付け位置調整などが行われる。具体的には、測長ビームがＸ移動鏡１７ｘ、１９ｘ、Ｙ移動鏡１７ｙ、１９ｙ、Ｚ移動鏡４１に垂直に入射するようにＸ干渉計１６ｘ、Ｙ干渉計１６ｙそれぞれの取付位置及び光軸が調整されるとともに、Ｚ干渉計１６ｚから照射される測長ビームが、Ｚ移動鏡４１，Ｚ参照鏡１７ｚを介して同一光路上を通ってＺ干渉計１６ｚに戻ってくるようにＺ干渉計１７ｚの取付位置及び光軸、並びにＺ参照鏡１７ｚの取り付け位置が調整される。
【００５４】
《出荷先での組立作業》
この後、ステップ３１０でボディＢＤからステージモジュール工具が取り外された後、ボディＢＤが単体で出荷先に出荷され、その出荷先の床面上に設置される。また、出荷先においてボディＢＤの設置作業が行われるのと並行して、製造工場ではステージモジュール２０の組立・調整作業が前述したステップ２０２〜２０８の手順で行われ、ステップ２１０で出荷先に出荷される。そして、出荷先に設置されたボディＢＤと、ステージモジュール２０とがドッキングされる。すなわち、説明の順序が前後したが、本実施形態では、製造工場において組立・調整が行われたボディＢＤが先行して出荷先に出荷・設置され、その後に製造工場で組立・調整されたステージモジュール２０が出荷先に出荷され、ボディＢＤにドッキングされる。
【００５５】
ここで、ステージモジュール２０は、予め実質的にボディＢＤと同じ部材であるボディ工具を用いて移動鏡の調整が行われているので、ステージモジュール２０をボディＢＤにドッキングさせると、自動的にメトロロジフレームＭＦに固定されたＸ干渉計１６ｘ、Ｙ干渉計１６ｙ、Ｚ干渉計１６ｚそれぞれから照射される測長ビームが、Ｘ移動鏡１７ｘ、１９ｘ、Ｙ移動鏡１７ｙ、１９ｙ、Ｚ移動鏡４１に垂直に入射するようになるとともに、Ｚ干渉計１６ｚから照射される測長ビームが、Ｚ移動鏡４１，Ｚ参照鏡１７ｚを介して同一光路上を通ってＺ干渉計１６ｚに戻ってくるようになる。従って、ステージモジュール２０をボディＢＤにドッキングさせた後の干渉計の取付位置及び光軸調整作業を省略できる。これにより、出荷先における露光装置１００の組み立て作業時間を短縮することができる。なお、製造工場における作業では、ステージモジュール工具を用いず、実際に出荷先で用いられる予定のステージモジュール２０を用いて干渉計などの調整を行っても良い（ただし、ボディＢＤの組立完了時にステージモジュール２０の組立も完了している必要がある）。
【００５６】
なお、製造工場に設置されたボディ工具が有するメトロロジフレーム工具に取り付けられたＸ干渉計、Ｙ干渉計、Ｚ干渉計、Ｚ参照鏡（それぞれＸ干渉計１６ｘ、Ｙ干渉計１６ｙ、１８、Ｚ干渉計１６ｚ、Ｚ参照鏡１７ｚ（図３（Ａ）〜図３（Ｃ）参照）と同じ部材）それぞれの取り付け、及びその位置調整は、まずメトロロジフレーム工具に反射面の直交度、鉛直度などが精度良く調整された基準ミラー工具、及び予めミラー工具が取り付けられた干渉計、Ｙ干渉計がそれぞれ固定される。そして、Ｘ干渉計、Ｙ干渉計のミラー工具の反射面と基準ミラー工具の反射面との平行度をオートコリメータ装置などを用いて計測することにより、Ｘ干渉計、Ｙ干渉計の取付位置が決定される。次いで、干渉計、Ｙ干渉計から照射される測長ビームの光軸調整がプリズムなどを含む垂直出し工具、及び上記基準ミラー工具などを用いて行われる。また、Ｚ干渉計、Ｚ参照鏡の取付位置調整及び光軸調整がＺ移動鏡４１（図３（Ｃ）参照）と同様な構成を有するミラー工具を設置して行われる。
【００５７】
また、露光装置１００の製造工程では、最初にボディ工具が製造され、そのボディ工具を用いてステージモジュール工具が製造・調整がされる。そして、そのボディ工具を用いて実機のステージモジュール２０が量産されるととともに、そのステージモジュール工具を用いて実機のボディＢＤが量産される。すなわち、量産される複数のステージモジュール２０は、全てボディ工具を用いて移動鏡の調整が行われ、量産される複数のボディＢＤは、全てステージモジュール工具を用いて干渉計などの調整が行われる。従って、量産される複数のステージモジュール２０のうちのひとつと、量産される複数のボディＢＤのうちのひとつをドッキングさせる場合、どのような組み合わせであっても、干渉計システム（干渉計、移動鏡、参照鏡）に関して調整が不要となる。
【００５８】
以上説明したように、本実施形態の露光装置１００の製造方法では、実機のボディＢＤ及びステージモジュール２０と実質的に同じ部材であるボディ工具及びステージモジュール工具が用意され、そのボディ工具及びステージモジュール工具をドッキングさせて干渉計システムに関する調整が行われた後に、干渉計ステムに関して、ボディ工具を用いて実機のステージモジュール２０の調整が行われるとともに、ステージモジュール工具を用いて実機のボディＢＤの調整が行われる。従って、実機のボディＢＤ、及び実機のステージモジュール２０を製造工場でドッキングさせることなく、露光装置１００の光干渉計システムに関する調整作業を行うことができる。これにより、露光装置１００の組み立て作業時間を短縮することができる。また、出荷先におけるボディＢＤの設置と、製造工場におけるステージモジュール２０の調整を並行して行うことができるので、露光装置１００の組み立て作業時間を短縮することができる。
【００５９】
なお、本明細書において、露光装置１００の製造とは、出荷先（すなわち、実際の露光装置１００の使用場所）において、ウエハＷに露光処理を行うことができる程度の状態に露光装置１００を組み立てることを意味する。従って、上記実施形態では、ステージモジュール２０、及びボディＢＤをそれぞれ製造工場で製造・調整した後に出荷先に出荷し、その出荷先で組み立てることにより露光装置１００の製造を行ったが、露光装置１００の製造方法はこれに限られず、例えば露光装置１００を構成する個々の部材（例えばステージモジュール２０、ボディＢＤ）の製造工程を含まなくても良い。このため、例えばある場所に設置された露光装置１００を分解した後に製造工場に搬送し、その製造工場で調整を行った後に別の出荷先に出荷して、その別の出荷先で組立を行う際に、上記実施形態と同様な手順で露光装置の製造を行っても良い。
【００６０】
また、上記実施形態では、ウエハステージＷＳＴ，及び計測ステージＭＳＴがリニアモータにより定盤上で駆動される構成であったが、これにかぎらず、例えば米国特許第５，１９６，７４５号明細書などに開示されるローレンツ電磁力駆動方式の平面モータにより駆動されても良い。
【００６１】
また、例えば米国特許出願公開第２００５／０２５９２３４号明細書などに開示される液浸露光装置に、本発明を適用することも可能である。この場合、投影光学系ＰＬの最もウエハＷ側のレンズの出射面とウエハＷとの間に液体（例えば純水）を供給する供給ノズル、及びその液体を回収する回収ノズルを有するノズルユニットがメトロロジフレームＭＦに吊り下げ状態で固定される。また、ウエハテーブルＷＴＢには、ウエハホルダＷＨの周囲を囲み、その表面のＺ位置がウエハＷの表面と同じとなるように設定された撥水プレートが固定される。
【００６２】
また、上記実施形態の光干渉計システムと併用して、例えば米国特許出願公開第２００９／０２３３２３４号明細書などに開示されるようなエンコーダシステムを用いてウエハステージＷＳＴの位置情報を求めても良い。この場合、光干渉計システム、及びエンコーダシステムの一方が故障しても、他方によりウエハステージＷＳＴの位置情報を求めることができるので信頼性が向上する。この場合、ウエハテーブルＷＴＢの上面にＸ軸、及びＹ軸方向を周期方向とするスケール（あるいは二次元スケール）が固定され、メトロロジフレームＭＦの下面に固定されたエンコーダヘッドにより、ウエハステージＷＳＴの位置情報が求められる。
【００６３】
また、上記実施形態では、スキャニング・ステッパに本発明が適用された場合について説明したが、これに限らず、ステッパなどの静止型露光装置に本発明を適用しても良い。ステッパなどであっても、露光対象の物体が搭載されたステージの位置を光干渉計システムを用いて高精度に位置決めすることが可能になり、高精度なレチクルパターンの物体上への転写が可能になる。また、ショット領域とショット領域とを合成するステップ・アンド・スティッチ方式の縮小投影露光装置にも本発明は適用することができる。さらに、例えば米国特許第６，６１１，３１６号明細書に開示されているように、２つのレチクルパターンを、投影光学系を介してウエハ上で合成し、１回のスキャン露光によってウエハ上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置の製造方法にも本発明を適用することができる。
【００６４】
