【課題】
本発明は、露光不良を抑制できるステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】
マスクステージ１は、第１保持部４と、第２保持部６とを備える。マスクＭをマスクステージ１に保持した状態において、マスクＭの裏面Ｍｂと第１保持部４で形成される第１空間Ｓ１の圧力と、マスクＭの裏面Ｍｂと第２保持部６で形成される第２空間Ｓ２の圧力とが異なる。 （もっと読む）

【課題】エンコーダ等の位置計測装置を使用した基板ステージの位置決めを行う際に、スケールの形状に依存する誤差を最小限に抑える露光装置を提供する。
【解決手段】基板５を保持する基板ステージ６と、該基板ステージ６の位置を計測する光学式計測部７と、該光学式計測部７からの計測光の反射対象となるスケール８とを備える露光装置５０であって、基板ステージ６が設置された空間内を温度調節するための温調エアを供給する供給系と排気する排気系を有し、供給系は、基板ステージの走査部周辺に温調エアを供給する第１の供給系１１、排気系１４と、スケール８の設置部周辺に温調エアを供給する第２の供給系１３、排気系１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】 磁石とコイルとの間のギャップが従来と同等であっても、リニアモータから周囲空間への漏れ熱量をより抑制することが可能なリニアモータを提供することを目的とする。言い換えれば、リニアモータからの周囲空間への漏れ熱量を従来と同程度抑制できながら、磁石とコイルとの間のギャップをより小さくでき、駆動効率を従来よりも向上させることが可能なリニアモータを提供することを目的とする。
【解決手段】 磁石を含む第１部材と前記磁石の側から順に断熱部材とコイルと前記コイルを冷却する第１冷却手段とが配置された第２部材とを有し、前記コイルに電流が流れることにより前記第１部材と前記第２部材とが相対的に移動するリニアモータであって、前記第２部材は、前記磁石と前記断熱部材との間に第２冷却手段を有する。 （もっと読む）

【課題】マスクベンド板を使用せずにマスクの自重による撓みを低減することができると共に、スループットを低下させず、また、精度の悪化を招くことがない露光装置を提供する。
【解決手段】原版２１を保持及び走査する原版ステージ２０を有する露光装置であって、原版ステージ２０は、原版２１を吸着保持するためのバキューム機構２５と、原版２１のパターン面の裏面と接触する接触面を有する原版ステージベース２４とを備え、原版ステージベース２４は、原版２１が吸着され接触面に密着されることで、原版２１の形状を補正する。 （もっと読む）

【課題】同一の被露光体に対する複数種の露光パターンの形成効率を向上する。
【解決手段】被露光体８を矢印Ａ方向に搬送しながら、フォトマスク１１の第１のマスクパターン群１２を使用して行う被露光体８の第１の露光領域９に対する露光が終了すると、シャッタ５を被露光体８の搬送速度に同期して移動して光源光を遮断し、被露光体８がシャッタ５の移動中に移動した距離だけ被露光体８を矢印Ｄ方向に戻すと共に、フォトマスク１１を移動して第２のマスクパターン群１３に切り替え、フォトマスク１１のマスクパターン群の切り替えが終了すると、被露光体８の矢印Ａ方向への搬送を再開するのと同時に、シャッタ５を被露光体８の搬送速度に同期して矢印Ｂ方向に移動して光源光の遮断を解除し、第２の露光領域１０に対する露光を実行する。 （もっと読む）

【課題】
精度の高い位置決めを効率よく行う駆動装置を提供する。
【解決手段】
非圧縮性液体を充鎮させた膜構造のダイヤフラム構造体（１２０）と、前記ダイヤフラム構造体（１２０）に前記非圧縮性液体を送り込むピストン機構（１２１，１２２）と、を備え、物体を駆動する駆動装置において、前記ピストン機構（１２１，１２２）は異なる断面積を有する複数のピストンを有する、ことを特徴とする駆動装置。 （もっと読む）

