【課題】原版を迅速に、かつ安全に搬送するのに有利な搬送システムを提供する。
【解決手段】この搬送システム１は、原版３に形成されたパターンを基板に露光する少なくとも１つの露光装置２と、原版３を保持し露光装置２に搬送する搬送車４と、該搬送車４が走行する走行路５とを有する。このとき、露光装置２が敷設される面から、露光装置２に設置された原版３を搬入する搬入口９までの高さが、搬送車４が走行する面から、搬送車４が原版３を保持して走行する際の原版３の保持位置までの高さよりも高く、搬送車４の保持位置と、露光装置２が搬入口９から原版３を受け取る位置とが一致する。 （もっと読む）

【課題】搬送アームへの塗布膜の付着を抑制しつつ、基板を適切に処理する。
【解決手段】塗布現像処理システム１は、ウェハＷの中心位置を調節する位置調節装置４２と、ウェハＷ上にポリイミド溶液を塗布する塗布処理装置と、ウェハＷを搬送するウェハ搬送装置８０と、を有している。ウェハ搬送装置８０は、ウェハＷの径より大きい曲率半径でウェハＷの周縁部に沿って湾曲するアーム部と、アーム部から内側に突出し、ウェハＷの裏面を保持する保持部と、を備える。位置調節装置４２は、ウェハＷの裏面の中心部を保持するチャックと、チャックに保持されたウェハＷの中心位置を検出する位置検出部と、チャックを移動させる移動機構と、位置検出部による検出結果に基づいて、チャックに保持されたウェハＷの中心位置がアーム部の中心位置に合致するように移動機構を制御する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】動作回数を重ねても、機構部の軸動作のズレが累積することを抑制できる基板処理技術を提供する。
【解決手段】基板処理レシピ記憶部と、当該基板処理装置を構成する機構部の原点出しを行うイニシャルレシピ記憶部と、イニシャル処理を行う基準回数を記憶するイニシャル基準記憶部と、実行済みの基板処理回数記憶部と、基板処理レシピを実行する基板処理実行部と、イニシャルレシピを実行するイニシャル処理実行部と、基板処理回数を更新する処理回数更新部と、基板処理回数記憶部に記憶した基板処理回数が、イニシャル基準記憶部に記憶した基準回数に達したか否かを判定する処理終了判定部と、イニシャル処理可能状態であるか否かを判定するイニシャル可否判定部とを備え、基板処理回数が前記基準回数に達すると当該基板処理装置における新たな基板処理開始を保留し、イニシャル処理可能状態になるとイニシャルレシピを実行するよう基板処理装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】昇降ピン及び昇降ピンの昇降機構無しでローラコンベア上の基板を直交する方向から搬送アームのフォークを挿入して、搬送アームに受け渡す基板受渡装置（方法）を提供する。
【解決手段】基板Ｇを水平方向に搬送可能なローラコンベアＲＣ１と、基板を水平、鉛直方向及び鉛直軸回りに回転自在に移動可能なフォーク１０１を有する搬送アーム１１０と、を具備し、ローラコンベアは、駆動シャフト５５に適宜間隔を置いて駆動ローラ５６を装着した駆動ローラ列と、フリーローラシャフト５７に適宜間隔を置いてフリーローラ５９を回転自在に装着したフリーローラ列を並列に配列し、フリーローラ列を隣接する駆動ローラ列側へ移動して、駆動ローラ列とフリーローラ列の間に空間Ｉを形成するフリーローラ駆動用シリンダ６５を具備する。空間に搬送アームのフォークを搬送方向と直交する方向から挿入して、第１ローラコンベア上の基板を搬送アームに受け渡す。 （もっと読む）

【課題】装置コストを大幅に抑制することができる露光装置、露光方法及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】スキャン露光装置１は、基板ＷをＸ方向に搬送する基板搬送機構１０と、マスクＭをそれぞれ保持し、Ｙ方向に沿って配置される複数のマスク保持部１１と、露光用光を照射する照射部１４と、各マスク保持部１１の下面と対向可能なマスクトレー部３３を有するマスクチェンジャー２と、を備える。マスクチェンジャー２は、マスクトレー部３３に載置されるマスクＭを、Ｘ方向及びＺ方向回りのθ方向に駆動可能な駆動機構３５Ａ、３５Ｂを備える。 （もっと読む）

【課題】平流し搬送される被処理基板に対し所定の処理を施す基板処理装置において、前記基板の被処理面に対し均一な処理を施す。
【解決手段】基板搬送路３に沿って被処理基板Ｇを平流し搬送する基板搬送手段６と、前記基板搬送路の途中に設けられ、前記基板搬送手段により搬送される被処理基板に所定の処理を施す基板処理部１５と、前記基板搬送路の幅方向に延設された短冊状のダミー基板８，９と、前記ダミー基板を前記被処理基板と同じ高さで基板搬送方向に沿って移動させるダミー基板移動手段１０，１１と、前記ダミー基板移動手段の制御を行う制御手段５０とを備え、前記制御手段は、前記基板処理部において搬送される前記被処理基板に所定の処理が施される際、前記被処理基板に前記ダミー基板を近接させた状態で、前記ダミー基板移動手段により前記ダミー基板と前記被処理基板とを同期して移動させる。 （もっと読む）

