【課題】さまざまなタイプのモータを同一の可動物体の作動のために使用でき、かつそのようなモータの使用による望ましくない効果を回避するアクチュエータ構成および制御を提供する。
【解決手段】少なくとも１つのリラクタンスモータを介して所定の自由度で変位可能な位置決め装置を制御する制御システムが、少なくとも１つの力感知素子と、リラクタンスモータによって加えられた力の量を感知する対応する力感知素子からの出力に基づいて、リラクタンスモータによって加えられた力の量を調整するコントローラとを含む。 （もっと読む）

【課題】オブジェクトの本体の剛性の増加及び／又は制振によって可撓性及びその結果としての内部変形を低減する。
【解決手段】 本体を有する可動オブジェクトを位置決めする位置決めシステムであって、位置決めシステムが、オブジェクト位置測定システムと、オブジェクトアクチュエータと、オブジェクトコントローラとを含み、位置決めシステムが、オブジェクトの本体内の剛性を増加させ、及び／又は相対運動を制振するスティフナーをさらに含み、スティフナーが、各々が本体の内部歪み又は相対変位を表す測定信号を決定するように配置された１つ又は複数のセンサと、各々が本体の一部に作動力を加えるように配置された１つ又は複数のアクチュエータと、センサのうちの少なくとも１つのセンサの測定信号に基づいて、アクチュエータの少なくとも１つに作動信号を提供して本体内の剛性を増加させ、及び／又は運動を制振するように構成された少なくとも１つのコントローラとを含む位置決めシステム。 （もっと読む）

【課題】ウエハのエッジ部まで精度よく露光する。
【解決手段】フォーカス測定光ＥＬを照射するショット領域Ｓが、ウエハ６のエッジ付近の予め定められた領域にかからないショット領域Ｓである場合には、所定数のスリット状領域ＳＬおきに露光面の高さを測定し、ウエハ６のエッジ付近の予め定められた領域にかかるショット領域Ｓである場合には、ウエハ６のエッジ付近の予め定められた領域にかからないショット領域Ｓに比べて、多くのスリット状領域ＳＬの露光面の高さを測定する走査型露光装置。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内でパターン付けされた基板のパラメータを測定する高速メトロロジーツールを提供する。
【解決手段】メトロロジーツールは、リソグラフィ装置内でパターン付けされた基板９のパラメータを測定するように構成されている。メトロロジーツールは、ベースフレーム５と、基板を保持するように構成された基板テーブル６と、基板のパラメータを測定するように構成された少なくとも１つのセンサと、基板テーブルおよびセンサのどちらか一方を他方に対して、少なくとも第１方向において変位させるための変位システム２５と、第１バランスマスと、基板テーブルおよびセンサのどちらか一方の第１方向における変位を相殺するため、第１方向の反対方向へ実質的に自由に移動するように第１バランスマス２０を移動可能に支持する第１ベアリング２１と、を備える。 （もっと読む）

【目的】振動の発生を抑制したステージ駆動装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のステージ駆動装置１０６は、上面と裏面に移動距離以上の範囲で平行な平面部を有し、基板を配置するＸＹステージ１０５に接続され、長手方向に移動することで当該方向にステージを移動させるレール状部材２０と、レール状部材２０における上面側の平面部に円形の外周面で接触し、接触した状態で回転することでレール状部材を長手方向に移動させる駆動側回転軸１０と、駆動側回転軸１０を支持する軸受３０と、駆動側回転軸１０の下部に配置され、駆動側回転軸１０の外周面のうちレール状部材２０と接触する部分よりも軸受３０側に位置する部分に円形の外周面で接触し、駆動側回転軸１０の回転により回転させられる軸受４０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 レチクルのような板部材を強固に保持すると共に、板部材の上面、下面又は板部材を保持する部材に異物が付着していても板部材を歪ませることのないステージ装置を提供する。
【解決手段】 ステージ装置は、ステージと、前記ステージに設けられていて、前記板部材の下面に当接して前記板部材の面に垂直な方向における前記板部材を位置決めする第１位置決め部材と、前記ステージに設けられていて、前記板部材の上面に当接して前記第１位置決め部材と共に前記板部材の面に垂直な方向における前記板部材を位置決めする第２位置決め部材と、前記第１位置決め部材の周囲に第１密閉空間を形成する弾性を有する第１密閉部材と、前記第２位置決め部材の周囲に第２密閉空間を形成する弾性を有する第２密閉部材と、前記第１密閉空間と前記第２密閉空間とに前記板部材を真空吸着させるように、前記第１密閉空間及び前記第２密閉空間から空気をそれぞれ吸引する第１吸引機構及び第２吸引機構と、を備える。 （もっと読む）