また、上記実施形態の露光装置における投影光学系は縮小系のみならず等倍及び拡大系のいずれでも良いし、投影光学系ＰＬは屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、この投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。
【００６５】
また、照明光ＩＬは、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）に限らず、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光や、Ｆ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光であっても良い。例えば米国特許第７,０２３,６１０号明細書に開示されているように、真空紫外光としてＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。
【００６６】
また、上記実施形態では、露光装置の照明光ＩＬとしては波長１００ｎｍ以上の光に限らず、波長１００ｎｍ未満の光を用いても良いことはいうまでもない。例えば、軟Ｘ線領域（例えば５〜１５ｎｍの波長域）のＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）光を用いるＥＵＶ露光装置に本発明を適用することができる。その他、電子線又はイオンビームなどの荷電粒子線を用いる露光装置にも、本発明は適用できる。
【００６７】
また、上記実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスク（レチクル）を用いたが、このレチクルに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれ、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）などを含む）を用いても良い。かかる可変成形マスクを用いる場合には、ウエハ又はガラスプレート等が搭載されるステージが、可変成形マスクに対して走査されるので、このステージの位置情報を光干渉計システムを用いて計測することで、上記実施形態と同等の効果を得ることができる。
【００６８】
なお、上記実施形態でパターンを形成すべき物体（エネルギビームが照射される露光対象の物体）はウエハに限られるものでなく、ガラスプレート、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど他の物体でも良い。
【００６９】
露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置や、有機ＥＬ、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。
【産業上の利用可能性】
【００７０】
以上説明したように、本発明の露光装置の製造方法は、所定の二次元平面に沿って移動する移動体の位置情報を光干渉計を用いて求める露光装置を製造するのに適している。
【符号の説明】
【００７１】
１６ｘ…Ｘ干渉計、１６ｙ…Ｙ干渉計、１６ｚ…Ｚ干渉計、１７ｚ…Ｚ参照鏡、１８…Ｙ干渉計、４１…Ｚ移動鏡、２０…ステージモジュール、１００…露光装置、ＢＤ…ボディ、ＭＦ…メトロロジフレーム、ＭＳＴ…計測ステージ、Ｗ…ウエハ、ＷＳＴ…ウエハステージ。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置の製造方法に係り、更に詳しくは、所定の二次元平面に沿って移動可能な移動体の位置情報を光干渉計を用いて求める露光装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子（集積回路等）、液晶表示素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、レチクル又はマスク（以下、「レチクル」と総称する）と、ウエハ又はガラスプレート（以下、「ウエハ」と総称する）とを所定の走査方向（スキャン方向）に沿って同期移動させつつ、投影光学系を介して露光光をウエハに照射することにより、そのウエハ上にレチクルに形成されたパターンを転写するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが用いられている。
【０００３】
この種の露光装置では、露光光に対して高精度でウエハの位置を制御するために、ウエハが載置される基板ステージ装置の位置情報を光干渉計システムにより求めるものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
光干渉計システムを用いて基板ステージ装置の位置情報を求める場合、その基板ステージ装置には、光干渉計から照射される光線を反射するための反射面（例えば、鏡）が設けられている。このような干渉計システムを用いる場合、例えば干渉計から照射される光線の光軸が基板ステージ装置の反射面に垂直となるように、干渉計の光軸調整、あるいは反射面の傾き調整作業などを行う必要があり、露光装置を組み立てる際、干渉計システムの調整作業に多大な時間を要していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００９／００２７６４０号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の事情の下でなされたもので、第１の観点からすると、少なくとも所定の二次元平面に沿って移動可能な移動体を含む移動体装置と、前記移動体に設けられた反射面を用いて前記移動体の少なくとも前記二次元平面内の位置情報を求める光干渉計を有する装置本体と、を含み、感応物体を露光する露光装置の製造方法であって、複数の前記装置本体を用意することと；前記複数の装置本体のうちの一の装置本体と前記移動体装置とを組み合わせ、前記一の装置本体が有する前記光干渉計を用いて前記移動体の前記反射面を調整することと；前記反射面の調整がされた前記移動体を有する前記移動体装置と前記一の装置本体とを分離することと；前記複数の装置本体が有する前記光干渉計を互いに実質的に同じ状態となるように調整することと；前記反射面の調整がされた前記移動体装置を、前記複数の装置本体のうちの他の装置本体と組み合わせることと；を含む露光装置の製造方法である。
【０００７】
これによれば、移動体装置が有する移動体は、一の装置本体を用いて反射面の調整（例えば、傾き調整など）が行われる。また、最終的に移動体装置と組み合わされる他の装置本体は、光干渉計に関して一の装置本体と互いに同じ状態となるように調整（例えば、取付位置調整、光軸調整など）が行われる。従って、移動体装置が有する移動体の反射面の調整を一の装置本体を用いて行うことは、実質的に移動体装置と他の装置本体とを組み合わせた状態で移動体の反射面の調整を行ったことと同じである。これにより、移動体装置と他の装置本体とを組み合わせた後の反射面の調整を省略でき、露光装置の製造作業を迅速に行うことができる。
【０００８】
本発明は、第２の観点からすると、少なくとも所定の二次元平面に沿って移動可能な移動体を含む移動体装置と、前記移動体に設けられた反射面を用いて前記移動体の少なくとも前記二次元平面内の位置情報を求める光干渉計を有する装置本体と、を含み、感応物体を露光する露光装置の製造方法であって、複数の前記移動体装置を用意することと；前記複数の移動体装置のうちの一の移動体装置と前記装置本体とを組み合わせ、前記一の移動体装置が有する前記移動体の前記反射面を用いて前記装置本体の前記光干渉計を調整することと；前記光干渉計の調整がされた前記装置本体と前記一の移動体装置とを分離することと；前記複数の移動体装置の前記移動体に設けられた前記反射面を互いに実質的に同じ状態となるように調整することと；前記光干渉計の調整がされた前記装置本体を、前記複数の装置本体のうちの他の移動体装置と組み合わせることと；を含む露光装置の製造方法である。
【０００９】
これによれば、装置本体は、一の移動体装置が有する移動体を用いて光干渉計の調整（例えば、取付位置調整、光軸調整など）が行われる。また、最終的に装置本体と組み合わされる他の移動体装置は、移動体の反射面に関して一の移動体装置の移動体と互いに同じ状態となるように調整（例えば、傾き調整など）が行われる。従って、装置本体の光干渉計の調整を一の移動体装置を用いて行うことは、実質的に装置本体と他の移動体装置ルとを組み合わせて光干渉計の調整を行ったことと同じである。これにより、装置本体と他の移動体装置とを組み合わせた後の光干渉計の調整を省略でき、露光装置の製造作業を迅速に行うことができる。
【００１０】