【課題】
静圧軸受手段が走査する定盤案内面の面精度を高め、渦電流をさらに低減する定盤の構成により、露光装置を高速化し、転写精度を向上するステージ装置を提供する。
【解決手段】
定盤と、該定盤面に沿って移動するステージと、該ステージを駆動する駆動手段と、前記ステージと前記定盤面との間を非接触に保つための静圧軸受手段と、前記定盤面の所定部位に対向するように前記ステージに保持された磁気手段と、を有するステージ装置において、前記磁気手段が対向する前記定盤の所定部位に磁性体を配置すると共に前記静圧軸受手段が対向する前記磁性体の表面に非磁性体を被覆したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
基台とステージの積み重ね方向における厚みを薄くして小型化を図ることが可能なチルトステージを提供する。
【解決手段】
第一プレートと、この第一プレート上に設けられた第一、第二及び第三の支持ユニットと、これら支持ユニットによって傾動自在に支持された第二プレートとから構成されており、前記三基の支持ユニットは第一プレート上の仮想点の周囲に配置され、各支持ユニットは、前記仮想点を通過する前記第一プレートの法線に対して放射状に設けられると共に当該法線に対して所定角度で傾斜した方向に沿って案内経路を有する第一案内手段と、この第一案内手段に案内されると共に当該第一案内手段の案内方向と直交する方向に沿って案内経路を有する第二案内手段と、この第二案内手段に案内されると共に当該第二案内手段に対して前記第二プレートを傾動自在に連結する球面軸受とから構成されている。 （もっと読む）

【課題】圧力の変動を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】所定面上を少なくとも一方向に沿って移動可能な移動体と、移動体の移動により生じた圧力変動を小さくするように加圧空気を噴射する圧力調整装置と、を備える露光装置である。 （もっと読む）

【課題】
スループットの低下を抑制しつつレチクルの面形状を高精度に計測可能な露光装置を提供する。
【解決手段】
レチクルＲの表面の位置を複数箇所で計測することによってレチクルＲの面形状を計測するレチクル面位置計測器ＲＯを備える露光装置１００であって、複数のレチクルＲを識別するための識別情報と、レチクル面位置計測器ＲＯの非計測箇所に関する情報とを関連づけて記憶する記憶手段（主制御部１２）と、露光されるレチクル１２に関する識別情報を取得するコンソール１４とを備え、レチクル面位置計測器ＲＯは、コンソール１４によって取得された識別情報に対応する非計測箇所を除いた箇所でレチクルＲの表面の位置を計測する。 （もっと読む）

【課題】位置決め装置における外乱力による位置決め誤差を小さくする。
【解決手段】位置決め装置は、第１物体と、第２物体と、第１物体及び第２物体を互いに位置決めする位置決めシステムと、第１物体と第２物体とを接続する柔軟輸送ラインと、を含む。柔軟輸送ラインは、該ラインに沿って変化する剛性を有し、該輸送ラインは力学的な伝達関数による表現が可能であり、該伝達関数は位置決めシステムの閉ループ伝達関数に適合されている。 （もっと読む）

【課題】内部に冷媒を流通させても、冷媒の圧力によって変形や漏洩の発生が無い、軽量な冷却管を提供すること。
【解決手段】ピッチ系炭素繊維で補強された炭素繊維強化プラスチックを、板状冷却管の外表面に配し、内側にポリアクリロニトリル系炭素繊維で補強された炭素繊維強化プラスチックを組み合わせて、冷媒流通路を形成する管体を備えた板状冷却管である。 （もっと読む）

【課題】描画装置又は検査装置等において用いられるステージ上の異物を確実に低減するステージクリーナを提供することを課題とする。
【解決手段】ステージクリーナの、貫通孔１１を有するプレート１２とステージ１０との間に気体を送風することにより、プレート１２とステージ１０とのギャップを一定に保ち、その状態でプレート１２を移動させることによりプレート１２の端部でステージ１０上の異物１３を除去することを特徴とする。このステージクリーナは例えば描画装置等に設置して使用することができる。 （もっと読む）

