【課題】スキャニング露光プロセスの間にパターンジェネレータの位置を制御する、ステージシステムに対するパターンジェネレータの滑りを実質的に低減又は排除するために使用されることができるシステム及び方法を提供する。
【解決手段】マスク保持装置３３０に結合された第１のパターン付マスク保持システム３３２が、マスクをマスク保持装置に解放可能に結合するようになっており、前記マスク保持装置に結合された第２のマスク保持システム３３４が、マスクをマスク保持装置に解放可能に結合するために、第１のマスク保持システムと同時に動作するようになっており、露光動作のスキャニング部分の間にパターン付マスク保持装置とマスクとを移動させる、マスク保持装置に結合された移動装置が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 温度調節手段を供給対象毎に設けなくても安定した温度の流体を複数の供給対象に供給可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 本発明の露光装置は、流体によって供給対象の排熱および温度調節を行うものであって、流体を供給する供給手段と前記供給手段からの流体を複数の流路に分岐する分岐手段と前記分岐手段によって複数の流路に分岐された流体が供給される複数の供給対象と前記複数の供給対象に供給される流体の温度を調節する温度調節手段と前記供給対象に供給される流体の流量を調整する複数の流量調整手段と前記温度調節手段と前記複数の流量調整手段との間の流体の温度を検出する温度検出手段とを備え、前記温度調節手段は前記供給手段と前記分岐手段との間に配置され前記温度検出手段の検出結果に基づき前記複数の供給対象に供給される流体の温度を調節し、前記供給対象は前記分岐手段と前記流量調整手段との間に配置されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アクチュエータコイルの内層から効果的に熱を排出する。
【解決手段】アクチュエータコイルの内層からそのコイルの外部へと効果的に熱を排出するために、アクチュエータコイル近傍に配置された伝熱素子が使用される。一実施例においては、アクチュエータコイルの伝熱装置は、アクチュエータコイルの１つまたは複数の層または１つまたは複数の巻線の近傍に配置された１つまたは複数の伝熱素子と、伝熱素子及びアクチュエータコイルの近傍に配置された冷却表面と、を備える。この構成において伝熱装置は、アクチュエータコイルの内層から冷却表面へと熱を移送し、更にはアクチュエータコイルの外部領域へと熱を移送する。 （もっと読む）

【課題】露光不良を抑制できる露光方法、デバイスの製造方法及び露光装置を提供すること。
【解決手段】保持部材に保持された基板を用いて露光処理を行う露光方法であって、前記基板に所定の保持力を作用させて該基板を前記保持部材で保持させる保持工程と、保持された前記基板の変形に関する情報に応じて、前記基板に作用する前記保持力を解除する解除工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光フィールド毎にレチクルステージおよびウェハステージの方向を変える必要なしに、基板の幅にわたって高解像度のパターンを生成することができるシステムを提供する。
【解決手段】パターンを基板に書き込むためのシステムおよび方法が提供される。パターン形成された放射ビームがレチクルを使用して生成され、パターンを露光するために基板に投影される。パターンが走査方向において基板の全幅にわたって露光されうるように、レチクルおよび基板のそれぞれの走査速度が制御される。一方で、ウェハのスループットが実質的に増大する。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとを高精度且つ高速に同期移動させること。
【解決手段】プレートステージＰＳＴの位置を制御するフィードフォワード制御部１０２及びフィードバック制御部１０３からなる第１の２自由度制御系１００と、マスクステージＭＳＴの位置を制御するフィードフォワード制御部２０２及びフィードバック制御部２０３からなる第２の２自由度制御系２００と、を備え、第２の２自由度制御系２００は、プレートステージＰＳＴの位置に基づいて制御を行い、フィードフォワード制御部１０２及び２０２は、完全追従制御を行う。 （もっと読む）

【課題】特定のエリアでは高い位置決め精度を確保しつつ、全体として比較的安価な位置決め装置を提供する。
【解決手段】 位置制御されるスライダ１と、このスライダ１と対向する面に磁極の歯が形成されてスライダ１と平面モータを構成するプラテン１０とを備えた位置決め装置において、
スライダ１の位置を検出するレゾルバ３０ａ〜３０ｃ（以下レゾルバ３０とする。）と、
プラテン１０の特定のエリアＡにおけるスライダ１の位置をレゾルバ３０よりも高い精度で検出するレーザ干渉計２０ａ，２０ｂ（以下レーザ干渉計２０とする。）と、
スライダ１の位置に応じてレゾルバ３０またはレーザ干渉計２０のいずれかの位置検出装置を選択する切替スイッチ１００ｃと、
位置指令値および切替スイッチ１００ｃで選択された位置検出装置で検出される位置検出値に基づいてスライダ１の位置制御を実行する位置制御部１０２と、
を備えたことを特徴とする位置決め装置。 （もっと読む）