ここで、露光装置の製造とは、露光装置を感応物体を露光できる状態にすることを意味する。従って、本発明に係る露光装置の製造方法では、露光装置を構成する部材（移動体装置、及び装置本体）自体の製造は伴わなくても（すなわち、移動体装置、装置本体などの部材は予め製造されたものであっても）良い。このため、例えば、ある場所に設置された露光装置（移動体装置、及び装置本体を含む）を別の場所に設置（移設）するような場合も、本発明に係る露光装置の製造方法を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】一実施形態に係る露光装置の概略構成を示である。
【図２】図１の露光装置が有するステージモジュールの平面図である。
【図３】図３（Ａ）はＹ干渉計の構成、図３（Ｂ）はＸ干渉計の構成、図３（Ｃ）はＺ干渉計の構成を説明するための図である。
【図４】図４（Ａ）は、ステージモジュールの組立・調整手順を説明するための図であり、図４（Ｂ）は、ボディの組立・調整手順を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の一実施形態を、図１〜図４（Ｂ）に基づいて説明する。
【００１３】
図１には、一実施形態の露光装置１００の構成が概略的に示されている。露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。後述するように、本実施形態では、投影光学系ＰＬが設けられており、以下においては、この投影光学系ＰＬの光軸と平行な方向をＺ軸方向、Ｚ軸に直交する面内でレチクルとウエハとが相対走査される方向をＹ軸方向、Ｚ軸及びＹ軸に直交する方向をＸ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。
【００１４】
露光装置１００は、照明光（露光光）ＩＬによりレチクルＲを照明する照明系１０、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴを含むレチクルステージモジュール１２、投影光学系ＰＬを含む投影ユニットＰＵ、レチクルステージモジュール１２及び投影ユニットＰＵなどが搭載されたボディＢＤ、ウエハＷが載置されるウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴを含むステージモジュール２０、ステージモジュール２０の＋Ｘ側、−Ｘ側にそれぞれ配置されたカウンタマスモジュール３８Ａ，３８Ｂ、及びこれらの制御系等を含んでいる。
【００１５】
照明系１０は、例えば米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書などに開示されるように、光源、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系、ビームスプリッタ、リレーレンズ、可変ＮＤフィルタ、レチクルブラインド等（いずれも不図示）を含んでいる。照明系１０では、レチクルブラインドにより規定されるレチクルＲ上のスリット状の照明領域ＩＡＲを照明光ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ＩＬとしては、一例としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。
【００１６】
レチクルステージモジュール１２は、後述するボディＢＤの一部である第２フレーム３６上に搭載されている。レチクルステージモジュール１２は、レチクルステージＲＳＴ、及びレチクルステージＲＳＴを駆動するリニアモータ等を含むレチクルステージ駆動系（不図示）等を有している。レチクルステージＲＳＴ上には、レチクルＲが、例えば真空吸着（又は静電吸着）により保持されている。レチクルステージＲＳＴは、レチクルステージ駆動系により、第２フレーム３６上を走査方向（Ｙ軸方向）に所定のストロークで駆動され、かつＸ軸方向、及びθｚ方向に適宜微少駆動される。レチクルステージＲＳＴの位置情報は、不図示のレチクルレーザ干渉計システムによって、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時求められている。不図示の制御装置は、レチクルレーザ干渉計システムの出力に基づいて、レチクルステージ駆動系を介してレチクルステージＲＳＴの位置を制御する。
【００１７】
投影ユニットＰＵは、レチクルステージＲＳＴの図１における下方に配置されている。投影ユニットＰＵは、鏡筒４０と、鏡筒４０内に保持された投影光学系ＰＬとを含む。投影光学系ＰＬとしては、例えば光軸ＡＸに沿って配列された複数の光学素子（レンズエレメント）から成る屈折光学系が用いられる。投影光学系ＰＬは、例えば両側テレセントリックで、所定の投影倍率（例えば１／４倍、１／５倍又は１／８倍など）を有する。投影ユニットＰＵは、鏡筒４０の外周部に固定されたフランジＦＬＧを介して、ボディＢＤの一部であるメトロロジフレームＭＦと称される部材に一体的に固定されている。
【００１８】
これにより、照明系１０によってレチクルＲ上の照明領域ＩＡＲが照明されると、投影光学系ＰＬの第１面（物体面）とパターン面とがほぼ一致して配置されるレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬ（投影ユニットＰＵ）を介してその照明領域ＩＡＲ内のレチクルＲの回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の縮小像）が、投影光学系ＰＬの第２面（像面）側に配置される、表面にレジスト（感応剤）が塗布されたウエハＷ上の前記照明領域ＩＡＲに共役な領域（以下、露光領域とも呼ぶ）ＩＡに形成される。そして、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとの同期駆動によって、照明領域ＩＡＲ（照明光ＩＬ）に対してレチクルＲを走査方向に相対移動させるとともに、露光領域ＩＡ（照明光ＩＬ）に対してウエハＷを走査方向に相対移動させることで、ウエハＷ上の１つのショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にレチクルＲのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系１０、投影光学系ＰＬによってウエハＷ上にレチクルＲのパターンが生成され、照明光ＩＬによるウエハＷ上の感応層（レジスト層）の露光によってウエハＷ上にそのパターンが形成される。
【００１９】
ボディＢＤは、クリーンルームの床面上に設置されたベースフレーム３０上に搭載された第１フレーム３２と、第１フレーム３２上に複数の脚部３５を介して搭載された第２フレーム３６とを含む。ベースフレーム３０は、ステージモジュール２０の＋Ｙ側、及び−Ｙ側それぞれにひとつずつ、計２つ設けられており（図１では、紙面奥側のベースフレーム３０は不図示。図２参照）、第１フレーム３２のＹ軸方向に関する両端部を下方から支持している。第１フレーム３２は、ＸＹ平面に平行な矩形枠状の部材から成る。第１フレーム３２は、その中央部に矩形の開口部３２ａを有しており、その開口部３２ａ内にメトロロジフレームＭＦが挿入されている。メトロロジフレームＭＦは、Ｙ軸方向を長手方向とする平面視矩形の高さの低い箱形（あるいは板状）の部材から成り、フランジＦＬＧを介して固定された投影ユニットＰＵが有する投影光学系ＰＬの光軸ＡＸが水平面に対して垂直となるように精度良く調整された状態で第１フレーム３２に固定されている。
【００２０】
メトロロジフレームＭＦの下面には、例えば米国特許出願公開第２００９／０２３３２３４号明細書などに開示されるようなアライメント装置９０（図３（Ａ）参照）、例えば米国特許第５，４４８，３３２号明細書などに開示されるような多点焦点位置検出系の一部を構成するフォーカスセンサ（図示省略）などが、吊り下げ状態で取り付けられている。
【００２１】
次にステージモジュール２０について説明する。ステージモジュール２０は、ベース７０、ベース７０上に搭載された定盤７１、定盤７１上面に沿って移動するウエハステージＷＳＴ、及びウエハステージＷＳＴとは独立して定盤７１上面に沿って移動する計測ステージＭＳＴを有している。
【００２２】
ベース７０は、例えばその下面の四隅部に対応する位置にそれぞれ取り付けられた浮上・昇降装置７２（４つの浮上・昇降装置７２のうち、２つは図１に示される他の２つに対して紙面奥側に隠れている）を介して床面上に水平に支持されている。
【００２３】