【課題】マスクの帯電の程度をより確実に低減する露光装置を提供する。
【解決手段】本発明の露光装置は、印加される電圧に応じて原版を保持する保持手段を有し、前記保持手段に保持された原版を介して基板を露光する露光装置であって、前記保持手段に対して前記原版を昇降させる昇降手段と、前記保持手段および前記昇降手段の少なくとも一方に設けられ、前記原版の少なくとも一部を接地する接地手段と、前記原版が接地されたことを検出する検出手段と、前記検出手段の出力に応じて前記保持手段に印加される電圧を制御する制御手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】
エアベアリング部の機構の大型化を抑えることが可能で高精度なステージ装置を提供する。
【解決手段】
ステージ装置１００は、基準面内のＸ方向及びＸ方向と直交するＹ方向にステージ８を駆動するステージ装置であって、ステージ８をＸ方向に駆動するリニアモータ１２と、ステージ８をＸ方向及びＹ方向に駆動するリニアモータ９と、Ｙ方向に延びて、リニアモータ１２がＸ方向に移動するのを規制するヨーガイド３と、ヨーガイド３に向けて気体を噴出することにより、ヨーガイド３に対してＸ方向に所定の距離だけ離れて設けられたヨースライダ６と、ステージ８の移動に伴いヨースライダ６に対してＸ方向に所定の力が発生した場合、この所定の力を相殺するようにリニアモータ９を制御する制御手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】ステージ制御により生じる機械振動成分を除去することなく、レーザ干渉計の測定信号に含まれる非線形誤差成分を最大限除去することが可能な荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】試料が載置されるステージの位置の測定にレーザ干渉計を用いる。レーザ干渉計の測定信号に含まれる非線形誤差成分を除去するフィルタ部のカットオフ周波数を、ステージの加速度のデジタル制御の周期Ｔａの逆数（１／Ｔａ）に設定する。 （もっと読む）

【課題】ウエハに対してマスクを高精度に位置合せした上で、一度の露光でウエハの両面にパターンを同時露光すること。
【解決手段】互いに対向して配置されると共に、パターンＰが予め描画されたマスクＭ１、Ｍ２がそれぞれ装着される第１マスク装着部３及び第２マスク装着部２と、両マスクの間に挟まれるように配置されたウエハＳに対して両マスクを通して光を照射して、ウエハの両面にパターンを露光させる露光手段１４と、を備え、両マスク装着部は、それぞれに装着されたマスクが互いに平行に配置される構成とされた装置であって、両マスク装着部のうち少なくとも一方のマスク装着部には、前記一方のマスク装着部に装着された一方のマスク上の所定位置に配置されたウエハを、前記一方のマスクに形成された貫通孔Ｍ１ａを通して吸着しうる吸着手段３４が備えられているウエハ露光装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】外乱の発生を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】物体Ｐを保持して移動する移動体２ａを有する。負圧吸引により移動体に物体を吸着保持させる吸引装置８４と、移動体に温度調整された気体を供給して吸引装置に保持された物体を温度調整可能な温度調整装置ＣＣと、を備える。 （もっと読む）

【課題】液浸領域を形成するための液体の飛散を抑え、液体の供給、回収用の配管類で基板ステージの移動を妨げずに所望のパターン精度で基板を露光処理できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、パターンの像を投影光学系ＰＬを介して基板Ｐ上に投影し、この基板Ｐを露光するものであって、投影光学系ＰＬの上方で基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージＰＳＴと、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間の少なくとも一部を液体３０で満たす液浸ユニット１００とを備え、投影光学系ＰＬと液体３０とを介してパターンの像を基板Ｐ上に投影する。 （もっと読む）

【課題】露光不良を抑制できるマスク、ステージ装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】マスクステージ１のマスク保持部３は、第１保持部材８と、第２保持部材９とを備える。第１保持部材８の熱膨張率と第２保持部材９の熱膨張率とは、異なる。第１保持部材８の熱膨張率と第２保持部材９の熱膨張率の差により、マスクＭを変形させる。 （もっと読む）