【課題】簡便な構成で、ステージの移動に対して配管を十分に追従させるとともに配管の変形を低減させることができるようにした、配管構造及びステージ装置を提供する。
【解決手段】面方向に移動可能な平面状のステージ１Ａと、ステージ１Ａ上に設置されるステージ設置部品３ＸＡ，３ＹＡ，７と有するものにおいて、ステージ設置部品３ＸＡ，３ＹＡ，７に接続される配管４，６，７，９の構造であって、ステージ設置部品３ＸＡ，３ＹＡ，７の移動に追従しうる余長を有する曲げ変形可能な部材によって形成される配管４，６，７，９と、断面の長手方向がステージと垂直な方向となるように配管に沿って設けられる可撓性を有する帯状の補強部材と、を有して構成する。 （もっと読む）

【課題】資源効率が高いアクチュエータ装置を提供する。
【解決手段】作動流体の圧力により発生した駆動力で動作する流体アクチュエータと、流体アクチュエータから排出された作動流体を媒体として発熱体の熱を吸収する熱交換部と、温度調節部から流体アクチュエータへ作動流体を還流させる作動流体流路とを備える。発熱体は、例えば、電磁気力により発生した駆動力で動作する電磁アクチュエータである。作動流体は、空気またはフッ素化合物の液体であり得る。作動流体の温度を所与の設定温度範囲に調節する温度調節器を更に備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】 フォト工程設備の稼働率の低下と作業者の工数増加を防止可能な半導体製造工程管理システムを提供する。
【解決手段】 ホストコンピュータ２とセルコンピュータ３ａと搬送管理コンピュータ４を備え、ホストコンピュータ２の制御情報生成手段１０が、記憶手段９に記憶されたロット情報データと装置情報データに基づいて、ロット選択を行い、当該ロットのロット情報データの処理条件データと、レチクル情報データのレチクル現在位置データとレチクル状態データを照合して、受入可能な装置の装置情報データを抽出し、最適な装置選択を行い、制御情報データを生成し、セルコンピュータ３ａに送信し、セルコンピュータ３ａのレチクルゴミ検査制御手段１４が、制御情報データの選択された装置名とレチクル名からレチクルゴミ検査指示データを生成し、フォト工程設備５ａへロットが搬入される前に、フォト工程設備５ａにレチクルゴミ検査の指示を行う。 （もっと読む）

【課題】構造体の位置や姿勢の制御を高精度に行うことが可能な防振装置、ステージ装置及び露光装置を提供すること。
【解決手段】構造体を支持して防振する防振装置であって、前記構造体の位置及び姿勢のうち少なくとも一方を補正する第１アクチュエータと、前記構造体の弾性変形を補正する第２アクチュエータとを備える。 （もっと読む）

【課題】 光学部材の変動の影響を抑制して被検面の面位置を高精度に検出する。
【解決手段】 面位置検出装置は、第１パターンからの第１の光と第２パターンからの第２の光とを被検面（Ｗａ）へ入射させて、被検面に対して第１パターンの中間像および第２パターンの中間像を投射する送光光学系（４〜１０）と、被検面で反射された第１の光および第２の光をそれぞれ第１観測面（２３Ａａ）および第２観測面（２３Ｂａ）へ導いて、第１パターンの観測像および第２パターンの観測像を形成する受光光学系（３０〜２４）と、第１観測面および第２観測面における第１パターンの観測像および第２パターンの観測像の各位置情報を検出し、各位置情報に基づいて被検面の面位置を算出する検出部（２３〜２１，ＰＲ）とを備えている。送光光学系は、例えば第２パターンの中間像を第１パターンの中間像に対して所定方向に反転された像として投射する。 （もっと読む）

【課題】露光対象の基板上の種々の配列の複数のパターン転写領域に効率的にパターンを露光する。
【解決手段】マスクＭＡ，ＭＢのパターンを介してプレートＰＴを露光する露光装置において、マスクＭＡ，ＭＢのパターンの像をプレートＰＴ上の複数のパターン転写領域に投影する複数の投影光学系ＰＬＡ，ＰＬＢと、マスクＭＡ，ＭＢ及びプレートＰＴを走査方向に同期して移動するステージ系と、複数のパターン転写領域の配置に応じて、投影光学系ＰＬＡ，ＰＬＢの非走査方向の間隔を制御する光学系ステージ３６Ａ，３６Ｂとを備える。 （もっと読む）