４つの浮上・昇降装置７２は、それぞれ不図示の空気ばねと、エア浮上装置とを有している。空気ばねは、図示しない気体供給装置から供給される圧縮空気の圧力変化に応じてＺ軸方向に所定のストローク（例えば、５０ｍｍ程度）で伸縮する。このため、ステージモジュール２０は、４つの浮上・昇降装置７２それぞれが有する空気ばねを適宜用いてベース７０を上下動させることにより、定盤７１上面のＺ軸方向、θｘ方向、及びθｙ方向それぞれの位置を任意に調整することができるようになっている。エア浮上装置は、浮上・昇降装置７２の底面に設けられ、床面に対して不図示の気体供給装置から供給（ただし、上記空気ばねとは別系統）される空気を噴出することにより、ステージモジュール２０全体を、床面上に所定のクリアランス（例えば、１０ｍｍ程度）を介して浮上させる。エア浮上装置は、ステージモジュール２０をボディＢＤから分離して移動させる際に主に用いられる。従って、ウエハＷに対して露光処理などを行う際には、エア浮上装置には空気が供給されず、浮上・昇降装置７２の底面は、床面に接触している。
【００２４】
定盤７１は、図２に示されるように、Ｙ軸方向を長手方向とする平面視矩形の板状の部材から成り、その上面は、平面度が非常に高く仕上げられている。
【００２５】
ウエハステージＷＳＴは、図１に示されるように、ウエハステージ本体９１、及びウエハテーブルＷＴＢを含む。ウエハステージ本体９１は、平面視矩形の箱形（直方体状）の部材から成る。なお、図１では不図示であるが、ウエハステージ本体９１は、その下面に気体静圧軸受（例えば、エアベアリング）を有しており、その気体静圧軸受から定盤７１の上面に対して噴出される加圧気体の静圧により、定盤７１の上面に対し数μｍ程度のクリアランスを介して浮上している。
【００２６】
ウエハステージ本体９１には、Ｘ軸方向に貫通した開口部（図示省略）が形成されており、その開口部内には、Ｘ軸方向に延びる固定子８０が挿入されている。固定子８０は、Ｘ軸、及びＺ軸方向に所定間隔で配列された複数のコイルを含むコイルユニット（図示省略）を有している。これに対し、ウエハステージ本体９１は、複数の永久磁石から成る磁石ユニットを含むＸ可動子、及びＺ可動子（図示省略）を有している。ウエハステージ本体９１は、固定子８０とＸ可動子とから成るローレンツ電磁力駆動方式のＸリニアモータにより、固定子８０に沿ってＸ軸方向に所定のストロークで駆動される。Ｘリニアモータは、Ｙ軸方向に離間して複数、例えば２つ設けられ、ウエハステージ本体９１は、例えば２つのＸリニアモータにより、適宜θｚ方向に微少駆動される。また、Ｚ可動子は、複数（少なくとも同一直線上にない３箇所に）設けられ、その複数のＺ可動子と固定子８０により複数のローレンツ電磁力駆動方式のＺリニアモータが構成されている。ウエハステージ本体９１は、複数のＺリニアモータにより、適宜θｘ方向、及び／又はθｙ方向に微少駆動される。また、図１では不図示であるが、ウエハステージ本体９１の−Ｙ側の側面には、Ｘ軸方向を長手方向とするＺ移動鏡４１（図２参照）が、不図示のキネマティック支持機構を介して取り付けられている。また、図１及び図２では不図示であるが、ウエハステージ本体９１は、計測ステージＭＳＴに照明光ＩＬを導くための送光系を有している。
【００２７】
固定子８０は、図１に示されるように、長手方向の一端、及び他端それぞれの近傍の下面に気体静圧軸受８３（例えば、エアベアリング）を有している。固定子８０は、気体静圧軸受８３から定盤７１の上面に対して噴出される加圧気体の静圧により、定盤７１の上面に対し数μｍ程度のクリアランスを介して浮上している。また、固定子８０の長手方向の一端、及び他端には、それぞれ複数の永久磁石から成る磁石ユニット（図示省略）を含む可動子８２が接続されている。
【００２８】
ウエハテーブルＷＴＢは、図２に示されるように、平面視略正方形の板状部材から成り、ウエハステージ本体９１上に搭載されている。ウエハテーブルＷＴＢの上面には、ウエハＷを真空吸着（あるいは静電吸着）によって吸着保持するウエハホルダＷＨ（図１参照）が取り付けられている。また、ウエハテーブルＷＴＢの−Ｙ側の端面，及び−Ｘ側の端面には、それぞれＹ移動鏡１７ｙ，Ｘ移動鏡１７ｘが固定されている。ウエハテーブルＷＴＢのＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転量情報も含む）は、Ｙ移動鏡１７ｙ，Ｘ移動鏡１７ｘを用いた光干渉計システムにより計測される。光干渉計システムの構成については後に説明する。
【００２９】
計測ステージＭＳＴは、ウエハステージＷＳＴの＋Ｙ側に配置されており、計測ステージ本体９２、及び計測テーブルＭＴＢを有している。計測ステージ本体９２は、平面視矩形の箱形（直方体状）の部材から成る。なお、図１では不図示であるが、計測ステージ本体９２は、その底部に気体静圧軸受（例えば、エアベアリング）を有している。計測ステージＭＳＴは、気体静圧軸受から定盤７１の上面に対して噴出される加圧気体の静圧により、定盤７１上に数μｍ程度のクリアランスを介して浮上している。
【００３０】
計測ステージ本体９２には、Ｘ軸方向に貫通した開口部（図示省略）が形成されており、その開口部内には、Ｘ軸方向に延びる固定子８１が挿入されている。固定子８１は、Ｘ軸方向に所定間隔で配列された複数のコイルを含むコイルユニット（図示省略）を有している。これに対し、計測ステージ本体９２は、複数の永久磁石から成る磁石ユニットを含むＸ可動子（図示省略）を有している。計測ステージ本体９２は、固定子８１とＸ可動子とから成るローレンツ電磁力駆動方式のＸリニアモータにより、固定子８１に沿ってＸ軸方向に所定のストロークで駆動される。また、固定子８１の長手方向の一端、及び他端には、それぞれ複数の永久磁石から成る磁石ユニット（図示省略）を含む可動子８５が接続されている。さらに、図１では気体静圧軸受８３に対して紙面奥側に隠れているため不図示であるが、固定子８１の長手方向の一端、及び他端の近傍の下面には、固定子８１を定盤７１上で浮上させるための気体静圧軸受が取り付けられている。
【００３１】
計測テーブルＭＴＢは、図２に示されるように、平面視矩形の板状部材から成り、計測ステージ本体９２上に搭載されている。計測テーブルＭＴＢの＋Ｙ側の端面，及び−Ｘ側の端面には、それぞれＹ移動鏡１９ｙ，Ｘ移動鏡１９ｘが固定されている。計測テーブルＭＴＢのＸＹ平面内の位置情報は、Ｙ移動鏡１９ｙ，Ｘ移動鏡１９ｘを用いた光干渉計システムにより計測される。光干渉計システムの構成については後に説明する。
【００３２】
計測テーブルＭＴＢは、そ上面に照度むらセンサ９４、空間像計測器９６、波面収差計測器９８などの複数の計測用部材を有している。複数の計測用部材は、計測テーブルＭＴＢが投影ユニットＰＵ（図１参照）の下方に位置した状態で、投影光学系ＰＬを通過した照明光ＩＬ（図１参照）を受光する。また、計測ステージＭＳＴは、計測テーブルＭＴＢの−Ｙ側にコンフィデンシャルバー４６と称されるＹ軸方向に延びる部材を有している。コンフィデンシャルバー４６には、不図示であるが、アライメント計測に用いられる複数のマークなどが形成されている。また、計測ステージＭＳＴは、ウエハテーブルＷＴＢが有する送光系（図示省略）を介して案内される照明光ＩＬを受光するための受光系を有している。上記計測用部材、コンフィデンシャルバー４６、受光系を含み、計測ステージＭＳＴの構成、及び動作については、例えば米国特許出願公開第２００８／０１０６７２２号明細書などに開示されている。
【００３３】
図１に戻り、カウンタマスモジュール３８Ａは、固定子８６、固定子８６の底面に固定されたカウンタマス７６、カウンタマス７６をＹ軸方向にスライド自在に支持するベース７４、及びベース７４を床面上で下方から支持する浮上・昇降装置５８を含む。固定子８６は、ＸＺ断面横Ｕ字状に形成された、Ｙ軸方向に延びる部材から成り、一対の対向面間に可動子８２、可動子８５（図２参照）がそれぞれ挿入されている。固定子８６は、Ｙ軸方向に所定間隔で配列された複数のコイルを含むコイルユニット（図示省略）を有している。コイルユニットは、可動子８２、可動子８５それぞれが有する磁石ユニット（図示省略）とともに、固定子８０（すなわちウエハステージＷＳＴ）、固定子８１（すなわち計測ステージＭＳＴ）を、それぞれ独立にＹ軸方向に所定のストロークで駆動するローレンツ電磁力駆動方式のＹリニアモータを構成している。
【００３４】
カウンタマス７６は、略直方体状の重量物であり、その下面には、ＸＺ断面Ｖ字状で、Ｙ軸方向に延びる凸部が形成されている。凸部を規定する一対の傾斜面それぞれには、不図示の気体静圧軸受（例えば、エアベアリング）が設けられている。ベース７４は、略直方体状の部材から成り、その上面には、ＸＺ断面Ｖ字状で、Ｙ軸方向に延びるＶ溝が形成されている。Ｖ溝を規定する一対の傾斜面間には、カウンタマス７６の凸部が挿入されている。カウンタマス７６は、気体静圧軸受から噴出される気体の静圧により、所定のクリアランスを介してベース７４上に浮上している。カウンタマス７６は、ウエハステージＷＳＴ、又は計測ステージＭＳＴがＹリニアモータによりＹ軸方向へ駆動される際に、固定子８６に生じる反力の作用により、固定子８６と一体的にベース７４上でＹ軸方向に移動することにより固定子８６に作用する反力をキャンセルする。