【課題】被処理基板に処理を行う基板処理装置において、基板全面に均一に基板処理を行うことができる基板処理装置及びその基板処理装置における基板処理方法を提供する。
【解決手段】搬送路３４の途中に設けられたステージ面１５２を有し、被処理基板Ｇをステージ面１５２の上に載置する載置ステージ１５０と、ステージ面１５２の下方で搬送路３４を横切る方向に延びる軸１５６に沿って回転可能に設けられ、ステージ面１５２より上方に突出可能な半径を有する回転体の一部を軸１５６に沿って切り落とした形状に形成され、それぞれ第１及び第２の回転角度位置にあるときにステージ面１５２と略平行な面を形成する第１及び第２の弦部１６４、１７４を備えた第１及び第２の回転体１６０、１７０を有する。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバのシール性能が改善されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】装置は、第１本体と、第１本体に対して移動可能である第２本体と、第１本体、第２本体、およびシールによって第２空間から第１空間が分離されるように第１本体と第２本体の間に配置されるシールであって、第１本体からある距離に位置するシールと、第１本体とシールの間に流体流を作り出し、第１空間と第２空間の間に非接触シールを生成して第１本体と第２本体の間の移動を可能にするように配置された流体供給源と、第１本体と第２本体の互いに対する移動の間、距離を制御するように構成されたコントローラと、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板搬送のスループットを低コストで向上させることができる基板搬送装置を提供することを課題とする。
【解決手段】ステージとハンドが、いずれも駆動範囲内において非干渉となる位置の条件を定める駆動プロファイルを決定する決定手段と、駆動中のステージとハンドの位置情報を取得する取得手段と、前記取得された位置情報に基づいてステージとハンドの駆動を制御する制御手段とを備え、前記制御手段は、前記ステージとハンドとが、前記駆動プロファイルにより定められた非干渉の位置にあるときに、少なくとも、基板の保持手段又は前記ハンドが基板の供給又は回収をするときに基板を支持する支持手段のいずれか一方を駆動させることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、搬送装置のメンテナンス作業を効率よく行うことができる搬送装置のメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】 マスクケース搬送装置（２９）のメンテナンス方法は、ＣＺ軸駆動部（２６）によってケース保持部（２３）を上下方向の第１位置に配置する工程（Ｓ１０２）と、最上段、最下段および中央段に設けられた複数のＣＺ軸駆動部２６のカバー部材のうち第１位置に配置されたケース保持部と異なる高さに位置するカバー部材を取り外す第１取り外し作業を行う工程（Ｓ１０６）と、第１取り外し作業後に取り外されていない複数の前記カバー部材のうち第１位置に配置されたケース保持部と異なる高さに位置するカバー部材を取り外す第２取り外し作業を行う工程（Ｓ１０７）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】マスクブランクを大気に曝すことなく描画から熱処理までを行うことができるフォトマスクの製造装置を提供する。
【解決手段】描画手段１００の真空状態にある描画チャンバ１００ａ内でフォトレジスト塗布後のマスクブランク上にパターン像を描画する。描画後のマスクブランクを真空状態に保持された真空搬送路１０５内を通して熱処理手段１１０の真空状態にある熱処理チャンバ１１０ａ内に搬送する。そして、熱処理チャンバ１１０ａ内に搬送された描画後のフォトレジストを加熱しベーキングする。これにより素子精度・安定性およびパターン荒さを向上させ、抜け不良を低減させ、孤立スペースパターンの解像度を向上させる。 （もっと読む）

【課題】不良デバイスの発生を抑制でき、デバイスの生産性の低下を抑制できる基板処理方法を提供する。
【解決手段】保持部に搬送された基板に対して第１手順に対応した第１処理を実行する基板処理方法は、保持部に搬送された基板の歪みに関する情報を検出することと、歪みに関する情報に基づいて、基板に対して第１処理と異なる第２処理の要否を判断することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】大型のマスクの交換を効率良く実施し、かつ、次の露光処理に使用されるマスクに対する異物の付着を防止することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】複数の原版Ｍ、ＭＰを保管するストッカと、原版Ｍを原版ステージ３に向けて搬送する搬送路７とを有し、原版ステージ３に載置する原版Ｍを交換するための原版交換装置６を備える露光装置１であって、搬送路７は、原版ステージ３上に向けて設置された直線路であり、原版交換装置６は、搬送路７に吊設された、原版Ｍを保持するハンド１１を有する台車９と、搬送路７の直下に設置された待機室８とを備え、第１の原版Ｍを使用した第１回目の露光処理の間に、第２回目の露光処理で使用される第２の原版ＭＰを、予めストッカから待機室８に搬送し、待機室８で待機させる。 （もっと読む）