【課題】 リニアモータの制動力を外部から制御することが可能なリニアモータ用ブレーキ回路を提供する。
【解決手段】 リニアモータの負荷１に並列に接続された３相全波整流回路２０と、この整流回路２０に直列に接続された、モータの負荷１から出力される電流を制限する電流制限抵抗Ｒａ及び電流制限抵抗Ｒａと直列に接続された定電流回路２１とを有し、定電流回路２１は、駆動用トランジスタＭとそのゲート電圧を制御するオペアンプＯＰとその反転入力端子に接続された基準抵抗Ｒｓと、発振を防止する位相補償回路を有する。駆動用トランジスタＭとしては、ｎチャンネル型パワーＭＯＳＦＥＴを使用することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 改良された複合材料、当該複合材料を備えるリソグラフィ装置、及び複合材料を製造する方法を提供する。
【解決手段】 リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、パターンニングデバイスを支持するように構成された支持体とを含む。パターニングデバイスは、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができる。リソグラフィ装置は、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとをさらに含む。リソグラフィ装置は、カーボンファイバ層１１とチタン層１５とがその内部に提供される複合材料を備えることができる。 （もっと読む）

【課題】
位置合わせ計測を行う際に原版ステージと基板ステージの各々の微視的な変動を軽減させ、高精度な位置合わせを行う露光装置を提供する。
【解決手段】
原版を保持して移動される原版ステージと、前記基板を保持して移動される基板ステージと、前記原版ステージに配置された原版マークと前記投影光学系により投影された前記基板ステージに配置された前記基板マークとの撮像を行って前記原版マークの像と前記基板マークの像との相対位置を検出する検出手段と、前記原版ステージの動作と前記基板ステージの動作と前記検出手段の動作とを制御する制御手段と、を有し、前記制御手段は、前記検出手段に前記撮像を行わせている間、前記原版ステージおよび前記基板ステージの一方の位置偏差に基づいて前記原版ステージおよび前記基板ステージの他方を前記一方に追従させる。 （もっと読む）

【課題】露光のスループットが向上した露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置（１０）は、光学系（１８)、マスクステージ装置（２２)、基板ステージ装置（２４)、及び制御システム（２８)を備える。基板（１４）は、互いに隣接し且つ第１軸に沿って互いに並ぶ第１領域と第２領域とを有する。光学系（１８）は、マスク（１２)を照射する照射ビーム（３５）を生成する。マスクステージ装置（２２）は、照射ビーム（３５）に対して、マスク（１２）を保持し且つ位置付ける。基板ステージ装置（２４）は基板（１４)を保持し且つ位置付ける。制御システム（２８）は、光学系（１８）と基板ステージ装置（２４）とを制御して、基板ステージ装置（２４）が第１軸に沿う第１マスク方向に基板（２４）を移動させる期間中に、マスクパターンが第１領域と第２領域とに順次的に転写される。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置のステージ位置を較正する較正方法提供する。
【解決手段】概ね第一方向に延在する少なくとも１本の線によって形成された延在パターンの特性を検出する検出方法。延在パターンは、基板Ｗ又は基板テーブルＷＴ上に形成され、好ましくは線の幅の少なくとも５０倍の長さにわたって延在する。延在パターンは焦点感応性である。検出方法は、基板テーブルＷＴを第一方向に移動させ、その第一方向に沿って延在パターンの特性を測定することを含む。特性は、第一方向に対して直角の第二方向における延在パターンの物理的特性の結果であることがある。次のステップでは、延在パターンの測定位置から基板テーブル位置の較正を導出することができる。 （もっと読む）

【課題】
フィゾー型干渉計の測定系で発生する波面収差の変化を抑制し、投影光学系の波面収差の計測精度の劣化を防止する露光装置を提供する。
【解決手段】
原版ステージに搭載され参照光を形成するフィゾー面を有する対物レンズ前群、前記対物レンズ前群より上流に位置する対物レンズ後群および基板ステージに搭載され被検光を形成する反射ミラーから成るフィゾー型干渉計と、原版ステージに構成される原版基準板のマークおよび基板ステージに構成される基板基準板のマークを投影光学系を介して同時に観察し、原版ステージと基板ステージの相対位置を計測し、原版基準板のマークより上流に位置する第３の対物レンズ群を有するＴＴＲ方式検出系と、を有し、投影光学系を介して原版のパターンを基板に投影露光する露光装置において、対物レンズ後群と、第３の対物レンズ群とが、原版ステージとは別に構成される同一の駆動テーブルに配置されている。 （もっと読む）

【課題】ステージの目的位置で停止させた後に生じる位置変動（ドリフト）を正確に検出できるようにする。
【解決手段】 固定体に対して相対移動可能なステージの位置変動を検出する装置であって、前記固定体に設けられた検出用固定電極と、前記ステージに設けられた検出用移動電極とを有して構成された、前記ステージの移動にともなって各電極間の電気容量が変動する検出用コンデンサ部と、前記固定体に設けられた参照用固定電極と、前記ステージに設けられた参照用移動電極と、を有して構成された、前記ステージの移動の最中における各電極間の電気容量が略一定とされた参照用コンデンサ部と、前記検出用コンデンサ部および前記参照用コンデンサ部の双方に電圧を印加する電源と、を備え、前記参照用コンデンサ部の電気容量の変動に応じて、前記電源から印加する前記電圧を制御することを特徴とする、ステージの位置変動検出装置を提供する。 （もっと読む）