【００３５】
浮上・昇降装置５８は、大きさが異なる点を除き、ステージモジュール２０が有する浮上・昇降装置７２と同様の構成、及び機能を有する。浮上・昇降装置５８は、ベース７４の下面にＹ軸方向に所定間隔で２つ取り付けられている（図１では、一方の浮上・昇降装置５８は、他方の紙面奥側に隠れている）。従って、カウンタマスモジュール３２Ａは、浮上・昇降装置５８が有する不図示の空気ばねを用いてＹ固定子８６のＺ位置を調整すること、及び不図示のエア浮上装置を用いて床面上に浮上することができる。カウンタマスモジュール３８Ｂは、図１に示されるように、露光装置１００を−Ｙ側から見て左右対称である点を除きカウンタマスモジュール３８Ａと同様に構成されているため、説明を省略する。
【００３６】
ここで、ステージモジュール２０に対して、カウンタマスモジュール３２Ａ、３２Ｂは、それぞれ機械的に接続されていないことから、ステージモジュール２０から分離することができる。従って、カウンタマスモジュール３８Ａ、３８Ｂそれぞれを露光装置１００から取り外してメンテナンスを行うことができる。そして、特に不図示のエア浮上装置を用いて床面上に浮上した状態では、容易にステージモジュール２０から分離することができるので、カウンタマスモジュール３８Ａ、３８Ｂのメンテナンス作業を容易に行うことができる。
【００３７】
次に、ウエハテーブルＷＴＢの６自由度方向の位置情報（Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸方向に関する位置情報、及びθｘ、θｙ、θｚ方向の回転量情報）を計測するための光干渉計システムの構成について、図３（Ａ）〜図３（Ｃ）を用いて説明する。なお、図３（Ａ）〜図３（Ｃ）では、図面の錯綜を避ける観点から、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴを駆動するリニアモータを構成する部材の図示が省略されている。また、本実施形態の露光装置１００における光干渉計システムの構成、及びその光干渉計システムを用いた計測方法は、例えば米国特許出願公開第２００９／００２７６４０号明細書などに開示されたものと実質的に同じである。
【００３８】
図３（Ａ）に示されるように、ウエハテーブルＷＴＢのＹ位置情報を計測するためのＹ干渉計１６ｙは、メトロロジフレームＭＦの−Ｙ側の下面に吊り下げ状態で固定されている。Ｙ干渉計１６ｙは、図示しない参照鏡（Ｙ参照鏡）を内蔵している。Ｙ干渉計１６ｙは、メトロロジフレームＭＦに固定されたレーザユニット１５から光ファイバケーブルを介して供給されるレーザビームをＹ参照鏡、及びウエハテーブルＷＴＢのＹ移動鏡１７ｙにそれぞれ照射し、Ｙ参照鏡からの反射光とＹ移動鏡１７ｙからの反射光との干渉に基づいてＹ移動鏡１７ｙの反射面上におけるレーザビーム（測長ビーム）の照射点のＹ位置を求める。ここで、Ｙ干渉計１６ｙからは、Ｘ軸方向に離間した２本の平行な測長ビームがそれぞれＹ移動鏡１７ｙに照射される。光干渉計システムでは、２本の測長ビームのＹ移動鏡１７ｙの反射面上における照射点のＹ位置の平均に基づいてウエハテーブルＷＴＢのＹ位置が求められるとともに、２本の測長ビームのＹ移動鏡１７ｙの反射面上における照射点のＹ位置の差に基づいてウエハテーブルＷＴＢのθｚ回転量情報が求められる。
【００３９】
計測ステージＭＳＴのＹ位置情報を計測するためのＹ干渉計１８は、メトロロジフレームＭＦの＋Ｙ側の下面に吊り下げ状態で固定されている。Ｙ干渉計１８は、Ｙ干渉計１６ｙと同様に、図示しない参照鏡（Ｙ参照鏡）を内蔵しており、その参照鏡に参照ビームを、Ｙ移動鏡１９ｙに測長ビームをそれぞれ照射する。計測ステージＭＳＴのＹ位置情報は、測長ビームの反射光と参照ビームの反射光との干渉に基づいて求められる。
【００４０】
図３（Ｂ）に示されるように、ウエハテーブルＷＴＢのＸ位置情報を計測するためのＸ干渉計１６ｘは、メトロロジフレームＭＦの−Ｘ側の下面に吊り下げ状態で固定されている。Ｘ干渉計１６ｘもＹ干渉計１６ｙと同様に図示しない参照鏡（Ｘ参照鏡）を内蔵しており、その参照鏡に参照ビームを、Ｘ移動鏡１７ｘに測長ビームをそれぞれ照射する。ウエハテーブルＷＴＢのＸ位置情報は、測長ビームの反射光と参照ビームの反射光との干渉に基づいて求められる。また、図３（Ｂ）では、紙面奥行き方向に重なっているため不図示となっているが、Ｘ干渉計１６ｘは、Ｙ軸方向に所定間隔で複数設けられており、光干渉計システムでは、ウエハテーブルＷＴＢのＹ位置に応じて複数のＸ干渉計１６ｘのうちの１つ、又は２つを適宜用いてウエハテーブルＷＴＢのＸ位置情報を求めるようになっている。また、複数のＸ干渉計１６ｘのうちの１つは、移動鏡１９ｘ（図２参照）を用いて計測テーブルＭＴＢのＸ位置情報を求める。
【００４１】
図３（Ｃ）に示されるように、ウエハテーブルＷＴＢのＺ位置情報を計測するためのＺ干渉計１６ｚは、メトロロジフレームＭＦの−Ｙ側の下面に吊り下げ状態で固定されている。なお、図３（Ｃ）では、紙面奥行き方向に重なっているため不図示となっているが、Ｚ干渉計１６ｚは、Ｘ軸方向に離間して２つ設けられており、前述のＹ干渉計１６ｙは、２つのＺ干渉計１６ｚの間に配置されている。２つのＺ干渉計１６ｚは、それぞれメトロロジフレームＭＦの下面に吊り下げ状態で固定されたＺ参照鏡１７ｚ、及びウエハステージ本体９１に固定されたＺ移動鏡４１を用いてウエハテーブルＷＴＢ（実際にはウエハステージ本体９１）のＺ位置情報を求める。Ｚ干渉計１６ｚは、Ｚ移動鏡４１が有するＸＹ平面に対して傾斜する一対の反射面それぞれに対応するＺ軸方向に離間した一対の測長ビームを照射し、その測長ビームそれぞれのＺ参照鏡１７ｚからの反射ビームを、Ｚ移動鏡４１を介して受光する。また、前述したＹ干渉計１６ｙ（図３（Ａ）参照）は、Ｚ移動鏡４１が有するＸＺ平面に平行な反射面に対して測長ビームを照射し、その反射ビームを受光する。本実施形態の光干渉計システムでは２つのＺ干渉計１６ｚの出力に基づいて、ウエハステージＷＳＴのＺ位置、及びθｙ回転量情報が求められ、Ｙ干渉計１６ｙからＹ移動鏡１７ｙに照射される測長ビーム（図３（Ａ）参照）及びＹ干渉計１６ｙからＺ移動鏡４１に照射される測長ビームに基づいてウエハステージＷＳＴのθｘ回転量情報が求められる。以上説明したＸ干渉計１６ｘ、Ｙ干渉計１６ｙ、及びＺ干渉計１６ｚを併せて、適宜干渉計１６と称して説明する。
【００４２】
次に、露光装置１００の製造方法を図４（Ａ）及び図４（Ｂ）を用いて説明する。露光装置１００は、照明モジュール、レチクルステージモジュール１２、投影レンズモジュール、ウエハステージモジュール２０、カウンタマスモジュール３８Ａ，３８Ｂ、ボディＢＤそれぞれが、露光装置１００の製造工場（以下、単に製造工場と称する）において個別に組立・調整された後、所定の出荷先（半導体の製造工場など。以下、単に出荷先と称する）にモジュールごとに出荷され、その複数のモジュール同士が出荷先でドッキングされることによって製造される。ここで、照明モジュールとは、光源及び照明光学系などを含む図１の照明系１０のモジュールであり、投影レンズモジュールとは、鏡筒４０及び投影光学系ＰＬを含む図１の投影ユニットＰＵのモジュールである。
【００４３】
《製造工場における組立・調整》
ステージモジュール２０の組み立ては、製造工場において、図４（Ａ）に示されるように、まずステップ２０２でステージモジュール２０（図１及び図２参照）を構成する各パーツの組み立てが行われる。具体的には、４つの浮上・昇降装置７２上にベース７０が搭載され、そのベース７０上に定盤７１が載置される。また、定盤上７１上には、ウエハステージＷＳＴ，及び計測ステージＭＳＴが載置され、そのウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴに固定子８０，８１がそれぞれ接続される。この後、ステップ２０４で、ステージモジュール２０は、例えば、製造工場に設置された不図示のボディ工具と称される装置に対してドッキングされる。ボディ工具とは図１に示されるボディＢＤと実質的に同じものである。
【００４４】
ボディ工具は、図１に示されるメトロロジフレームＭＦと実質的に同じ部材であるメトロロジフレーム工具（図示省略）を有している。そして、図３（Ａ）〜図３（Ｃ）に示される干渉計１６（Ｘ干渉計１６ｘ、Ｙ干渉計１６ｙ、Ｚ干渉計１６ｚ）、Ｙ干渉計１８、Ｚ参照鏡１７ｚなど、メトロロジフレームＭＦに取り付けられる部材に関して、メトロロジフレーム工具と実機のメトロロジフレームＭＦとは、互いに状態（取付位置、光軸の位置など）が同じとなるように精度良く調整されている（実際には、実機のボディＢＤがボディ工具と同じとなるように調整して出荷される。その調整方法については後述）。ただし、ボディ工具を用いてウエハＷに露光処理を行うことがないことから、ボディ工具には、例えば投影ユニットＰＵ、アライメント装置９０などの替わりに同じ重量を有するダミー工具が取り付けられても良い。