【課題】載置ずれや変形を生じさせることなく基板をの受け渡すことができる基板保持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法を提供するしを行うこと。
【解決手段】基板を保持する基板保持装置９は、基板が載置される複数の基板載置部３１と、複数の基板載置部３１を区画する凹部３０と、凹部３０と載置部３１の背部空間とを連通させる複数の連通孔４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高スループット化と証フットプリント化の相反する条件の両立を実現することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】搬送室１２を中心としてロードロック室１４ａと少なくとも二つの処理室１６ａが配置されている基板処理装置であって、搬送室はロードロック室と処理室間で基板を搬送する基板搬送部を有し、基板搬送部は、第一のフィンガ及び第二のフィンガが設けられた第一のアームを有し、それぞれのフィンガの先端は水平方向であって同じ方向に延伸されるよう構成され、処理室は、第一の処理部３６と第二の処理部３８とを有し、第二の処理部は、搬送室から第一の処理部を挟んで遠方に配置される。 （もっと読む）

【課題】移動体が自重支持部材相互間で受け渡される際に、その自重に起因する歪みを抑制すること。
【解決手段】
第１自重キャンセラ装置７０は、定盤５１上でプレートテーブルＴＢａの自重を支持するとともに、定盤５１上を２次元移動可能に設けられている。また、第２自重キャンセラ装置３０は、定盤５１とは床面Ｆ上でプレートテーブルＴＢａの自重を支持する。第１及び第２自重キャンセラ装置相互間でプレートテーブルＴＢａを受け渡す際には、第１及び第２自重キャンセラ装置３０，７０相互間の間隔を一時的にプレートテーブルＴＢａの寸法より小さくした状態でプレートテーブルＴＢａを駆動する。 （もっと読む）

【課題】
スループットを向上させた処理装置を提供する。
【課題手段】
本発明の露光装置は、ウエハ９を保持するウエハチャック８とウエハチャック８に対して相対的に上昇してウエハ９を保持する昇降部とを含むＸＹステージ６と、ＸＹステージ６からウエハ９の回収をウエハ回収位置１８で行うウエハ搬送ロボットハンド１４とを有し、ＸＹステージ６に保持されたウエハ９に対して処理を行う処理装置であって、ＸＹステージ６は、ウエハチャック８に対して昇降部が相対的に上昇した状態で、ウエハ回収位置１８を介して３０度以上１２０度未満の角度で方向が変化して移動し、ウエハ搬送ロボットハンド１４は、前記角度で方向が変化して移動するＸＹステージ６とウエハ回収位置１８に移動して配置されたウエハ搬送ロボットハンド１４とが干渉しない形状を有する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光を射出する光学部材と、光学部材から射出される露光光の光路を含む、実質的に閉ざされた空間と、基板をリリース可能に保持するとともに、空間内で移動可能な基板保持部材と、空間に面する開口と、開口を介して空間に進入可能であり、基板保持部材への基板の供給動作及び基板保持部材からの基板の回収動作の少なくとも一方を実行可能な搬送部材と、開口を閉鎖可能な第１カバー部材と、を備え、搬送部材の少なくとも一部が開口を介して空間内に進入している状態で、第１カバー部材によって開口が閉じられる。 （もっと読む）

【課題】ノズルの稼働率を向上させて処理ユニットのスループットを向上させる。
【解決手段】現像処理ユニット１においては、ノズル２１を共用する複数個の現像処理セット１０のそれぞれにおいて１枚の基板Ｗに対する現像処理が行われる。進入領域Ｋ（現像処理ユニット１に対する基板Ｗの搬出入を行う搬送機構のハンドが現像処理ユニット１内に進入する領域）の上方には、現像処理セット１０間にわたって移動経路Ｌ２１が形成されている。制御部９１は、移動経路Ｌ２１に沿ってノズル２１を移動させることによって、ノズル２１を現像処理セット１０の間で移動させる。この構成によると、搬送機構が現像処理ユニット１に対する基板の搬出入を行っている間であってもそのハンドとの干渉を考慮せずにノズル２１を現像処理セット１０間で自由に移動させることができるので、ノズルの稼働率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスク等の基板をクリーンルーム内で搬送する際に生じるパーティクル問題発生の危険性をより低減するための搬送装置を提供する。
【解決手段】クリーンルーム内において、精密材料または該精密材料が格納された容器を保持・搬送する搬送装置であって、該搬送装置は、少なくとも、前記精密材料または前記容器を保持するための保持機構と、前記精密材料または前記容器を保持する接触部で発生するパーティクルを吸引除去するための吸気装置とを具備するものであることを特徴とする搬送装置。 （もっと読む）