【課題】走査露光処理を中断させることなく、基板上のショット領域において、両スキャン方向の同期精度を算出する。
【解決手段】原版を保持するレチクルステージと、基板を保持するウエハステージとを所定の走査方向に同期移動させて、基板に定義される配列を構成する複数の領域を露光する露光処理方法であって、複数の領域において露光処理を通して取得する装置情報を抽出する抽出工程Ｓ１と、走査方向が第１の走査方向で同期移動された領域における装置情報に基づいて、第２の走査方向で同期移動された領域における装置情報を補間するための補間値を算出する算出工程Ｓ４、Ｓ５とを有する。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージと光学系ユニットとの角度ずれを抑制することができる露光装置を提供する。
【解決手段】ウエハが載置されるウエハステージ１６と、フォトマスクのパターンをウエハステージ１６上のウエハに投影する光学系ユニット１８と、ウエハステージ１６と光学系ユニット１８を支持するフレーム２０と、流体供給手段３５を有する露光装置１０。フレーム２０は、ウエハステージ１６を支持するウエハステージ支持部２２と、ウエハステージ１６の上方で光学系ユニット１８を支持する光学系ユニット支持部２４と、ウエハステージ支持部２２と光学系ユニット支持部２４とを接続する複数の第１柱状部２８ａ〜３０ａを有している。各第１柱状部２８ａ〜３０ａの内部には、第１柱状部２８ａ〜３０ａに沿って伸びる第１流路４０〜４２が形成されている。流体供給手段３５は、各第１流路４０〜４２内に流体を流通させる。 （もっと読む）

【課題】レチクルを交換する時間を削減しつつ、露光処理を精度良く行うための計測、補正時間をも削減する露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】原版３を載置及び保持する原版ステージ４と、基板６を載置及び保持する少なくとも２つの基板ステージ７、８とを有し、原版３のパターンを基板６に対して多重露光する露光装置１であって、更に、原版ステージ４及び各基板ステージ７、８の動作と、露光処理を制御する制御部９を有し、制御部９は、第１の原版のパターンを、露光処理部に位置する第１の基板ステージ７に載置された第１の基板に対して投影転写させ、次に、各基板ステージ７、８を移動させて基板６を交換し、第１の原版のパターンを、第２の基板ステージ８に載置された第２の基板に対して投影転写させ、更に、投影転写に使用する原版３を、第１の原版から第２の原版へと交換した場合は、原版３の交換前後で同一の基板ステージに載置された同一の基板６に対して投影転写させる。 （もっと読む）

【課題】スループットの増加が可能なインプリントリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】インプリントリソグラフィ装置が開示される。この装置は、インプリントテンプレートアレンジメントを移動させるように構成された電磁ローレンツアクチュエータを含み、電磁ローレンツアクチュエータは、磁石アレイおよび導体アレイを含み、各導体は電流を搬送するように構成され、磁石アレイまたは導体アレイのうちの一方は、移動可能であり、かつインプリントテンプレートアレンジメントに接続され、磁石アレイまたは導体アレイのうちの他方は、少なくとも部分的に基板ホルダの周りに延在するか、または基板ホルダの一部を形成し、磁石アレイと導体アレイとは、合わせて、磁石アレイまたは導体アレイのうち移動可能な一方の６自由度方向の移動であって、インプリントテンプレートアレンジメントもまた６自由度方向に移動可能とする移動を容易にする。 （もっと読む）

【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 移動体ＲＳＴのＹ軸方向の位置情報を、干渉計１６ｙと、該干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダ（（２４Ａ，２６Ａ₁）、（２４Ｂ，２６Ｂ₁））とを用いて計測し、その計測結果に基づいてエンコーダの計測値を補正する補正情報を取得するための所定の較正動作を実行する。これにより、干渉計の計測値を用いて、その干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダの計測値を補正する補正情報が取得される。そして、エンコーダの計測値と前記補正情報とに基づいて、移動体をＹ軸方向に精度良く駆動する。 （もっと読む）

【課題】テーブルが軽量化及び小型化され、テーブルの緊急停止時に、位置制御や速度制御などの制御駆動機能に依存せずに、強い制動力を有する位置決め装置を提供する。
【解決手段】定盤２上の駆動領域内でテーブル１を駆動するモータ１２と、テーブル１の位置を検出する位置検出器３と、モータ１２を制御する制御部３０とを備え、テーブル１を位置決めする位置決め装置であって、制御部３０は、位置検出器３の出力に基づいて、テーブル１の位置を制御するための電流を出力する第１出力部７、８ａ、８ｄと、駆動領域の中心に向かう推力をテーブル１に付与するための電流を出力する第２出力部１６ａ、１６ｄと、テーブル１を停止させるための停止信号に基づいて、第１出力部７、８ａ、８ｄの出力に応じてモータ１２が制御される状態から、第２出力部１６ａ、１６ｄの出力に応じてモータ１２が制御される状態に切り替える切替部１０ａ、１０ｄとを備える。 （もっと読む）