【００４５】
ボディ工具とステージモジュール２０のとのドッキング時における、ステージモジュール２０のボディ工具に対する位置合わせは、メトロロジフレーム工具に設けられた絶対基準面を基準として、その絶対基準面と、ステージモジュール２０の定盤７１に設けられたステージ位置基準面とが予め設定された所定の位置関係となるように行われる。
【００４６】
ボディ工具に対するドッキングが終了した後、ステージモジュール２０は、ステップ２０６で浮上・昇降装置７２により、ベース７０，及び定盤７１が＋Ｚ側に持ち上げられ、その定盤７１上で、Ｙ移動鏡１７ｙ、及びＸ移動鏡１７ｘがそれぞれＹ干渉計１６ｙ、Ｘ干渉計１６ｘから照射される測長ビームが当たる位置まで、ウエハステージ本体９１の下面に設けられた気体静圧軸受によりウエハステージＷＳＴが＋Ｚ側に持ち上げられる。この後、ウエハステージ本体９１を適宜Ｘ軸、及びＹ軸方向に移動させつつ、Ｙ干渉計１６ｙから照射される測長ビームがＹ移動鏡１７ｙに垂直に入射するようにＹ移動鏡の位置が調整され、同様にＸ干渉計１６ｘから照射される測長ビームがＸ移動鏡１７ｘに垂直に入射するようにＸ移動鏡１７ｘの位置が調整される。また、Ｙ干渉計１６ｙから照射される測長ビームがＺ移動鏡４１のＸＺ平面に平行な面に垂直に入射するようにＺ移動鏡４１の位置が調整される。また、Ｚ干渉計１６ｚから照射される測長ビームが、Ｚ移動鏡４１，Ｚ参照鏡１７ｚを介して同一光路上を通ってＺ干渉計１６ｚに戻ってくるようにＺ移動鏡４１の位置が調整される。
【００４７】
ウエハステージＷＳＴは、ステップ２０６での移動鏡の位置調整作業の終了後、ステップ２０８で、ウエハステージ本体９１が有する気体静圧軸受に対する加圧気体の供給が停止される。これにより、ウエハステージＷＳＴが下降して定盤７１上面に接触する。ウエハステージＷＳＴは、定盤７１上面に接触した状態で定盤７１（あるいはベース７０）に不図示の工具を用いて固定される。また、計測ステージＭＳＴも同様に、ステップ２０６で、Ｙ移動鏡１９ｙ、Ｘ移動鏡１９ｘの干渉計の測長軸に対する反射面の位置調整が行われた後、定盤７１上面に接触した状態で不図示の工具により固定される。
【００４８】
《出荷先での組立作業》
次いで、ステップ２１０でウエハステージＷＳＴ、及び計測ステージＭＳＴが固定されたステージモジュール２０は、製造工場から出荷先に出荷される。出荷先では、ステージモジュール２０と、その出荷先で既に組み上げられたボディＢＤとがドッキングされる。このドッキングは、ボディＢＤが有するメトロロジフレームＭＦの絶対基準面と、ステージモジュール２０が有する定盤７１のステージ位置基準面とが、製造工場における調整時（ステップ２０４参照）と同じ位置関係となるように行われる。また、ボディＢＤには、照明モジュール、レチクルステージモジュール１２、投影レンズモジュール、カウンタマスモジュール３８Ａ，３８Ｂなどがドッキングされる。
【００４９】
ここで、上述したように、ボディ工具が有するメトロロジフレーム工具と、出荷先に設置されたボディＢＤが有するメトロロジフレームＭＦとは、互いのＸ干渉計１６ｘ、Ｙ干渉計１６ｙ、Ｚ干渉計１６ｚ、Ｙ干渉計１８、Ｚ参照鏡１７ｚそれぞれの状態（取付位置、光軸など）が同じとなるよう精度良く調整されている。従って、メトロロジフレーム工具を用いてＸ移動鏡１７ｘ、１９ｘ、Ｙ移動鏡１７ｙ、１９ｘ、Ｚ移動鏡４１それぞれの位置調整が行われたステージモジュール２０をボディＢＤにドッキングさせると、自動的にメトロロジフレームＭＦに固定されたＸ干渉計１６ｘ、Ｙ干渉計１６ｙそれぞれから照射される測長ビームが、Ｘ移動鏡１７ｘ、１９ｘ、Ｙ移動鏡１７ｙ、１９ｙ、Ｚ移動鏡４１に垂直に入射するようになるとともに、Ｚ干渉計１６ｚから照射される測長ビームが、Ｚ移動鏡４１，Ｚ参照鏡１７ｚを介して同一光路上を通ってＺ干渉計１６ｚに戻ってくるようになる。これにより、ステージモジュール２０をボディＢＤにドッキングさせた後の干渉計に対する移動鏡の位置調整作業を省略することができ、出荷先における露光装置１００の組み立て作業時間を短縮することができる。また、例えばステージモジュール２０を交換する場合、新たなステージモジュール２０の移動鏡の位置調整（ステップ２０２〜２０８参照）を、ボディ工具を用いて予め製造工場で行っておくことにより、出荷先でのドッキング後の移動鏡の位置調整作業を省略できる。なお、製造工場における作業では、ボディ工具を用いず、実際に出荷先で用いられる予定のボディＢＤ（メトロロジフレームＭＦ）を用いて製造工場にてステージモジュール２０の移動鏡の位置調整を行っても良い。
【００５０】
次に、出荷先において予め組み立てられたボディＢＤのメトロロジフレームＭＦが有する干渉計１６、Ｙ干渉計１８、Ｚ参照鏡１７ｚなどの取付・調整手順について説明する。
【００５１】
《製造工場における組立・調整》
メトロロジフレームＭＦに対する干渉計１６、Ｙ干渉計１８、Ｚ参照鏡１７ｚなどの取り付けは、露光装置の製造工場において、ステージモジュール工具と称される部材を用いて行われる。ステージモジュール工具は、図１に示されるステージモジュール２０と実質的に同じものであり、ボディ工具を用いて移動鏡の位置がステップ２０２〜２０６（図４（Ａ）参照）と同様の手順で精度良く調整されている。
【００５２】
ボディＢＤの製造では、まずステップ３０２でベースフレーム３０、第１フレーム３２、メトロロジフレームＭＦなどが組み立てられる。この後、ステップ３０４で、そのボディＢＤが有するメトロロジフレームＭＦに干渉計１６，Ｙ干渉計１８、Ｚ参照鏡１７ｚなどが取り付けられる。次いで、ステップ３０６でボディＢＤにステージモジュール工具がドッキングされる。この際、ステップ２０４（図４（Ａ）参照）と同様に、メトロロジフレームＭＦの絶対基準面を基準としてステージモジュール工具の位置が精度良く調整される。
【００５３】
ステージモジュール工具をボディＢＤにドッキングさせた後、ステップ３０８で、そのステージモジュール工具が有するＸ移動鏡１７ｘ、１９ｘ、Ｙ移動鏡１７ｙ、１９ｙ、Ｚ移動鏡４１などを用いて、メトロロジフレームＭＦに取り付けられた干渉計の光軸調整、Ｚ参照鏡１７ｚの取り付け位置調整などが行われる。具体的には、測長ビームがＸ移動鏡１７ｘ、１９ｘ、Ｙ移動鏡１７ｙ、１９ｙ、Ｚ移動鏡４１に垂直に入射するようにＸ干渉計１６ｘ、Ｙ干渉計１６ｙそれぞれの取付位置及び光軸が調整されるとともに、Ｚ干渉計１６ｚから照射される測長ビームが、Ｚ移動鏡４１，Ｚ参照鏡１７ｚを介して同一光路上を通ってＺ干渉計１６ｚに戻ってくるようにＺ干渉計１７ｚの取付位置及び光軸、並びにＺ参照鏡１７ｚの取り付け位置が調整される。
【００５４】
《出荷先での組立作業》
この後、ステップ３１０でボディＢＤからステージモジュール工具が取り外された後、ボディＢＤが単体で出荷先に出荷され、その出荷先の床面上に設置される。また、出荷先においてボディＢＤの設置作業が行われるのと並行して、製造工場ではステージモジュール２０の組立・調整作業が前述したステップ２０２〜２０８の手順で行われ、ステップ２１０で出荷先に出荷される。そして、出荷先に設置されたボディＢＤと、ステージモジュール２０とがドッキングされる。すなわち、説明の順序が前後したが、本実施形態では、製造工場において組立・調整が行われたボディＢＤが先行して出荷先に出荷・設置され、その後に製造工場で組立・調整されたステージモジュール２０が出荷先に出荷され、ボディＢＤにドッキングされる。
【００５５】
ここで、ステージモジュール２０は、予め実質的にボディＢＤと同じ部材であるボディ工具を用いて移動鏡の調整が行われているので、ステージモジュール２０をボディＢＤにドッキングさせると、自動的にメトロロジフレームＭＦに固定されたＸ干渉計１６ｘ、Ｙ干渉計１６ｙ、Ｚ干渉計１６ｚそれぞれから照射される測長ビームが、Ｘ移動鏡１７ｘ、１９ｘ、Ｙ移動鏡１７ｙ、１９ｙ、Ｚ移動鏡４１に垂直に入射するようになるとともに、Ｚ干渉計１６ｚから照射される測長ビームが、Ｚ移動鏡４１，Ｚ参照鏡１７ｚを介して同一光路上を通ってＺ干渉計１６ｚに戻ってくるようになる。従って、ステージモジュール２０をボディＢＤにドッキングさせた後の干渉計の取付位置及び光軸調整作業を省略できる。これにより、出荷先における露光装置１００の組み立て作業時間を短縮することができる。なお、製造工場における作業では、ステージモジュール工具を用いず、実際に出荷先で用いられる予定のステージモジュール２０を用いて干渉計などの調整を行っても良い（ただし、ボディＢＤの組立完了時にステージモジュール２０の組立も完了している必要がある）。
【００５６】
なお、製造工場に設置されたボディ工具が有するメトロロジフレーム工具に取り付けられたＸ干渉計、Ｙ干渉計、Ｚ干渉計、Ｚ参照鏡（それぞれＸ干渉計１６ｘ、Ｙ干渉計１６ｙ、１８、Ｚ干渉計１６ｚ、Ｚ参照鏡１７ｚ（図３（Ａ）〜図３（Ｃ）参照）と同じ部材）それぞれの取り付け、及びその位置調整は、まずメトロロジフレーム工具に反射面の直交度、鉛直度などが精度良く調整された基準ミラー工具、及び予めミラー工具が取り付けられた干渉計、Ｙ干渉計がそれぞれ固定される。そして、Ｘ干渉計、Ｙ干渉計のミラー工具の反射面と基準ミラー工具の反射面との平行度をオートコリメータ装置などを用いて計測することにより、Ｘ干渉計、Ｙ干渉計の取付位置が決定される。次いで、干渉計、Ｙ干渉計から照射される測長ビームの光軸調整がプリズムなどを含む垂直出し工具、及び上記基準ミラー工具などを用いて行われる。また、Ｚ干渉計、Ｚ参照鏡の取付位置調整及び光軸調整がＺ移動鏡４１（図３（Ｃ）参照）と同様な構成を有するミラー工具を設置して行われる。
【００５７】
また、露光装置１００の製造工程では、最初にボディ工具が製造され、そのボディ工具を用いてステージモジュール工具が製造・調整がされる。そして、そのボディ工具を用いて実機のステージモジュール２０が量産されるととともに、そのステージモジュール工具を用いて実機のボディＢＤが量産される。すなわち、量産される複数のステージモジュール２０は、全てボディ工具を用いて移動鏡の調整が行われ、量産される複数のボディＢＤは、全てステージモジュール工具を用いて干渉計などの調整が行われる。従って、量産される複数のステージモジュール２０のうちのひとつと、量産される複数のボディＢＤのうちのひとつをドッキングさせる場合、どのような組み合わせであっても、干渉計システム（干渉計、移動鏡、参照鏡）に関して調整が不要となる。
【００５８】
以上説明したように、本実施形態の露光装置１００の製造方法では、実機のボディＢＤ及びステージモジュール２０と実質的に同じ部材であるボディ工具及びステージモジュール工具が用意され、そのボディ工具及びステージモジュール工具をドッキングさせて干渉計システムに関する調整が行われた後に、干渉計ステムに関して、ボディ工具を用いて実機のステージモジュール２０の調整が行われるとともに、ステージモジュール工具を用いて実機のボディＢＤの調整が行われる。従って、実機のボディＢＤ、及び実機のステージモジュール２０を製造工場でドッキングさせることなく、露光装置１００の光干渉計システムに関する調整作業を行うことができる。これにより、露光装置１００の組み立て作業時間を短縮することができる。また、出荷先におけるボディＢＤの設置と、製造工場におけるステージモジュール２０の調整を並行して行うことができるので、露光装置１００の組み立て作業時間を短縮することができる。
【００５９】
なお、本明細書において、露光装置１００の製造とは、出荷先（すなわち、実際の露光装置１００の使用場所）において、ウエハＷに露光処理を行うことができる程度の状態に露光装置１００を組み立てることを意味する。従って、上記実施形態では、ステージモジュール２０、及びボディＢＤをそれぞれ製造工場で製造・調整した後に出荷先に出荷し、その出荷先で組み立てることにより露光装置１００の製造を行ったが、露光装置１００の製造方法はこれに限られず、例えば露光装置１００を構成する個々の部材（例えばステージモジュール２０、ボディＢＤ）の製造工程を含まなくても良い。このため、例えばある場所に設置された露光装置１００を分解した後に製造工場に搬送し、その製造工場で調整を行った後に別の出荷先に出荷して、その別の出荷先で組立を行う際に、上記実施形態と同様な手順で露光装置の製造を行っても良い。
【００６０】
また、上記実施形態では、ウエハステージＷＳＴ，及び計測ステージＭＳＴがリニアモータにより定盤上で駆動される構成であったが、これにかぎらず、例えば米国特許第５，１９６，７４５号明細書などに開示されるローレンツ電磁力駆動方式の平面モータにより駆動されても良い。
【００６１】
また、例えば米国特許出願公開第２００５／０２５９２３４号明細書などに開示される液浸露光装置に、本発明を適用することも可能である。この場合、投影光学系ＰＬの最もウエハＷ側のレンズの出射面とウエハＷとの間に液体（例えば純水）を供給する供給ノズル、及びその液体を回収する回収ノズルを有するノズルユニットがメトロロジフレームＭＦに吊り下げ状態で固定される。また、ウエハテーブルＷＴＢには、ウエハホルダＷＨの周囲を囲み、その表面のＺ位置がウエハＷの表面と同じとなるように設定された撥水プレートが固定される。
【００６２】
また、上記実施形態の光干渉計システムと併用して、例えば米国特許出願公開第２００９／０２３３２３４号明細書などに開示されるようなエンコーダシステムを用いてウエハステージＷＳＴの位置情報を求めても良い。この場合、光干渉計システム、及びエンコーダシステムの一方が故障しても、他方によりウエハステージＷＳＴの位置情報を求めることができるので信頼性が向上する。この場合、ウエハテーブルＷＴＢの上面にＸ軸、及びＹ軸方向を周期方向とするスケール（あるいは二次元スケール）が固定され、メトロロジフレームＭＦの下面に固定されたエンコーダヘッドにより、ウエハステージＷＳＴの位置情報が求められる。
【００６３】
また、上記実施形態では、スキャニング・ステッパに本発明が適用された場合について説明したが、これに限らず、ステッパなどの静止型露光装置に本発明を適用しても良い。ステッパなどであっても、露光対象の物体が搭載されたステージの位置を光干渉計システムを用いて高精度に位置決めすることが可能になり、高精度なレチクルパターンの物体上への転写が可能になる。また、ショット領域とショット領域とを合成するステップ・アンド・スティッチ方式の縮小投影露光装置にも本発明は適用することができる。さらに、例えば米国特許第６，６１１，３１６号明細書に開示されているように、２つのレチクルパターンを、投影光学系を介してウエハ上で合成し、１回のスキャン露光によってウエハ上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置の製造方法にも本発明を適用することができる。
【００６４】
また、上記実施形態の露光装置における投影光学系は縮小系のみならず等倍及び拡大系のいずれでも良いし、投影光学系ＰＬは屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、この投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。
【００６５】
また、照明光ＩＬは、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）に限らず、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光や、Ｆ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光であっても良い。例えば米国特許第７,０２３,６１０号明細書に開示されているように、真空紫外光としてＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。
【００６６】
また、上記実施形態では、露光装置の照明光ＩＬとしては波長１００ｎｍ以上の光に限らず、波長１００ｎｍ未満の光を用いても良いことはいうまでもない。例えば、軟Ｘ線領域（例えば５〜１５ｎｍの波長域）のＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）光を用いるＥＵＶ露光装置に本発明を適用することができる。その他、電子線又はイオンビームなどの荷電粒子線を用いる露光装置にも、本発明は適用できる。
【００６７】
また、上記実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスク（レチクル）を用いたが、このレチクルに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれ、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）などを含む）を用いても良い。かかる可変成形マスクを用いる場合には、ウエハ又はガラスプレート等が搭載されるステージが、可変成形マスクに対して走査されるので、このステージの位置情報を光干渉計システムを用いて計測することで、上記実施形態と同等の効果を得ることができる。
【００６８】
なお、上記実施形態でパターンを形成すべき物体（エネルギビームが照射される露光対象の物体）はウエハに限られるものでなく、ガラスプレート、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど他の物体でも良い。