【課題】光でより微細パターンを露光する時、焦点深度が浅くなってくるので、従来からホトレジスト上に、焦点位置を深さ方向に移動しながら多重露光する方法があった。しかしホトレジスト側を上下に移動し露光する方法では液浸露光時、露光光学系に振動を伝えやすかった。又露光効率の低下すなわちスループットの低下につながった。
【解決手段】従来技術である焦点位置を深さ方向に移動さすために、レチクルを振動させ、第１露光光学系面との間に、第１露光光学系面を節となる定常波を発生させ、第1露光光学系面には音圧が負荷されず、レチクルの振動が露光光学系に伝わらない様にした。 （もっと読む）

【課題】移動体の位置情報を高精度で計測する。
【解決手段】 露光ステーション２００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ１の位置情報は、計測アーム７１Ａを含む第１の微動ステージ位置計測系により計測され、計測ステーション３００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ２の位置情報は、計測アーム７１Ｂを含む第２の微動ステージ位置計測系により計測される。露光装置１００は、ステージＷＦＳ２が計測ステーション３００から露光ステーション２００へ搬送される際、このステージＷＦＳ２の位置情報を計測可能な第３の微動ステージ計測系を有する。第３の微動ステージ計測系は、複数のＹヘッド９６，９７を含むエンコーダシステムとレーザ干渉計７６ａ〜７６ｄを含むレーザ干渉計システムとを含む。 （もっと読む）

【課題】露光不良を抑制できる、ステージ装置、露光装置、クリーニング方法及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】
基板ステージ２の基板保持部５（上面５ａ、表面Ｐ１ａおよび先端部Ｐ１ｂ）に、フィルム部材７が配置してある。フィルム部材７は、上面５ａ、表面Ｐ１ａおよび先端部Ｐ１ｂから着脱することが可能である。 （もっと読む）

【課題】電解強度の高いピークが発生することを抑制するコイルを提供する。
【解決手段】位置決めデバイスは、固定子及びトランスレータを有するプレーナモータを含み、固定子及びトランスレータの一方は周期的磁石構造を含み、固定子及びトランスレータの他方は、電流を伝えるように適応した少なくとも１つのコイルを含み、コイルは、シート状導電性材料の巻付ストリップを含み、コイルの縁部は丸い輪郭を備える。 （もっと読む）

【課題】微動ステージの走査方向の微小駆動のモータ容量の低減を図り、微動ステージ部および粗動ステージの小型軽量化とともに、粗動ステージと微動ステージの磁気浮上により非接触支持を実現し、ステージの高速化、高精度な６自由度制御を可能にするステージ装置を提供する。
【解決手段】粗・微動構成のステージにおいて、微動ステージ５（図１、図２、図４、図５）側にも粗動駆動の機能を付加すべく微動ステージの微動水平２軸に粗動の１軸を加えて３軸とし、粗動ステージ４（図１、図２、図４、図６）に同期して走査（Ｙ軸）方向の粗動駆動を行わせべく粗動ステージの走査軸と微動ステージの粗動１軸とを同期走査させる構成とした。 （もっと読む）

【課題】エンコーダタイプの位置測定システムのグリッドプレート内の欠陥を判定する。
【解決手段】別のオブジェクトに対する可動オブジェクトの位置を測定するエンコーダタイプの位置測定システムを提供するステップであって、前記エンコーダタイプの位置測定システムが、グリッドプレートとエンコーダヘッドとを含むステップと、２つ以上の検出器の各々に反射した光の量を測定するステップと、２つ以上の検出器に反射した放射ビームの結合放射ビーム強度を用いて測定位置でのグリッドプレートの反射率を表す反射率信号を決定するステップと、グリッドプレートの反射率信号に基づいて測定位置の欠陥の存在を判定するステップとを含む方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】コイルに流れる電流の遅れに起因して生じる、駆動すべき方向とは異なる方向への力を低減させる。
【解決手段】コイル４、及び複数の永久磁石を有するリニアモータと、コイル４に電流を供給する電流ドライバ９と、該電流ドライバ９への指令を生成する制御手段７とを備えたステージ装置であって、制御手段７は、コイル４と永久磁石との相対位置に基づいて算出した電気角を用いた正弦波を、リニアモータへの推力指令値に乗ずるコミュテーション処理により指令を生成し、更に、指令に対して、推力指令値に比例した振幅を持ち、かつ、正弦波と９０度に位相がずれた正弦波の成分を含ませる。 （もっと読む）

【課題】マスクの変形を抑制し、露光精度の低下を防止することができる露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】マスクを介して基板に露光光を照射して前記基板の露光処理を行う露光装置であって、前記マスクの冷却に用いる液体を当該マスクに付着させる液体供給装置を備える。 （もっと読む）