【００６９】
露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置や、有機ＥＬ、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。
【産業上の利用可能性】
【００７０】
以上説明したように、本発明の露光装置の製造方法は、所定の二次元平面に沿って移動する移動体の位置情報を光干渉計を用いて求める露光装置を製造するのに適している。
【符号の説明】
【００７１】
１６ｘ…Ｘ干渉計、１６ｙ…Ｙ干渉計、１６ｚ…Ｚ干渉計、１７ｚ…Ｚ参照鏡、１８…Ｙ干渉計、４１…Ｚ移動鏡、２０…ステージモジュール、１００…露光装置、ＢＤ…ボディ、ＭＦ…メトロロジフレーム、ＭＳＴ…計測ステージ、Ｗ…ウエハ、ＷＳＴ…ウエハステージ。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも所定の二次元平面に沿って移動可能な移動体を含む移動体装置と、前記移動体に設けられた反射面を用いて前記移動体の少なくとも前記二次元平面内の位置情報を求める光干渉計を有する装置本体と、を含み、感応物体を露光する露光装置の製造方法であって、
複数の前記装置本体を用意することと；
前記複数の装置本体のうちの一の装置本体と前記移動体装置とを組み合わせ、前記一の装置本体が有する前記光干渉計を用いて前記移動体の前記反射面を調整することと；
前記反射面の調整がされた前記移動体を有する前記移動体装置と前記一の装置本体とを分離することと；
前記複数の装置本体が有する前記光干渉計を互いに実質的に同じ状態となるように調整することと；
前記反射面の調整がされた前記移動体装置を、前記複数の装置本体のうちの他の装置本体と組み合わせることと；を含む露光装置の製造方法。
【請求項２】
前記複数の装置本体の調整では、前記一方の装置本体が有する前記光干渉計を基準にして前記他方の装置本体が有する前記光干渉計を調整する請求項１に記載の露光装置の製造方法。
【請求項３】
前記複数の装置本体が有する前記光干渉計の調整を共通の工具を用いて行う請求項１又は２に記載の露光装置の製造方法。
【請求項４】
前記共通の工具は、前記反射面に関して前記移動体と同じ構成を有する請求項３に記載の露光装置の製造方法。
【請求項５】
前記反射面の調整は、前記光干渉計から照射される光線が前記反射面に垂直に入射するように行われる請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項６】
少なくとも所定の二次元平面に沿って移動可能な移動体を含む移動体装置と、前記移動体に設けられた反射面を用いて前記移動体の少なくとも前記二次元平面内の位置情報を求める光干渉計を有する装置本体と、を含み、感応物体を露光する露光装置の製造方法であって、
複数の前記移動体装置を用意することと；
前記複数の移動体装置のうちの一の移動体装置と前記装置本体とを組み合わせ、前記一の移動体装置が有する前記移動体の前記反射面を用いて前記装置本体の前記光干渉計を調整することと；
前記光干渉計の調整がされた前記装置本体と前記一の移動体装置とを分離することと；
前記複数の移動体装置の前記移動体に設けられた前記反射面を互いに実質的に同じ状態となるように調整することと；
前記光干渉計の調整がされた前記装置本体を、前記複数の装置本体のうちの他の移動体装置と組み合わせることと；を含む露光装置の製造方法。
【請求項７】
前記複数の移動体装置の前記反射面の調整では、前記一方の移動体装置が有する前記移動体の前記反射面を基準にして前記他方の移動体装置が有する前記移動体の前記反射面を調整する請求項６に記載の露光装置の製造方法。
【請求項８】
前記複数の移動体装置が有する前記移動体の前記反射面の調整を共通の工具を用いて行う請求項６又は７に記載の露光装置の製造方法。
【請求項９】
前記共通の工具は、前記光干渉計に関して前記装置本体と同じ構成を有する請求項８に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１０】
前記光干渉計の調整は、前記光干渉計から照射される光線が前記反射面に垂直に入射するように行われる請求項６〜９のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１】
少なくとも所定の二次元平面に沿って移動可能な移動体を含む移動体装置と、前記移動体に設けられた反射面を用いて前記移動体の少なくとも前記二次元平面内の位置情報を求める光干渉計を有する装置本体と、を含み、感応物体を露光する露光装置の製造方法であって、
複数の前記装置本体を用意することと；
前記複数の装置本体のうちの一の装置本体と前記移動体装置とを組み合わせ、前記一の装置本体が有する前記光干渉計を用いて前記移動体の前記反射面を調整することと；
前記反射面の調整がされた前記移動体を有する前記移動体装置と前記一の装置本体とを分離することと；
前記複数の装置本体が有する前記光干渉計を互いに実質的に同じ状態となるように調整することと；
前記反射面の調整がされた前記移動体装置を、前記複数の装置本体のうちの他の装置本体と組み合わせることと；を含む露光装置の製造方法。
【請求項２】
前記複数の装置本体の調整では、前記一方の装置本体が有する前記光干渉計を基準にして前記他方の装置本体が有する前記光干渉計を調整する請求項１に記載の露光装置の製造方法。
【請求項３】
前記複数の装置本体が有する前記光干渉計の調整を共通の工具を用いて行う請求項１又は２に記載の露光装置の製造方法。
【請求項４】
前記共通の工具は、前記反射面に関して前記移動体と同じ構成を有する請求項３に記載の露光装置の製造方法。
【請求項５】
前記反射面の調整は、前記光干渉計から照射される光線が前記反射面に垂直に入射するように行われる請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項６】
少なくとも所定の二次元平面に沿って移動可能な移動体を含む移動体装置と、前記移動体に設けられた反射面を用いて前記移動体の少なくとも前記二次元平面内の位置情報を求める光干渉計を有する装置本体と、を含み、感応物体を露光する露光装置の製造方法であって、
複数の前記移動体装置を用意することと；
前記複数の移動体装置のうちの一の移動体装置と前記装置本体とを組み合わせ、前記一の移動体装置が有する前記移動体の前記反射面を用いて前記装置本体の前記光干渉計を調整することと；
前記光干渉計の調整がされた前記装置本体と前記一の移動体装置とを分離することと；
前記複数の移動体装置の前記移動体に設けられた前記反射面を互いに実質的に同じ状態となるように調整することと；
前記光干渉計の調整がされた前記装置本体を、前記複数の装置本体のうちの他の移動体装置と組み合わせることと；を含む露光装置の製造方法。
【請求項７】
前記複数の移動体装置の前記反射面の調整では、前記一方の移動体装置が有する前記移動体の前記反射面を基準にして前記他方の移動体装置が有する前記移動体の前記反射面を調整する請求項６に記載の露光装置の製造方法。
【請求項８】
前記複数の移動体装置が有する前記移動体の前記反射面の調整を共通の工具を用いて行う請求項６又は７に記載の露光装置の製造方法。
【請求項９】
前記共通の工具は、前記光干渉計に関して前記装置本体と同じ構成を有する請求項８に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１０】
前記光干渉計の調整は、前記光干渉計から照射される光線が前記反射面に垂直に入射するように行われる請求項６〜９のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１１−１６５９９１（Ｐ２０１１−１６５９９１Ａ）
【公開日】平成２３年８月２５日（２０１１．８．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２８４０３（Ｐ２０１０−２８４０３）
【出願日】平成２２年２月１２日（２０１０．２．１２）
【出願人】（０００００４１１２）株式会社ニコン (12,601)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年８月２５日（２０１１．８．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年２月１２日（２０１０．２．１２）
【出願人】（０００００４１１２）株式会社ニコン (12,601)
【Ｆターム（参考）】
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